Four tubulaire
Four tubulaire à deux zones 1100°C avec tube en quartz de 11 pouces et brides à vide pour le traitement de plaquettes de 8 pouces
Numéro d'article: TU-32
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Présentation du produit
Ce four tubulaire à deux zones haute performance est un système de traitement thermique sophistiqué conçu pour la recherche avancée sur les matériaux et la R&D industrielle. Doté d'un tube en quartz fondu de 11 pouces de diamètre extérieur exceptionnellement large, l'équipement offre un environnement de chauffage spacieux adapté aux échantillons de grande taille et aux plaquettes de semi-conducteurs jusqu'à 8 pouces de diamètre. La configuration à deux zones permet de créer des gradients thermiques précis ou une zone de température constante plus large, offrant aux chercheurs une flexibilité inégalée dans la gestion de profils de traitement thermique complexes. En intégrant une isolation fibreuse en alumine de haute pureté, ce système assure une efficacité énergétique maximale et des temps de réponse thermique rapides.
L'équipement est spécifiquement conçu pour les applications de haute pureté, y compris le frittage de nouveaux échantillons de matériaux et le recuit de plaquettes de semi-conducteurs sous vide ou sous atmosphères gazeuses contrôlées. Les industries cibles vont de la fabrication de semi-conducteurs et de la métallurgie à la nanotechnologie et à la recherche sur les énergies renouvelables. La chambre de traitement de grand diamètre permet un débit plus élevé et l'accueil de creusets et de nacelles spécialisés, ce qui en fait un choix idéal pour les laboratoires passant de l'expérimentation à petite échelle au développement à l'échelle pilote. Ses capacités de vide robustes et ses fonctions de manipulation des gaz facilitent un contrôle précis de l'environnement chimique pendant les étapes critiques du traitement.
La fiabilité et la constance sont les marques de fabrique de la conception de cette unité. Construit pour résister aux conditions industrielles exigeantes, le système utilise des contrôleurs numériques de haute précision et des éléments chauffants en fil de résistance NiCrAl durables pour maintenir des performances stables sur de longues périodes. L'inclusion de brides en acier inoxydable refroidies par eau protège l'intégrité des joints à vide, assurant un environnement sans fuite même pendant les cycles à haute température. Cet engagement envers l'excellence technique garantit que chaque processus, de la calcination de base au dépôt chimique en phase vapeur avancé, est réalisé avec des résultats reproductibles et de haute précision sur lesquels les chercheurs professionnels peuvent compter.
Caractéristiques principales
- Contrôle précis de la température à deux zones : Le système dispose de deux zones de chauffage contrôlées indépendamment, chacune d'une longueur de 300 mm, gérées par des contrôleurs numériques PID de haute précision. Cela permet d'établir des gradients thermiques stables ou une zone de température constante combinée de 300 mm avec une précision de ±1°C, essentielle pour des processus tels que la croissance de nanorubans TMD.
- Chambre en quartz extra-large de 11 pouces : Équipé d'un tube massif en quartz fondu de 279 mm de diamètre extérieur, ce four accueille des échantillons de grand format, y compris des plaquettes de semi-conducteurs standard de 8 pouces. Le matériau en quartz de haute pureté offre une excellente résistance aux chocs thermiques et une inertie chimique, garantissant un environnement sans contaminants.
- Brides à vide articulées avancées : Les brides à vide en acier inoxydable présentent une conception articulée pour un chargement et un déchargement sans effort des échantillons. Les canaux de refroidissement par eau intégrés dans la structure de la bride à double couche protègent efficacement les joints toriques, maintenant l'intégrité du vide pendant un fonctionnement prolongé à des températures allant jusqu'à 1100°C.
- Isolation thermique à haute efficacité : Utilisant une isolation fibreuse en alumine de haute pureté, l'équipement minimise les pertes de chaleur et réduit la consommation d'énergie. Cette isolation légère et performante permet également des vitesses de chauffage et de refroidissement plus rapides, optimisant le temps de cycle global pour le rendement du laboratoire.
- Éléments chauffants robustes et sécurité : Les éléments chauffants en fil de résistance NiCrAl à longue durée de vie assurent une distribution uniforme de la chaleur. Pour la sécurité de l'opérateur et de l'équipement, un moniteur de température secondaire est inclus pour protéger contre les conditions de surchauffe et les thermocouples cassés, offrant une tranquillité d'esprit pendant le fonctionnement sans surveillance.
- Orifices de gaz et de vide intégrés : Le système comprend un vacuomètre mécanique, deux vannes à pointeau en acier inoxydable et un port de vide KF25. Cet ensemble complet de raccords permet une gestion précise de l'atmosphère, prenant en charge des niveaux de vide de 10-2 torr avec des pompes mécaniques jusqu'à 10-4 torr avec des systèmes turbomoléculaires.
- Profils de traitement thermique programmables : Les deux contrôleurs de température prennent en charge 30 segments programmables, permettant aux utilisateurs d'automatiser des séquences complexes de montée, de maintien et de refroidissement. Cela garantit une reproductibilité élevée sur plusieurs lots, ce qui est critique pour la recherche standardisée et le contrôle qualité industriel.
- Interface informatique et enregistrement des données : L'équipement est compatible avec un logiciel de contrôle spécialisé basé sur Labview, permettant aux chercheurs de modifier les profils de température, de gérer les recettes et d'enregistrer des données en temps réel sur un PC pour une analyse et une documentation approfondies après le processus.
Applications
| Application | Description | Avantage clé |
|---|---|---|
| Recuit de plaquettes de semi-conducteurs | Traitement thermique de plaquettes de grand format (jusqu'à 8") pour réparer les défauts cristallins ou activer les dopants. | Uniformité supérieure sur toute la surface de la plaquette. |
| Croissance de nanorubans TMD | Utilisation de deux zones pour contrôler indépendamment la pression de vapeur de chalcogène et la température de réaction du substrat. | Contrôle précis de la largeur des nanorubans et de la cinétique de croissance via la sursaturation. |
| Pyrolyse catalytique | Décomposition à haute température de matières organiques, telles que des pneus usagés, sous atmosphères contrôlées. | Prévention de la surchauffe localisée et de la carbonisation excessive via des gradients stables. |
| Frittage de matériaux | Consolidation de matériaux en poudre en solides denses pour la recherche sur les céramiques structurelles ou électroniques. | Densité et structure de grain constantes obtenues grâce à une précision de ±1°C. |
| Dépôt chimique en phase vapeur (CVD) | Dépôt précis de couches minces à l'aide de mélanges gazeux spécialisés et de tubes de traitement de grand diamètre. | Accueille de grands substrats et un débit de gaz élevé pour une recherche évolutive. |
| Traitement thermique sous vide | Relaxation des contraintes ou durcissement de composants métalliques dans un environnement sans oxygène. | Élimine l'oxydation et la contamination de surface pendant les cycles à haute température. |
Pourquoi nous choisir
- Fiabilité de qualité industrielle : Conçu avec des fils de résistance à haute durabilité et une isolation fibreuse avancée, ce système est conçu pour une constance opérationnelle à long terme dans des environnements de recherche exigeants.
- Capacité à grande échelle : Le tube de 11 pouces de diamètre est une offre rare dans les fours à l'échelle du laboratoire, fournissant le volume nécessaire pour le traitement des plaquettes de 8 pouces et les grands lots de matériaux sans nécessiter d'équipement de taille industrielle.
- Gestion thermique de précision : Le contrôle indépendant des deux zones offre la flexibilité thermique requise pour le dépôt chimique en phase vapeur complexe et la croissance de nanostructures, garantissant le plus haut niveau de contrôle expérimental.
- Sécurité et protection robustes : La surveillance secondaire intégrée de la température et les systèmes de brides refroidies par eau protègent les actifs de votre laboratoire et assurent la longévité des joints à vide poussé.
- Intégration complète : De la compatibilité avec le logiciel Labview aux options personnalisables de mélange de gaz et de station de vide, ce four sert de plateforme complète et évolutive pour vos besoins de traitement thermique.
Pour plus d'informations sur le four à deux zones TU-32 ou pour recevoir un devis personnalisé adapté à vos besoins spécifiques en matière de vide et de manipulation de gaz, veuillez contacter notre équipe de vente technique dès aujourd'hui.
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