Four RTP
Four tubulaire coulissant à double zone de température 1200°C pour la croissance de matériaux 2D et la synthèse TCVD
Numéro d'article: TU-RT10
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Présentation du produit
Ce système à double four haute performance est spécifiquement conçu pour la synthèse de matériaux 2D avancés et le dépôt de couches minces complexes. En intégrant deux unités de four indépendantes sur un seul tube de traitement de 80 mm, l'équipement permet la création de gradients de température précis et d'environnements thermiques distincts pour la sublimation et le dépôt. Un four est conçu comme une unité fixe tandis que l'autre dispose d'un mécanisme coulissant à haute vitesse, permettant aux chercheurs et aux ingénieurs industriels de déplacer les échantillons entre les zones à haute température et les conditions ambiantes avec une vitesse et une répétabilité exceptionnelles.
Le système est parfaitement adapté aux processus de dépôt chimique en phase vapeur thermique (TCVD), en particulier pour la production de monocouches de dichalcogénures de métaux de transition (TMDC) 2D et de microcristaux de pérovskite avancés. En séparant la zone d'évaporation du précurseur de la zone de croissance, cet équipement offre un contrôle inégalé sur la pression de vapeur et les rapports stoechiométriques. La polyvalence de la configuration à double zone en fait un outil essentiel pour les laboratoires de science des matériaux et les installations de R&D de haute technologie axées sur le graphène, les nanotubes de carbone et les couches minces semi-conductrices.
Conçu pour une utilisation industrielle exigeante, l'équipement privilégie l'intégrité structurelle et la stabilité thermique. La combinaison de quartz fondu de haute pureté, d'éléments chauffants conçus avec précision et d'un système de rail coulissant linéaire robuste garantit que chaque cycle est cohérent et fiable. Cette unité offre la durabilité requise pour un fonctionnement continu sous vide ou dans des conditions d'atmosphère contrôlée, donnant aux équipes d'approvisionnement et aux responsables de recherche une confiance totale dans leur investissement en capital à long terme.
Caractéristiques principales
- Contrôle indépendant à double zone : Ce système utilise deux unités de chauffage distinctes, chacune équipée de son propre contrôleur de température PID dédié, permettant des températures de sublimation et de dépôt distinctes sans interférence thermique.
- Traitement thermique rapide via mécanisme coulissant : Le four situé à droite est monté sur un système de double rail coulissant linéaire, lui permettant de s'éloigner de la zone de croissance pour atteindre des taux de refroidissement ultra-rapides d'environ 100°C/min, essentiels pour les phases de trempe et la préservation de la morphologie des matériaux.
- Mouvement linéaire de précision : Le four coulissant est entraîné par un moteur électrique de 200 W avec des commandes manuelles de vitesse et de direction, soutenu par des rails en acier chromé pour un mouvement fluide et sans vibration pendant les étapes critiques de croissance.
- Four stationnaire multi-zone avancé : L'unité fixe située à gauche présente une configuration à trois zones (152,4 mm chacune), offrant une zone de température constante étendue et permettant un réglage fin du profil thermique sur toute la source de précurseur.
- Environnement de traitement en quartz de haute pureté : Le tube en quartz fondu de 80 mm de diamètre offre un environnement propre et chimiquement inerte pour les réactions sensibles, prenant en charge des débits allant jusqu'à 1000 sccm et des pressions allant jusqu'à 0,4 bar.
- Régulation thermique sophistiquée : Équipé de contrôleurs FA-YD518P-AG, le système propose 30 segments programmables pour la montée en température, le maintien et le refroidissement, avec des fonctions d'auto-réglage intégrées pour maintenir une précision de ±1°C.
- Technologie de chauffage durable : Des éléments chauffants en alliage Fe-Cr-Al de haute qualité, dopés au molybdène, offrent une température de travail maximale de 1200°C et une excellente résistance à l'oxydation pour une durée de vie prolongée.
- Capacités d'intégration sous vide : Des brides à vide en acier inoxydable avec jauges intégrées sont fournies en standard, permettant au système d'atteindre des niveaux de vide allant jusqu'à 10E-5 torr lorsqu'il est associé à une pompe moléculaire.
- Surveillance de sécurité complète : Le système comprend des alarmes intégrées de surchauffe et de défaillance de thermocouple, garantissant la sécurité de l'équipement et de l'opérateur pendant les cycles à haute température.
Applications
| Application | Description | Avantage clé |
|---|---|---|
| Croissance de monocouches TMDC | Synthèse de MoS2, WS2 et autres dichalcogénures de métaux de transition. | Contrôle précis des températures de sublimation par rapport au dépôt pour des monocouches de haute qualité. |
| Synthèse de pérovskites | Dépôt en phase vapeur de CsPbBr3 et autres pérovskites d'halogénure. | Le contrôle indépendant des zones maintient des rapports stoechiométriques idéaux grâce à la gestion de la pression de vapeur. |
| Fabrication de graphène | TCVD à haute température sur catalyseurs métalliques utilisant des précurseurs carbonés. | Le four coulissant permet une trempe rapide pour contrôler la taille des grains et le nombre de couches. |
| CVD de nanotubes de carbone (CNT) | Croissance médiée par catalyseur de nanotubes à paroi simple ou multiple. | L'alimentation en gaz à haut débit et les zones de température constantes assurent un alignement uniforme. |
| Épitaxie en phase vapeur | Croissance contrôlée de couches minces sur des substrats cristallins. | Interférence thermique minimale entre les précurseurs et le substrat de croissance. |
| Dopage de semi-conducteurs | Diffusion de dopants dans des plaquettes semi-conductrices sous atmosphères contrôlées. | Le contrôle PID de précision garantit des profils de dopage répétables sur plusieurs lots. |
| Synthèse de nanofils | Croissance Vapeur-Liquide-Solide (VLS) de nanofils semi-conducteurs et d'oxydes. | Le refroidissement rapide empêche une croissance secondaire indésirable ou des transformations de phase. |
Spécifications techniques
| Catégorie | Spécification | Valeur du paramètre (TU-RT10) |
|---|---|---|
| Référence du modèle | Système TU-RT10 | Configuration coulissante à double four |
| Four coulissant (droite) | Modèle de four | Monozone OTF-1200X |
| Distance de glissement | 300 mm | |
| Zone de chauffage totale | 440 mm | |
| Zone de température constante | 150 mm (±1 °C) | |
| Température maximale | 1200 °C (<1 heure) ; 1100 °C (continu) | |
| Four stationnaire (gauche) | Modèle de four | Trois zones OTF-1200X-III-C |
| Longueurs des zones de chauffage | 152,4 mm + 152,4 mm + 152,4 mm (Total 450 mm) | |
| Zone de température constante | 200 mm (±1 °C) | |
| Température maximale | 1200 °C (<1 heure) ; 1100 °C (continu) | |
| Tube de traitement | Matériau | Quartz fondu de haute pureté |
| Dimensions | 80 mm D.E. x 72 mm D.I. x 1800 mm de longueur | |
| Pression maximale | 0,4 bar (5,8 psi) | |
| Débit maximal | 1000 sccm | |
| Éléments chauffants | Type | Alliage Fe-Cr-Al dopé au Mo |
| Contrôle de température | Précision | ±1 ºC (Eurotherm ±0,1°C en option) |
| Programmabilité | 30 segments (montée, refroidissement, maintien) | |
| Thermocouple | Type K (quatre inclus) | |
| Mécanisme coulissant | Rails | Double rail coulissant linéaire (acier chromé) |
| Moteur | 208 – 240 VCA monophasé, 200 W | |
| Puissance requise | Four coulissant | CA 208-240V monophasé, 3 kW |
| Four stationnaire | CA 208-240V monophasé, 4 kW | |
| Vide et gaz | Brides à vide | Acier inoxydable avec jauge à vide |
| Vide maximal | 10E-5 torr (avec pompe moléculaire) | |
| Conformité | Normes | Certifié CE (NRTL/CSA disponible) |
Pourquoi choisir le TU-RT10
- Flexibilité thermique supérieure : La combinaison unique d'un four stationnaire à trois zones et d'un four coulissant monozone offre la plateforme la plus polyvalente du marché pour les processus CVD complexes.
- Fiabilité éprouvée : Construit avec des éléments chauffants en alliage de qualité supérieure et un système coulissant mécanique robuste, cet équipement est conçu pour la longévité et des performances constantes dans les environnements de R&D intensifs.
- Ingénierie de précision : Avec une précision de température maintenue à ±1°C et des composants de mouvement linéaire de haute qualité, les utilisateurs peuvent obtenir des résultats hautement répétables pour la synthèse de matériaux sensibles.
- Évolutif et personnalisable : La conception modulaire permet des mises à niveau vers des contrôleurs Eurotherm pour une précision encore plus élevée et une intégration avec des systèmes d'alimentation en gaz multicanaux pour répondre aux besoins de recherche spécifiques.
- Conformité complète : Nos systèmes sont certifiés CE et construits selon les normes de sécurité internationales, garantissant une intégration facile dans tout laboratoire professionnel ou installation industrielle.
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