Four tubulaire
Four de tube à double zone de température à double couvercle pour CVD à haute température et recuit sous vide
Numéro d'article: TU-GS08
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Aperçu du produit
Ce four tubulaire haute performance à double zone de température est conçu pour répondre aux exigences rigoureuses de la recherche en sciences des matériaux et de la production industrielle. En combinant deux zones de chauffage indépendantes dans une seule unité rationalisée, ce système offre aux chercheurs la flexibilité nécessaire pour créer des gradients thermiques complexes ou maintenir des profils de température très stables sur une longueur de chauffe étendue. La conception à double couvercle améliore l’accessibilité tout en optimisant la gestion thermique, faisant de cet équipement un outil essentiel pour les traitements thermiques sophistiqués où la précision et la constance sont primordiales.
Conçu pour la polyvalence, l’équipement excelle dans le frittage à haute température, les procédés sous atmosphère réductrice et le dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Il est largement utilisé dans les industries aérospatiale, des semi-conducteurs et des céramiques avancées pour réaliser des recuits sous vide et des tests sous atmosphère contrôlée. Sa construction robuste et ses fonctions de sécurité intégrées garantissent un fonctionnement fiable en service continu, offrant au personnel de laboratoire la confiance nécessaire pour mener des expériences de longue durée sans surveillance constante.
Conçu avec un souci de durabilité et de performance, ce système intègre des éléments chauffants de qualité supérieure et des matériaux d’isolation avancés. L’intégration de fils résistifs de haute qualité et de fibre d’alumine formée sous vide assure des vitesses de chauffe rapides et une efficacité énergétique exceptionnelle. Que ce soit pour la recherche fondamentale dans les universités ou pour le développement de matériaux à fort enjeu dans les laboratoires industriels, cet équipement offre la stabilité thermique et le contrôle atmosphérique requis pour les processus techniques les plus sensibles.
Caractéristiques principales
- Éléments chauffants premium en Kanthal A1 suédois : L’unité utilise un fil résistif Kanthal A1 importé, capable d’atteindre des températures de surface allant jusqu’à 1420°C. Ces éléments sont choisis pour leur résistance équilibrée et leur fonctionnement sans scories, garantissant un environnement thermique propre et une durée de vie qui dépasse largement celle des fils en alliage standard.
- Commande avancée à double zone : Avec deux zones de température indépendantes, le système permet la création de gradients thermiques précis. Cela est essentiel pour des procédés comme le transport physique en phase vapeur ou les applications CVD complexes, où la vaporisation du précurseur et la déposition sur le substrat nécessitent des températures distinctes et simultanées.
- Chambre en fibre d’alumine de haute pureté : La chambre du four est construite à partir de fibre d’alumine polycristalline de haute qualité, formée par aspiration sous vide et moulage par filtration selon une technologie japonaise avancée. Il en résulte une faible masse thermique, une grande efficacité d’isolation et une excellente résistance aux chocs thermiques.
- Régulation sophistiquée de la température PID : Équipé d’un contrôleur PID intelligent à 30 segments, le système maintient une précision de contrôle de ±1°C. Il dispose d’une protection contre les surtempératures, d’alertes de défaillance de thermocouple et d’une fonction de reprise après coupure de courant qui reprend le programme à partir du point d’interruption.
- Refroidissement forcé à double enveloppe par air : Pour garantir la sécurité de l’opérateur et la longévité structurelle, le four présente une construction à double coque. Un ventilateur de refroidissement intégré fait circuler l’air entre les couches interne et externe, maintenant la température de surface externe en dessous de 45°C même lors d’un fonctionnement à température maximale.
- Verrouillages de sécurité complets : L’unité comprend un système automatique de protection à l’ouverture du couvercle. Si le couvercle du four est ouvert pendant le fonctionnement, un relais coupe immédiatement l’alimentation principale afin de protéger l’utilisateur contre les risques électriques et l’exposition à haute température.
- Communication et surveillance numériques : Les interfaces RS485 standard permettent à l’équipement de se connecter directement à un ordinateur. Les utilisateurs peuvent contrôler les paramètres, afficher en temps réel les courbes PV (Process Value) et SV (Set Value), et enregistrer les données de température pour une analyse historique et des rapports d’assurance qualité.
- Polyvalence sous vide et en atmosphère contrôlée : L’équipement est conçu pour s’interfacer avec divers systèmes d’alimentation en gaz et de vide. Du simple balayage à l’argon ou à l’azote jusqu’aux environnements à très haut vide atteignant 10-3 Pa, le système s’adapte à des exigences atmosphériques variées pour le traitement de matériaux sensibles.
Applications
| Application | Description | Avantage clé |
|---|---|---|
| CVD / PECVD | Croissance de couches minces et de nanostructures par dépôt chimique en phase vapeur à températures contrôlées. | Contrôle précis du gradient pour une épaisseur et une qualité de film constantes. |
| Recuit sous vide | Relaxation des contraintes internes dans les alliages métalliques et les wafers semi-conducteurs sous vide poussé. | Empêche l’oxydation et garantit des propriétés de matériau de haute pureté. |
| Frittage sous atmosphère | Frittage de céramiques avancées et de pièces de métallurgie des poudres dans des atmosphères réductrices ou inertes. | Une uniformité thermique supérieure conduit à une densité de produit constante. |
| R&D sur les matériaux de batterie | Traitement thermique des matériaux d’anode et de cathode pour le stockage d’énergie de nouvelle génération. | Cyclage fiable et enregistrement des données pour des résultats expérimentaux reproductibles. |
| Calcination | Chauffage de minerais ou de composés chimiques afin de provoquer une décomposition thermique. | Fonctionnement économe en énergie avec des cycles de chauffe et de refroidissement rapides. |
| Tests en atmosphère réductrice | Traitement de matériaux dans des environnements à hydrogène ou au monoxyde de carbone pour étudier les états d’oxydation. | Les joints de tube étanches au gaz et le contrôle intégré du débit garantissent un fonctionnement sûr. |
Spécifications techniques
| Paramètre | TU-GS08-I | TU-GS08-II | TU-GS08-III | TU-GS08-IV |
|---|---|---|---|---|
| Diamètre extérieur du tube (mm) | Dia 60 | Dia 80 | Dia 100 | Dia 120 |
| Longueur du tube (mm) | 1460 | 1460 | 1460 | 1460 |
| Consommation électrique | 2.5 KW | 2.5 KW | 4.0 KW | 4.0 KW |
| Dimensions hors tout (mm) | 1500x490x600 | 1500x490x600 | 1500x490x600 | 1500x490x600 |
| Tension d’alimentation | 220V | 220V | 220V | 220V |
| Élément chauffant | Kanthal A1 suédois | Kanthal A1 suédois | Kanthal A1 suédois | Kanthal A1 suédois |
| Température max. | 1200°C | 1200°C | 1200°C | 1200°C |
| Température nominale | 1100°C | 1100°C | 1100°C | 1100°C |
| Longueur de la zone de chauffe | 205mm + 205mm | 205mm + 205mm | 205mm + 205mm | 205mm + 205mm |
| Longueur à température constante | 80mm + 80mm | 80mm + 80mm | 80mm + 80mm | 80mm + 80mm |
| Vitesse de chauffe | ≤100°C / min | ≤100°C / min | ≤100°C / min | ≤100°C / min |
| Précision de contrôle | ±1°C | ±1°C | ±1°C | ±1°C |
| Type de thermocouple | Type K | Type K | Type K | Type K |
| Capacité de vide | En option (10Pa à 10-3 Pa) | En option (10Pa à 10-3 Pa) | En option (10Pa à 10-3 Pa) | En option (10Pa à 10-3 Pa) |
| Composants électriques | Chint / Semikron | Chint / Semikron | Chint / Semikron | Chint / Semikron |
Pourquoi choisir ce four
- Ingénierie thermique inégalée : Grâce à l’utilisation du fil Kanthal A1 suédois et d’une géométrie de chambre inspirée du Japon, ce système offre une stabilité thermique nettement supérieure à celle des fours de laboratoire standard. La résistance équilibrée assure un champ de température uniforme, essentiel pour une recherche de haute fidélité.
- Fiabilité éprouvée à long terme : Le choix de composants de haute qualité, tels que les thyristors Semikron et la fibre d’alumine aspirée sous vide, garantit que l’unité peut supporter les contraintes d’un fonctionnement à haute température pendant de nombreuses années de service.
- Options d’extension polyvalentes : Cet équipement peut être personnalisé avec divers systèmes de vide (des pompes à un étage aux unités moléculaires à haut vide) et des systèmes d’alimentation en gaz (débitmètres massiques, barboteurs ou évaporateurs) afin de répondre à des exigences de procédé spécifiques.
- Sécurité opérateur renforcée : Avec des dispositifs de protection contre les fuites, des coupures d’alimentation à l’ouverture du couvercle et un refroidissement à double coque, ce système répond aux normes de sécurité les plus élevées requises pour les laboratoires industriels et universitaires modernes.
- Contrôle fondé sur les données : La possibilité de surveiller et de contrôler le four via ordinateur, combinée à un tracé détaillé des courbes et à l’archivage des données, fournit la documentation nécessaire pour des environnements de R&D strictement contrôlés et des audits qualité.
Ce système représente un investissement haut de gamme dans la technologie de traitement thermique, combinant précision, sécurité et durabilité pour soutenir vos objectifs de recherche et de production les plus critiques. Contactez-nous dès aujourd’hui pour une consultation technique ou un devis personnalisé adapté aux besoins spécifiques de votre laboratoire.
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