Four tubulaire
Four tubulaire à double zone haute température 1700°C pour la science des matériaux et la recherche industrielle en dépôt chimique en phase vapeur
Numéro d'article: TU-74
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Présentation du produit
Ce système de traitement thermique haute performance est conçu pour la recherche sur les matériaux avancés et le développement industriel nécessitant un contrôle précis et indépendant sur plusieurs zones thermiques. En utilisant une configuration à double zone, l'équipement permet la création de gradients de température sophistiqués, essentiels pour des processus spécialisés tels que le transport chimique en phase vapeur (CVT) et le dépôt physique en phase vapeur (PVD). L'architecture du système combine deux technologies de chauffage distinctes au sein d'une seule unité, offrant une plateforme polyvalente pour la synthèse de matériaux fonctionnels et la croissance de films épitaxiaux de haute qualité.
Conçue pour les environnements de laboratoire et industriels les plus exigeants, cette unité est largement utilisée dans la recherche sur les semi-conducteurs, la métallurgie et la chimie du solide. Elle constitue un outil essentiel pour les chercheurs axés sur la croissance de nanorubans de dichalcogénures de métaux de transition (TMD) et le développement de monocristaux de haute pureté. La construction robuste garantit que le système maintient une stabilité thermique exceptionnelle même lorsqu'il fonctionne à des températures atteignant 1700ºC, permettant des résultats cohérents et reproductibles dans les projets de R&D à enjeux élevés.
La fiabilité et la sécurité sont au cœur de la philosophie de conception de cet équipement. Construit avec un boîtier en acier à double couche et des ventilateurs de refroidissement intégrés, le système maintient une basse température de surface extérieure, protégeant le personnel de laboratoire et l'équipement environnant. L'utilisation d'isolation en alumine fibreuse de haute pureté améliore non seulement l'efficacité énergétique, mais contribue également à des cycles de chauffage et de refroidissement rapides, maximisant le débit dans les installations de recherche très fréquentées. Les acheteurs peuvent investir en toute confiance, sachant que ce système est conçu pour résister aux rigueurs d'un fonctionnement continu à haute température sans compromettre les performances.
Caractéristiques principales
- Contrôle indépendant à double zone : Chaque zone de chauffage de 12 pouces est gérée par son propre contrôleur numérique de précision, permettant la génération de gradients thermiques spécifiques ou un chauffage uniforme sur une portée totale de 24 pouces.
- Technologie avancée à double élément : La première zone utilise des éléments en carbure de silicium (SiC) pour un fonctionnement stable jusqu'à 1400ºC, tandis que la seconde zone emploie des éléments en disiliciure de molybdène (MoSi2) pour atteindre des températures de pointe de 1700ºC, offrant une flexibilité inégalée pour divers profils thermiques.
- Gestion précise de la température PID : Équipé de deux contrôleurs numériques programmables à 30 segments, le système fournit un contrôle PID automatisé via des redresseurs contrôlés au silicium (SCR), garantissant une précision à ±1ºC près.
- Isolation en alumine de haute pureté : La chambre du four est revêtue d'alumine fibreuse haute densité, ce qui minimise la perte de chaleur et assure un haut degré d'uniformité de température tout en empêchant la contamination des échantillons sensibles.
- Protocoles de sécurité améliorés : Les alarmes de surchauffe intégrées et les circuits de protection automatiques permettent un fonctionnement sûr et sans surveillance, tandis que le boîtier à double couche maintient l'environnement externe frais.
- Système d'étanchéité prêt pour le vide : L'équipement comprend des brides d'étanchéité sous vide en acier inoxydable robuste avec des vannes et des manomètres intégrés, prenant en charge les applications à basse pression et le traitement sous atmosphère inerte.
- Tubes de traitement en alumine haute résistance : Le système prend en charge divers diamètres de tubes (50 mm, 60 mm et 80 mm) pour s'adapter à différents volumes d'échantillons et exigences de débit sans sacrifier l'intégrité structurelle à haute température.
- Architecture électrique robuste : Utilisant des câbles d'alimentation robustes approuvés UL et nécessitant un disjoncteur pneumatique de 60 A, le système est conçu pour une alimentation stable pendant les phases de chauffage à forte demande.
- Options d'interface polyvalentes : Les raccords cannelés standard peuvent être mis à niveau vers des adaptateurs KF25 pour les applications à vide poussé ou des raccords à joint frontal VCR pour l'alimentation en gaz haute pression, répondant ainsi aux besoins techniques spécifiques.
Applications
| Application | Description | Avantage clé |
|---|---|---|
| Croissance de nanorubans TMD | Contrôle précis de la pression de vapeur de chalcogène pendant la croissance de nanorubans de dichalcogénures de métaux de transition. | Ajustement indépendant de la concentration de vapeur sans affecter la cinétique de croissance. |
| Transport chimique en phase vapeur (CVT) | Établissement de gradients de température stables à travers le tube de traitement pour la migration des vapeurs chimiques. | Permet la croissance de grands monocristaux de haute pureté comme le PdCoO2. |
| Croissance de films épitaxiaux | Utilisation de procédés CVD ou PVD sous vide pour déposer des couches minces sur des substrats. | Une uniformité de température élevée dans la zone de croissance assure une épaisseur de film constante. |
| Pyrolyse catalytique | Chauffage de déchets industriels comme les pneus usagés à des taux contrôlés pour analyser la distribution des sous-produits. | Empêche la surchauffe localisée et assure une récupération de pétrole et de gaz de haute qualité. |
| Synthèse de matériaux fonctionnels | Soumission de précurseurs de matériaux à des gradients thermiques spécifiques pour induire les changements de phase souhaités. | Production reproductible de matériaux avancés avec des propriétés physiques sur mesure. |
| Dopage des semi-conducteurs | Diffusion de dopants dans des plaquettes de semi-conducteurs sous contrôle d'atmosphère à haute température. | La programmation précise à 30 segments permet un contrôle exact de la profondeur de pénétration. |
| Frittage céramique | Consolidation à haute température de poudres céramiques avancées en composants solides. | Des taux de chauffage rapides jusqu'à 10ºC/min optimisent le temps de traitement pour les céramiques haute densité. |
Spécifications techniques
| Paramètre | TU-74-50 | TU-74-60 | TU-74-80 |
|---|---|---|---|
| Diamètre extérieur du tube | 50 mm | 60 mm | 80 mm |
| Diamètre intérieur du tube | 44 mm | 54 mm | 74 mm |
| Longueur du tube | 1200 mm | 1200 mm | 1200 mm |
| Température max. zone 1 | 1500ºC (éléments SiC) | 1500ºC (éléments SiC) | 1500ºC (éléments SiC) |
| Température max. zone 2 | 1700ºC (éléments MoSi2) | 1700ºC (éléments MoSi2) | 1700ºC (éléments MoSi2) |
| Longueur de la zone de chauffage | 12" + 12" (300mm + 300mm) | 12" + 12" (300mm + 300mm) | 12" + 12" (300mm + 300mm) |
| Zone de température constante | 14" (350mm) à ±1ºC | 14" (350mm) à ±1ºC | 14" (350mm) à ±1ºC |
| Taux de chauffage | Max. 10ºC/min | Max. 10ºC/min | Max. 10ºC/min |
| Thermocouples | Type S (Zone 1) / Type B (Zone 2) | Type S (Zone 1) / Type B (Zone 2) | Type S (Zone 1) / Type B (Zone 2) |
| Précision de contrôle | ±1ºC | ±1ºC | ±1ºC |
| Puissance totale | 9 KW | 9 KW | 9 KW |
| Tension | 220-240V monophasé | 220-240V monophasé | 220-240V monophasé |
| Dimensions hors tout | 780 x 450 x 720 mm | 780 x 450 x 720 mm | 780 x 450 x 720 mm |
| Conformité | Certifié CE | Certifié CE | Certifié CE |
| Limite de vide | < 0,02 Mpa (sûr jusqu'à 1500ºC) | < 0,02 Mpa (sûr jusqu'à 1500ºC) | < 0,02 Mpa (sûr jusqu'à 1500ºC) |
Pourquoi choisir le four tubulaire à double zone haute température 1700C
- Ingénierie supérieure et qualité des matériaux : Doté d'une combinaison d'éléments chauffants SiC et MoSi2, ce système est conçu pour la longévité et des performances précises que les fours de série ne peuvent égaler.
- Contrôle du gradient thermique leader de l'industrie : Le contrôle PID indépendant à 30 segments pour chaque zone permet aux chercheurs d'exécuter des profils thermiques complexes avec une répétabilité et une précision inégalées.
- Sécurité et conformité complètes : Avec la certification CE et une protection intégrée contre la surchauffe, cette unité répond aux exigences de sécurité strictes des laboratoires industriels et universitaires modernes.
- Configuration flexible et évolutive : Des tailles de tubes réglables à la télécommande sans fil en option et à l'intégration Labview, ce système peut être personnalisé pour répondre aux besoins spécifiques de débit et d'enregistrement de données de votre installation.
- Fiabilité éprouvée en R&D avancée : Cet équipement est un incontournable de la synthèse de matériaux haut de gamme, approuvé par les principales institutions pour sa capacité à maintenir des environnements de vide et de température stables.
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