Four tubulaire
Four à tube en quartz double zone de 80 mm de diamètre, température maximale 1200°C, avec mélangeur de gaz 3 voies et système de pompe à vide
Numéro d'article: TU-42
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Aperçu du produit
Ce four à tube divisé double zone haute performance représente une solution polyvalente pour la recherche avancée en science des matériaux et le R&D industriel. En intégrant un système d'alimentation en gaz multivoies à des capacités de haut vide, ce système fournit un environnement contrôlé nécessaire pour la Dépôt Chimique en Phase Vapeur (CVD), le Transport Chimique en Phase Vapeur (CVT) et divers processus de recuit à haute température. L'équipement est conçu pour les chercheurs qui nécessitent un contrôle absolu des gradients thermiques et de la composition atmosphérique, garantissant des résultats reproductibles dans le développement de matériaux de nouvelle génération comme les dichalcogénures de métaux de transition et les semi-conducteurs en couches minces.
La valeur centrale de cette unité réside dans son architecture double zone, qui permet la création de gradients de température précis à travers un tube en quartz de haute pureté. Cette fonctionnalité est essentielle pour les processus où la sublimation des précurseurs et le dépôt sur substrat doivent se produire à des températures distinctes et contrôlées indépendamment. Les industries cibles incluent la fabrication de semi-conducteurs, la recherche en nanotechnologie et la métallurgie avancée. La conception du four divisé facilite un refroidissement rapide et un accès facile à la chambre de traitement, réduisant significativement les temps d'arrêt entre les séries d'expériences et augmentant le débit dans les environnements de laboratoire chargés.
La fiabilité est intégrée dans chaque composant de ce système de traitement thermique. Du boîtier en acier double couche avec refroidissement par ventilateur intégré aux régulateurs PID de précision, l'équipement est conçu pour résister à un fonctionnement continu dans des conditions exigeantes. L'inclusion d'un manomètre à vide anti-corrosion garantit que même lors de travaux avec des gaz agressifs, le système maintient une surveillance de pression précise sans dégradation du capteur. Cette unité offre les performances robustes et la conformité aux normes de sécurité requises pour les environnements de laboratoire modernes, donnant aux utilisateurs la confiance nécessaire pour exécuter des profils thermiques complexes avec une supervision minimale.
Caractéristiques principales
- Chauffage double zone indépendant : Le four comporte deux zones de chauffage séparées, chacune de 200 mm de longueur, offrant une zone de chauffe totale de 400 mm. Cela permet la création de gradients de température précis ou d'une grande zone à température constante allant jusqu'à 250 mm lorsque les deux zones sont synchronisées, offrant une flexibilité inégalée pour le Transport Chimique en Phase Vapeur (CVT).
- Contrôle de température PID de précision : Équipé de deux régulateurs PID avancés, le système propose 30 segments programmables pour une gestion méticuleuse des vitesses de chauffe, de refroidissement et des temps de maintien. La précision est maintenue à ±1°C, assurant une grande stabilité de processus pour la croissance de matériaux sensibles.
- Station de mélange de gaz 3 voies intégrée : Un système professionnel d'alimentation en gaz est inclus, comportant trois débitmètres indépendants et un réservoir de mélange. Cela permet le mélange précis de divers gaz de processus, autorisant des réactions CVD complexes et un contrôle atmosphérique au sein de la chambre de réaction en quartz.
- Intégration vide haute performance : Le système inclut une pompe à vide à palettes rotatives double étage robuste de 156 L/m, capable d'atteindre des niveaux de vide jusqu'à 10^-2 torr. Le système de vide est sécurisé par des brides et des vannes en acier inoxydable KF25 de haute qualité pour garantir une intégrité du vide à long terme et des taux de fuite inférieurs à 5 m-torr/min.
- Jauge de vide Pirani capacitif anti-corrosion : Contrairement aux jauges standard, cette unité utilise une jauge à membrane capacitive revêtue de céramique. Ce capteur spécialisé est conçu pour résister à la corrosion des précurseurs chimiques agressifs, fournissant des mesures de vide fiables de 10^-5 à 1000 torr dans des environnements de processus sévères.
- Sécurité et refroidissement avancés : Le boîtier en acier double couche intègre un système de refroidissement par air automatique. Des thermostats intégrés activent des ventilateurs internes si la température du boîtier dépasse 55°C, garantissant que l'extérieur reste sûr au toucher tout en protégeant les composants électroniques internes du stress thermique.
- Chambre de traitement en quartz haute pureté : Le système utilise un tube en quartz fondu haute pureté de 80 mm de diamètre extérieur. Ce matériau offre une exceptionnelle résistance aux chocs thermiques et une inertie chimique, fournissant un environnement transparent qui permet une surveillance visuelle des échantillons et des précurseurs pendant le traitement thermique.
- Automatisation et connectivité : Un port de communication RS485 intégré permet l'enregistrement de données externe. Le système est également compatible avec un logiciel basé sur LabView, permettant une opération à distance et une gestion de recettes via un PC pour des flux de travail de recherche hautement automatisés.
Applications
| Application | Description | Avantage clé |
|---|---|---|
| Croissance de graphène par CVD | Dépôt en phase vapeur d'atomes de carbone sur des feuilles métalliques sous atmosphères gazeuses contrôlées. | Le mélange de gaz haute pureté assure une croissance monocouche de haute qualité. |
| Synthèse de nanorubans de TMD | Contrôle précis de la pression de vapeur des chalcogènes pour la croissance des Dichalcogénures de Métaux de Transition. | Les zones indépendantes permettent des températures de sublimation et de dépôt séparées. |
| Transport Chimique en Phase Vapeur (CVT) | Création de gradients de température pour entraîner la migration de vapeur et la cristallisation de cristaux haute pureté. | Le contrôle double zone établit le gradient spécifique nécessaire à la croissance cristalline. |
| Recuit de semi-conducteurs | Traitement thermique de plaquettes de silicium ou de semi-conducteurs composés sous vide ou gaz inerte. | La jauge anti-corrosion permet l'utilisation de gaz de gravure ou de dopage agressifs. |
| Frittage de poudres | Consolidation à haute température de poudres céramiques ou métalliques dans une atmosphère contrôlée. | Les zones de température uniforme préviennent les contraintes thermiques et assurent une densité constante. |
| Recherche sur les matériaux 2D | Exploration du MoS2, WS2 et autres matériaux stratifiés via des méthodes en phase vapeur. | La conception du four divisé permet un refroidissement rapide pour tremper les phases de réaction. |
| Développement de phosphores | Synthèse de matériaux luminescents nécessitant des profils d'atmosphère et de température spécifiques. | La programmation précise à 30 segments reproduit des recettes industrielles complexes. |
Spécifications techniques
| Groupe de paramètres | Détail de la spécification | Valeur pour TU-42 |
|---|---|---|
| Construction générale | Matériau du boîtier | Acier double couche avec ventilateurs de refroidissement |
| Thermostat de sécurité | Ventilateurs de refroidissement activés à > 55°C de température du boîtier | |
| Conformité | Certifié CE ; composants prêts UL/CSA | |
| Alimentation & Électrique | Consommation électrique | 2.5 KW |
| Tension d'entrée | AC 208-240V Monophasé, 50/60 Hz | |
| Performances thermiques | Température maximale | 1200 °C |
| Température de travail continue | 1100 °C | |
| Vitesse de chauffe max | ≤ 20 °C/min (≤ 5 °C/min au-dessus de 1000°C) | |
| Précision de température | +/- 1°C | |
| Éléments chauffants | Alliage Fe-Cr-Al dopé au Mo | |
| Zones de chauffe | Longueur de la zone de chauffe | Deux Zones : 200 mm chacune ; 400 mm total |
| Zone à température constante (Double) | 250 mm à +/- 1°C (les deux zones synchronisées) | |
| Zone à température constante (Simple) | 110 mm à +/- 1°C (zone centrale uniquement) | |
| Tube de traitement | Matériau du tube | Quartz fondu haute pureté |
| Dimensions du tube | 80 mm DE x 72 mm DI x 1000 mm Longueur | |
| Système de contrôle | Type de contrôleur | Deux contrôleurs PID automatiques |
| Programmation | 30 segments (Chauffe, Refroidissement, Maintien) | |
| Protections | Protection contre la surchauffe et la rupture de thermocouple | |
| Communication | Port RS485 (compatible PC/LabView) | |
| Système de vide | Type de pompe à vide | Pompe à palettes rotatives double étage 156 L/m |
| Vide max (Mécanique) | 10^-2 torr | |
| Jauge de vide | Jauge à membrane capacitive anti-corrosion | |
| Plage de la jauge | 10^-5 à 1000 torr | |
| Brides d'étanchéité | Acier inoxydable KF25 avec doubles vannes | |
| Taux de fuite | < 5 m-torr/min ; < 2 torr sur 24 heures | |
| Mélange de gaz | Débitmètres de gaz | Trois débitmètres à lecture directe (10-100, 16-160, 25-250 cc/min) |
| Matériel de mélange | Réservoir de mélange interne et quatre vannes de contrôle en acier inoxydable | |
| Surveillance de pression | Manomètre intégré pour le réservoir de mélange |
Pourquoi nous choisir
- Polyvalence thermique supérieure : La configuration double zone de ce système fournit aux chercheurs la capacité essentielle de créer des gradients thermiques précis, une exigence pour le Transport Chimique en Phase Vapeur et la croissance cristalline de haute qualité que les fours à zone unique ne peuvent égaler.
- Fiabilité de vide de qualité industrielle : En incluant une jauge à membrane capacitive anti-corrosion en standard, ce four assure longévité et précision lors de la manipulation de gaz agressifs, protégeant votre investissement des défaillances de capteur courantes dans les systèmes de niveau inférieur.
- Ingénierie d'atmosphère de précision : Le mélangeur de gaz 3 voies intégré et la pompe à vide fournissent une solution complète clé en main pour la recherche CVD, éliminant le besoin de composants tiers et assurant une compatibilité parfaite entre l'alimentation en gaz et le traitement thermique.
- Sécurité et certification éprouvées : Avec la certification CE et l'utilisation de composants électriques certifiés UL/MET/CSA, cet équipement répond aux normes de sécurité rigoureuses requises par les principaux laboratoires académiques et industriels mondiaux.
- Ingénierie robuste et support : Construit avec une enveloppe double couche refroidie par air et des éléments chauffants en alliage dopé au Mo à haute efficacité, l'unité est conçue pour des années de fonctionnement constant. Nous fournissons un support technique complet et des options de personnalisation pour répondre à vos besoins de recherche spécifiques.
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