Four tubulaire
Four Zone 1200C Multi Zone Split Tube Furnace with Independent Digital Temperature Controllers for One or Two Inch Processing Tubes
Numéro d'article: TU-44
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Aperçu du produit
Ce système de chauffage multi-zones de précision offre des capacités de traitement thermique sophistiquées pour la science des matériaux avancée et la recherche et développement industriels. Conçu comme un four à tube fendu à quatre zones, l'équipement permet de créer des gradients thermiques précis par paliers ou des zones de température uniforme exceptionnellement longues en ajustant indépendamment la puissance thermique de quatre segments distincts de 100 mm. La console de contrôle de température séparée garantit que les composants électroniques sont protégés de la chaleur rayonnante, améliorant la fiabilité à long terme et la stabilité opérationnelle de l'ensemble du système lors de cycles à haute température jusqu'à 1200°C.
Idéal pour le Transport en Phase Vapeur (VPT), le Dépôt Chimique en Phase Vapeur (CVD) et le Transport Physique en Phase Vapeur (PVT), cette unité offre aux chercheurs la flexibilité d'accueillir des tubes de traitement d'un ou deux pouces de diamètre extérieur. Sa conception à charnière fendue facilite le chargement/déchargement des échantillons et permet un refroidissement rapide, essentiel pour certains procédés métallurgiques et de croissance de couches minces. En intégrant une isolation en fibre d'alumine de haute pureté et des éléments chauffants avancés, le système atteint une efficacité énergétique remarquable tout en maintenant une température de surface extérieure froide pour la sécurité de l'opérateur.
Conçu pour des environnements de laboratoire exigeants, l'équipement met l'accent sur la cohérence et la reproductibilité. Chacune des quatre zones est régie par son propre contrôleur numérique dédié, permettant des profils de température complexes essentiels pour la croissance de cristaux de haute qualité et la synthèse de nouveaux matériaux. Qu'il soit utilisé en configuration horizontale pour un traitement standard ou monté verticalement pour des applications spécialisées, l'unité offre la robustesse et la précision requises pour la recherche industrielle critique et la caractérisation de matériaux à enjeux élevés.
Caractéristiques principales
- Chauffage à Quatre Zones Contrôlé Indépendamment : Le système comporte quatre zones de chauffage séparées de 100 mm, chacune équipée de son propre contrôleur PID dédié. Cette architecture permet aux utilisateurs d'établir des gradients de température spécifiques ou d'étendre la zone à température constante jusqu'à 250 mm avec une précision de ±1°C.
- Isolation Thermique et Conception du Boîtier Avancées : Un boîtier en acier à double paroi intégrant une technologie de refroidissement par air maintient la température de surface extérieure en dessous de 60°C. La chambre interne utilise une isolation en fibre d'alumine de haute pureté et économe en énergie qui minimise les pertes de chaleur et améliore les temps de réponse en température.
- Éléments Chauffants en Alliage Haute Performance : Équipé d'éléments en alliage Fe-Cr-Al de qualité 1300°C dopé au Molybdène, le four assure une longue durée de vie et peut atteindre des températures de pointe de 1200°C avec des taux de chauffage rapides allant jusqu'à 20°C par minute.
- Contrôleurs Numériques PID de Précision : La console de contrôle comprend quatre unités numériques individuelles avec contrôle automatique PID pour le chauffage, le refroidissement et les temps de maintien. Chaque contrôleur prend en charge jusqu'à 30 segments programmables, offrant un contrôle granulaire sur des séquences thermiques complexes.
- Architecture de Four Fendu : La conception à charnière fendue permet l'ouverture rapide du four, ce qui est crucial pour les configurations expérimentales nécessitant un accès rapide au tube de traitement ou pour accélérer les taux de refroidissement afin de tremper les matériaux après un traitement à haute température.
- Configurations de Montage Polyvalentes : Le module de chauffage est conçu pour la flexibilité, pouvant être positionné horizontalement ou verticalement selon les exigences expérimentales spécifiques, telles que la croissance de cristaux par méthode Bridgman verticale ou les procédés CVD horizontaux.
- Sécurité et Surveillance Intégrées : Une protection intégrée contre la surchauffe et les thermocouples cassés garantit que le système s'arrête en toute sécurité en cas de défaut, protégeant à la fois l'équipement et les échantillons sensibles dans le tube de traitement.
- Interfaces de Communication Évolutives : Des ports de communication RS485 standard permettent une intégration potentielle avec un logiciel PC externe pour la surveillance à distance, l'enregistrement des données et la synchronisation de programmes complexes sur toutes les zones de chauffage.
Applications
| Application | Description | Avantage Clé |
|---|---|---|
| CVD / PECVD | Dépôt Chimique en Phase Vapeur de couches minces et de nanomatériaux où des températures précises d'évaporation et de dépôt des précurseurs sont requises. | Des gradients thermiques précis assurent une cinétique de réaction optimale et une uniformité des films. |
| Transport Physique en Phase Vapeur | Récolte de cristaux synthétiques en vaporisant un matériau source à haute température et en le déposant dans une zone plus froide. | Quatre zones indépendantes permettent la différence de température exacte nécessaire à la croissance de cristaux de haute pureté. |
| Traitement de Recuit | Traitement thermique contrôlé d'échantillons métalliques et céramiques pour soulager les contraintes internes et modifier les propriétés mécaniques. | La conception fendue permet des vitesses de refroidissement contrôlées pour obtenir des microstructures matérielles spécifiques. |
| Dopage des Semi-conducteurs | Diffusion à haute température de dopants dans des plaquettes ou substrats semi-conducteurs à l'aide de précurseurs gazeux. | Des longueurs de zone à température uniforme constante allant jusqu'à 250 mm assurent l'homogénéité des lots. |
| Calcination & Frittage | Traitement thermique de matériaux catalytiques ou de poudres céramiques à des températures allant jusqu'à 1100°C. | Le contrôle numérique assure des cycles thermiques reproductibles pour une qualité de lot de matériaux constante. |
| Traitement Thermique sous Vide | Traitement de matériaux sensibles sous vide élevé ou atmosphères inertes pour éviter l'oxydation. | Des brides à vide spécialisées et des blocs thermiques permettent un fonctionnement sécurisé jusqu'à 10-5 torr. |
| Croissance de Cristaux (Bridgman) | Utilisation d'une orientation verticale pour déplacer lentement les matériaux à travers un gradient de température pour la formation de monocristaux. | Les zones de chauffage modulaires fournissent la stabilité de gradient nécessaire pour un contrôle constant des joints de grains. |
Spécifications Techniques
| Paramètre | Spécification pour TU-44 |
|---|---|
| Numéro de Modèle | TU-44 |
| Structure du Four | Boîtier en acier double paroi avec refroidissement par air ; Isolation en fibre d'alumine de haute pureté |
| Température de Travail Max. | 1200ºC (< 1 Heure, sans vide) |
| Température Continue | 1100ºC |
| Taux de Chauffage Max. | ≤ 20ºC / min |
| Élément Chauffant | Alliage Fe-Cr-Al de qualité 1300ºC dopé au Mo |
| Longueur Totale de la Chambre de Chauffage | 400 mm |
| Configuration des Zones de Chauffage | Quatre (4) zones indépendantes, 100 mm chacune |
| Longueur de la Zone à Température Constante | Max 250 mm (± 1°C) si les 4 zones sont à la même température |
| Diff. de Température Max. entre Zones | 200°C entre zones adjacentes |
| Précision de Température | ± 1 ºC |
| Contrôleurs de Température | 4 jeux de contrôleurs numériques PID ; 30 segments programmables |
| Type de Thermocouple | Quatre thermocouples de type K (un par zone) |
| Tension & Puissance | AC 110V Monophasé, 50/60 Hz, 30 A (3 KW Max) |
| Note Électrique Externe | Utiliser un transformateur 5000W pour 208-240V ; Ne jamais utiliser une prise murale NEMA 5-15/20R |
| Diamètre du Tube de Traitement | Accepte des tubes de 1” ou 2” de diamètre extérieur (longueur min. 1000mm) |
| Niveau de Vide Max. | ≤ 1000°C pour utilisation sous vide ; < 0,2 bar pour gaz basse pression |
| Certifications | Certifié CE (NRTL ou CSA disponible sur demande) |
| Communication | Port RS485 standard (Logiciel de contrôle à distance en option) |
Pourquoi Nous Choisir
- Flexibilité Thermique Supérieure : L'architecture à quatre zones offre un niveau de contrôle du gradient impossible avec les systèmes à zone unique, ce qui en fait le choix privilégié pour la synthèse en phase vapeur complexe et la croissance de cristaux de haute pureté.
- Architecture de Contrôle Séparable : En isolant l'électronique de contrôle dans une console séparée, nous empêchons la dérive thermique des composants électroniques et prolongeons la durée de vie des contrôleurs PID, garantissant des performances constantes sur des années d'utilisation industrielle.
- Ingénierie de Précision et Qualité de Construction : Des éléments chauffants dopés au Mo au boîtier double coque refroidi par air, chaque composant de cette unité est sélectionné pour sa durabilité dans des environnements de recherche et de production exigeants.
- Modulaire et Personnalisable : Le système peut être facilement adapté avec des brides à vide optionnelles, des jauges numériques et divers matériaux de tube, et est compatible avec des configurations expérimentales horizontales et verticales.
- Sécurité et Conformité : Avec une certification CE complète et des mécanismes de protection intégrés pour les thermocouples et les événements de surtempérature, cet équipement répond aux normes de sécurité rigoureuses requises par les laboratoires et les installations de fabrication modernes.
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