Four RTP
Four à tube à deux zones à glissement automatique haute température 1200°C pour la croissance de dichalcogénures de métaux de transition 2D et la recherche sur la sublimation des matériaux
Numéro d'article: TU-RT06
Livraison: Contactez-nous pour obtenir les détails d'expédition. Profitez-en Garantie d'expédition dans les délais.
Présentation du produit


Ce système double four haute performance est une solution de traitement thermique spécialisée, conçue spécifiquement pour la croissance de dichalcogénures de métaux de transition 2D (TMD) et d'autres besoins de synthèse de matériaux avancés. En intégrant deux unités de chauffe distinctes — une fixe et une équipée d'un mécanisme de glissement automatique — l'équipement offre aux chercheurs un contrôle inégalé sur les phases de sublimation et de dépôt du procédé de dépôt chimique en phase vapeur (CVD). Le système permet la vaporisation précise de précurseurs solides dans la zone primaire, tout en facilitant des transitions thermiques rapides et une croissance contrôlée du film dans la zone secondaire, répondant aux défis critiques de gradient thermique inhérents à la recherche de pointe en science des matériaux.
Conçu pour des environnements exigeants de recherche et développement en laboratoire et en industrie, l'équipement est optimisé pour la synthèse de matériaux monocouches et multicouches tels que le MoS₂, le WS₂ et le MoSe₂. La principale valeur ajoutée réside dans sa capacité à découpler les profils thermiques de la sublimation du précurseur et du dépôt sur substrat. Cette unité garantit que les précurseurs volatils sont maintenus à une température constante et plus basse, tandis que le substrat de dépôt est soumis à un chauffage ou un refroidissement rapide, une capacité rendue possible par l'ensemble de glissement programmable. Cette architecture à deux zones minimise les interférences thermiques entre les zones, améliorant significativement la répétabilité et la qualité de la croissance cristalline.
Construit avec des composants de qualité industrielle et des tubes de traitement en quartz de haute pureté, le système offre une fiabilité robuste en fonctionnement continu. La conception privilégie la précision, avec des contrôleurs PID avancés et un étanchéité sous vide pour maintenir un environnement de traitement impeccable. Qu'il soit utilisé pour la recherche fondamentale en physique ou pour le développement de dispositifs semi-conducteurs de nouvelle génération, cet équipement offre la constance et la flexibilité nécessaires pour repousser les limites de la synthèse de matériaux bas-dimensionnels. Sa nature modulaire et sa compatibilité avec divers systèmes d'alimentation en gaz en font un outil polyvalent fondateur pour tout laboratoire spécialisé dans le traitement thermique avancé et la technologie des couches minces.
Caractéristiques clés
- Architecture indépendante à deux fours : Le système se compose de deux chambres de chauffe séparées — un four fixe pour la sublimation de précurseurs solides et un four mobile pour le dépôt. Cette configuration permet des profils de température indépendants dans chaque zone, évitant les interférences thermiques indésirables et garantissant un contrôle précis du processus de transport chimique en phase vapeur.
- Mécanisme de glissement automatique : L'unité de chauffe secondaire est montée sur des rails linéaires en acier chromé de précision et alimentée par un moteur programmable 24VDC. Cette fonctionnalité permet au four de s'éloigner automatiquement de la zone de traitement, atteignant des vitesses de refroidissement rapides d'environ 100°C/min, ce qui est essentiel pour la trempe des échantillons et la préservation de phases matérielles spécifiques.
- Éléments de chauffe haute performance : Les deux fours utilisent des éléments de chauffe en alliage Fe-Cr-Al dopé au molybdène. Ces alliages spécialisés sont choisis pour leur résistance supérieure à l'oxydation et leur stabilité thermique jusqu'à 1200°C, garantissant une longue durée de vie même dans des cycles de recherche exigeants.
- Contrôle de température PID de précision : Chaque four est équipé d'un contrôleur numérique proposant 30 segments programmables pour la montée en température, le maintien et le refroidissement. Le système maintient une précision de température de ±1°C, offrant le contrôle granulaire nécessaire pour des transformations matérielles complexes et des résultats reproductibles.
- Zones à température constante optimisées : L'unité fixe propose une zone de chauffe uniforme de 60 mm, tandis que l'unité mobile dispose d'une configuration à deux zones avec une zone uniforme de 70 mm. Cette conception garantit que les précurseurs et les substrats sont exposés à des environnements thermiques stables, réduisant les défauts dans les cristaux obtenus.
- Environnement de traitement compatible avec le vide : Le système inclut un tube en quartz fondu de haute pureté équipé de brides à vide en acier inoxydable et d'un manomètre. Il peut atteindre des niveaux de vide aussi bas que 10E-5 torr lorsqu'il est associé à une pompe moléculaire, ce qui le rend adapté aux procédés de synthèse sensibles à l'oxygène.
- Sécurité et surveillance intégrées : Des alarmes intégrées de surchauffe et de défaillance de thermocouple offrent une protection essentielle à la fois pour l'équipement et les matériaux traités. L'inclusion d'un port de communication PC DB9 permet la surveillance à distance et l'enregistrement des données des cycles thermiques.
- Construction mécanique robuste : Les doubles rails de glissement linéaires et l'ensemble moteur de qualité industrielle sont conçus pour des milliers de cycles, garantissant que les fonctions automatisées de refroidissement et de chauffage restent fiables tout au long de la durée de vie de l'équipement.
Applications
| Application | Description | Avantage clé |
|---|---|---|
| Croissance de TMD (MoS₂, WS₂) | Synthèse de dichalcogénures de métaux de transition monocouches par CVD. | Découplage précis des températures de sublimation du précurseur et de dépôt. |
| Hétérostructures 2D | Croissance séquentielle de différents matériaux 2D sur un seul substrat. | Le refroidissement rapide empêche l'interdiffusion entre les couches pendant les cycles de croissance. |
| Sublimation en phase vapeur | Purification de matériaux ou création de vapeurs de précurseurs de haute pureté pour le dépôt. | Le profil thermique stable dans le four fixe garantit une pression de vapeur constante. |
| Dopage de semi-conducteurs | Introduction de dopants dans des structures cristallines à haute température. | L'excellente intégrité sous vide garantit des environnements ultra-purs pour des dopages sensibles. |
| Synthèse de nanotubes de carbone | Croissance de NTC alignés ou aléatoires par dépôt chimique en phase vapeur catalytique. | Le chauffage et le refroidissement rapides permettent un contrôle de l'activation du catalyseur et de la croissance. |
| Recuit et études de phases | Étude des changements de phase des matériaux dans des conditions atmosphériques spécifiques. | Le glissement programmable permet une trempe rapide pour bloquer les phases à haute température. |
| Recherche sur la CVD | Dépôt chimique en phase vapeur général pour le développement de couches minces et de revêtements. | La configuration flexible des zones accueille une grande variété de précurseurs. |
Spécifications techniques
| Catégorie de spécification | Paramètre | Spécification détaillée TU-RT06 |
|---|---|---|
| Alimentation électrique | Four mobile (droit) | AC 110-120V Monophasé, 50/60 Hz, 1,5 kW |
| Four fixe (gauche) | AC 110-120V Monophasé, 50/60 Hz, 1,2 kW | |
| Moteur de glissement | AC 110-120V Monophasé, 50/60 Hz, 0,2 kW | |
| Connecteur standard | NEMA 5-15P (208-240 VAC disponible sur demande) | |
| Four mobile (droit) | Modèle de four | Configuration à deux zones |
| Température maximale | 1200°C (<1 h) ; 1100°C (continu) ; 1000°C (sous vide) | |
| Zones de chauffe | 200 mm + 200 mm | |
| Zone à température constante | 70 mm (±2°C) | |
| Vitesse de chauffe | Max 20°C/min | |
| Distance de glissement | 300 mm | |
| Four fixe (gauche) | Modèle de four | Configuration à une zone |
| Température maximale | 1200°C (<1 h) ; 1100°C (continu) ; 1000°C (sous vide) | |
| Zone de chauffe | 200 mm | |
| Zone à température constante | 60 mm (±1°C) | |
| Vitesse de chauffe | Max 20°C/min | |
| Tube de traitement | Matériau | Quartz fondu de haute pureté |
| Dimensions | 50mm DE x 44mm DI x 1200mm L | |
| Pression maximale | 0,2 bar (3 psig) | |
| Débit de gaz maximal | 1000 sccm | |
| Contrôle de température | Modèle de contrôleur | FA-YD518P-AG (PID avec auto-ajustement) |
| Programmation | 30 segments (montée, refroidissement, maintien) | |
| Précision | ±1°C (Mise à niveau optionnelle Eurotherm vers ±0,1°C) | |
| Thermocouple | Type K | |
| Mécanique & Vide | Rails de glissement | Doubles rails linéaires (acier chromé) |
| Brides à vide | Acier inoxydable avec port KF25 et manomètre | |
| Performance sous vide | 10E-2 torr (mécanique) ; 10E-5 torr (pompe moléculaire) | |
| Conformité | Certifications | Certifié CE (NRTL ou CSA disponible en supplément) |
Pourquoi nous choisir
- Conçu pour l'innovation matérielle : Contrairement aux fours à tube standard, ce système est spécialement conçu pour la complexité de la synthèse de matériaux 2D, offrant la dynamique thermique spécifique requise pour la croissance de TMD que les installations à four unique ne peuvent pas égaler.
- Construction industrielle de précision : Utilisant des éléments de chauffe en Fe-Cr-Al dopé au Mo et des rails de glissement en acier chromé, cette unité est conçue pour la longévité et une performance constante dans des environnements de recherche à haut débit.
- Flexibilité thermique supérieure : La combinaison d'un four mobile à deux zones et d'un four fixe à une zone fournit trois zones de chauffe contrôlées indépendamment, permettant aux chercheurs de créer des gradients thermiques complexes avec une grande précision.
- Automatisation et sécurité avancées : La fonction de glissement programmable intégrée accélère non seulement le flux de travail de recherche, mais améliore également la sécurité en permettant à la chambre de chauffe de s'éloigner automatiquement de la zone de traitement, réduisant le risque de contact accidentel avec des surfaces chaudes.
- Évolutif et personnalisable : Des contrôleurs de précision Eurotherm optionnels aux modules de mélange de gaz multivoies et aux pièges froids, ce système peut être adapté pour répondre aux exigences spécifiques des objectifs de recherche de votre laboratoire.
Notre engagement envers l'ingénierie de précision et un support technique réactif garantit que votre investissement dans ce système de traitement thermique vous apportera des résultats fiables et de haute qualité pendant de nombreuses années. Contactez THERMUNITS dès aujourd'hui pour un devis détaillé ou pour discuter d'une configuration personnalisée pour votre application spécifique en science des matériaux.
RICHIEDI UN PREVENTIVO
Il nostro team di professionisti ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitate a contattarci!
Produits associés
Four tubulaire coulissant à double zone de température 1200°C pour la croissance de matériaux 2D et la synthèse TCVD
Optimisez la synthèse avancée de matériaux 2D grâce à ce système à double four 1200°C doté d'une zone de chauffage coulissante pour un refroidissement ultra-rapide, d'un contrôle de température PID indépendant et d'un traitement au quartz de haute pureté, conçu pour le dépôt chimique en phase vapeur thermique (TCVD) de précision et la R&D.
Four tubulaire coulissant 1200°C pour le traitement thermique rapide et la croissance de graphène par CVD avec une capacité de 100 mm de diamètre extérieur
Accélérez vos recherches avec ce four tubulaire coulissant à 1200°C conçu pour le traitement thermique rapide et les applications CVD. Doté d'un contrôle PLC de haute précision et d'un rail coulissant motorisé pour des cycles de chauffage et de refroidissement ultra-rapides dans les laboratoires de science des matériaux avancés et de R&D industrielle.
Four tubulaire automatisé 1200 C pour la recherche sur les matériaux IA avec diamètre extérieur de 6 pouces et bride coulissante
Accélérez la découverte de matériaux avec ce four tubulaire automatisé premium conçu pour la recherche pilotée par l'IA. Doté d'un diamètre de 6 pouces et d'un chauffage double zone, ce système permet une intégration robotique et une synthèse continue 24h/24 et 7j/7 pour des applications de R&D industrielle et de laboratoire à haut débit.
Four à tube 1200°C avec glissement magnétique interne de l'échantillon pour dépôt par vaporisation directe et traitement thermique rapide
Ce four à tube professionnel 1200°C est doté d'un mécanisme manuel de glissement magnétique d'échantillon spécialement conçu pour le dépôt par vaporisation directe et le traitement thermique rapide. Il assure un contrôle thermique précis et une croissance de matériau constante pour les applications exigeantes de recherche et de science des matériaux industriels.
Four tubulaire coulissant double 1200°C avec deux tubes et brides pour procédés PECVD
Accélérez la recherche sur les matériaux avec ce four tubulaire coulissant double 1200°C conçu pour les procédés PECVD de précision. Doté d'un générateur de plasma RF haute puissance et de capacités de traitement thermique rapide, il offre une uniformité de film exceptionnelle et des résultats cohérents pour les applications avancées de R&D industrielle.
Four tubulaire coulissant double 1200°C max avec brides de tube de 50 mm pour CVD
Ce four tubulaire coulissant double à 1200°C est équipé de brides de tube en quartz de 50 mm, conçues spécifiquement pour les procédés CVD de haute précision. Accélérez la R&D industrielle grâce à un chauffage et un refroidissement rapides par glissement, garantissant une synthèse des matériaux supérieure, des résultats constants et une performance optimale pour le dépôt de couches minces.
Four de chargement automatique par le bas à atmosphère contrôlée de 1200°C avec tube en quartz de 6 pouces
Four de chargement automatique par le bas à atmosphère contrôlée de 1200°C, avancé, doté d'un tube en quartz de six pouces et d'un chauffage à double zone pour des applications de recherche sur les matériaux et de traitement thermique industriel à haut débit nécessitant une précision constante et des capacités complètes d'intégration de l'automatisation dans les laboratoires de R&D.
Four à tube en quartz double zone de 80 mm de diamètre, température maximale 1200°C, avec mélangeur de gaz 3 voies et système de pompe à vide
Ce four à tube en quartz double zone avancé se caractérise par un tube de 80 mm de diamètre, un mélangeur de gaz intégré à trois voies et un système de vide haute performance. Idéal pour la CVD et la recherche sur les matériaux, il offre un traitement thermique précis à 1200°C et des capacités de surveillance du vide anti-corrosion.
Four vertical coulissant haute température 1200°C avec capacités hybrides de traitement thermique rapide et tube sous vide
Maximisez l'efficacité de la recherche avec ce four vertical coulissant 1200°C doté de capacités de traitement thermique rapide. Ce système hybride offre une double fonctionnalité four à chambre et tube sous vide, offrant un contrôle de température précis et un chauffage ou refroidissement ultra-rapide pour les applications avancées en science des matériaux.
Four tubulaire divisé à double zone 1200°C avec tube en quartz fondu et brides à vide, disponible en diamètres 60 mm, 80 mm et 100 mm
Améliorez la recherche sur les matériaux avec ce four tubulaire divisé à double zone de 1200°C, doté d'un contrôle de température indépendant pour des gradients thermiques précis. Équipé de tubes en quartz fondu et de brides d'étanchéité sous vide, c'est la solution idéale pour le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) avancé et la synthèse de nanomatériaux.
Four tubulaire à double zone haute température pour la recherche en science des matériaux et le traitement thermique professionnel
Four tubulaire à double zone avancé conçu pour un traitement thermique précis des matériaux, doté d'éléments suédois Kanthal et d'un contrôle PID sophistiqué pour des résultats constants dans les applications exigeantes de R&D industrielle et de laboratoire.
Four tubulaire rotatif à double température avec rotation de précision et inclinaison réglable pour la recherche avancée sur les matériaux
Four tubulaire rotatif à double température haute performance, équipé d'éléments Kanthal A1 et d'une rotation de précision pour un traitement uniforme des matériaux. Idéal pour les applications CVD et R&D nécessitant un contrôle thermique fiable et une inclinaison réglable dans des environnements de laboratoire industriels exigeants.
Four tubulaire sous vide à double zone haute température pour la recherche sur les matériaux et les procédés CVD
Améliorez les capacités de votre laboratoire avec ce four tubulaire sous vide à double zone de haute précision. Conçu pour la recherche avancée sur les matériaux et les procédés CVD, il dispose d'un contrôle indépendant de la température, de vitesses de chauffage rapides et d'une étanchéité sous vide robuste pour des résultats de traitement thermique constants de qualité industrielle.
Four à tubes de laboratoire multi-orientation à dix zones pour traitement thermique à gradient de température élevée de 1200°C
Optimisé pour les profils thermiques complexes, ce four à dix zones offre un contrôle précis à 1200°C en orientation horizontale et verticale. Idéal pour la R&D sur les matériaux nécessitant des gradients de température à grande échelle et un traitement fiable sous atmosphère contrôlée sur un système d'une longueur de chauffe de 1470 mm.
Four tubulaire coulissant automatisé pour chauffage et refroidissement rapides, diamètre extérieur 2 pouces, 1100°C max.
Optimisez la recherche sur les matériaux avec ce four tubulaire coulissant automatisé haute performance. Offrant un chauffage et un refroidissement ultra-rapides de 100°C par minute, ce système de 1100°C assure un traitement thermique précis pour les semi-conducteurs, la nanotechnologie et les applications de R&D industrielle nécessitant des cycles thermiques rapides.
Four tubulaire divisé à 10 zones de 1200°C avec montage horizontal et vertical pour gradients thermiques multi-zones et traitement de matériaux de grand diamètre
Système de four tubulaire divisé à dix zones de 1200°C offrant un contrôle inégalé du gradient thermique grâce à dix zones de chauffage indépendantes et un montage polyvalent horizontal ou vertical, conçu pour la simulation industrielle précise, la synthèse de matériaux et les applications de traitement thermique en R&D de laboratoire haute performance avec une fiabilité exceptionnelle.
Four coulissant CVD à double tube 100 mm 80 mm avec système de mélange de gaz à 4 canaux et système de vide
Ce four coulissant CVD à double tube présente une conception avec un tube extérieur de 100 mm et un tube intérieur de 80 mm pour une recherche flexible sur les électrodes. Intégré à une station de mélange de gaz à 4 canaux et à un système de vide, il permet un traitement thermique rapide et une croissance précise du graphène.
Four tubulaire divisé à sept zones 1200 °C avec contrôleur de température de précision et système de vide à brides rapides
Un four tubulaire divisé professionnel à sept zones de 1200 °C conçu pour la recherche sur les matériaux, doté d'un tube en quartz de 5 pouces, d'un contrôle PID précis et de brides rapides pour un traitement thermique rapide sous vide ou en atmosphère contrôlée. Une solution thermique de R&D haute performance.
Four de tube à double zone de température à double couvercle pour CVD à haute température et recuit sous vide
Four tubulaire professionnel à double zone de température et haute température, doté d’éléments chauffants Kanthal A1 et d’une commande PID avancée pour les applications de recherche et industrielles. Ce système assure un traitement thermique précis pour la CVD, le recuit sous vide et le frittage des matériaux avec une fiabilité inégalée.
Four tubulaire à double zone allongé haute température pour la recherche sur les matériaux et le traitement thermique industriel
Améliorez votre recherche sur les matériaux avec ce four tubulaire à double zone allongé haute performance. Doté d'éléments suédois Kanthal A1 et d'un contrôle PID avancé, il assure une uniformité thermique exceptionnelle jusqu'à 1200°C pour les applications exigeantes de R&D en laboratoire et dans l'industrie moderne.