Four tubulaire
Four de chargement automatique par le bas à atmosphère contrôlée de 1200°C avec tube en quartz de 6 pouces
Numéro d'article: TU-C32
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Aperçu du produit
Ce système de traitement thermique à haute température représente une avancée significative dans les équipements de laboratoire, conçu spécifiquement pour les chercheurs et les ingénieurs industriels qui exigent un contrôle absolu de l'atmosphère et des profils thermiques. En utilisant un mécanisme de chargement par le bas de haute précision, l'équipement minimise le choc thermique pour l'opérateur et assure un positionnement stable des échantillons délicats dans la chambre de chauffe. Cette configuration est particulièrement avantageuse pour la synthèse de matériaux de haute précision, où l'orientation de l'échantillon et la pureté de l'atmosphère sont essentielles à la réussite de l'expérience.
Conçu pour la polyvalence et la R&D à haut débit, le système offre une plateforme robuste pour des procédés de traitement thermique exigeants sous divers environnements gazeux. Qu'il fonctionne sous vide ou sous pression positive contrôlée, l'unité maintient une stabilité exceptionnelle grâce à ses systèmes intégrés de refroidissement et d'étanchéité. Cela en fait un choix idéal pour les sciences des matériaux avancées, le développement des semi-conducteurs et la métallurgie aérospatiale, où la fiabilité et des performances reproductibles constituent les exigences de base pour réussir.
Avec une attention particulière portée à la stabilité opérationnelle à long terme, ce système est construit avec des composants haut de gamme, du tube en quartz de haute pureté aux éléments chauffants spécialisés. L'orientation verticale et la plateforme automatisée permettent une intégration fluide dans les flux de travail de laboratoire modernes, y compris ceux nécessitant une exploitation autonome 24 h/24 et 7 j/7. Les professionnels peuvent compter sur cette unité pour fournir des gradients thermiques précis et des environnements propres, garantissant que chaque lot respecte les normes strictes de la recherche et du développement industriels.
Caractéristiques principales
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Système de chargement automatique par le bas : Le mécanisme de levage vertical conçu avec précision permet un chargement et un déchargement des échantillons fluides et sans vibrations. Cette plateforme automatisée améliore non seulement la sécurité de l'opérateur en l'éloignant de la zone chaude, mais assure également un positionnement constant des échantillons pour des résultats reproductibles sur plusieurs lots.
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Tube en quartz de haute pureté de six pouces : Le système utilise un tube en quartz fondu de 150 mm de diamètre extérieur comme chambre de traitement. Le quartz offre une résistance exceptionnelle aux chocs thermiques et une inertie chimique, empêchant toute contamination lors de réactions délicates à haute température. Sa transparence permet également de surveiller visuellement les échantillons pendant le cycle thermique.
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Contrôle de température à double zone : Doté de deux zones de chauffe contrôlées indépendamment (175 mm chacune), cet appareil offre une flexibilité supérieure pour gérer les gradients thermiques. Cette configuration est essentielle pour les applications nécessitant des profils de température spécifiques ou de longues zones chaudes uniformes jusqu'à 120 mm avec une précision de ±2°C.
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Interface tactile avancée : Un panneau tactile PLC centralisé permet aux opérateurs de programmer des cycles thermiques complexes, notamment les vitesses de chauffage/refroidissement, les temps de maintien et les paramètres de pression de gaz. L'exécution en un seul bouton simplifie l'utilisation tout en réduisant le risque d'erreurs de programmation manuelle.
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Brides d'étanchéité refroidies par eau : Les brides en acier inoxydable SS304 de haute qualité sont équipées d'une chemise de refroidissement par eau intégrée. Cette fonctionnalité protège les joints toriques en silicone contre la dégradation thermique, maintenant une étanchéité sous vide de haute intégrité même lorsque le four fonctionne à sa température maximale de 1200°C.
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Contrôle de débit massique intégré (MFC) : Le four comprend en standard un contrôleur de débit massique de haute précision (1-1000 sccm). Cela permet un dosage exact des gaz de procédé, garantissant que l'atmosphère à l'intérieur du tube en quartz reste constante et contrôlée tout au long du traitement.
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Automatisation et intégration PC : Le système est équipé d'un port PC DB9 par défaut et d'un logiciel spécialisé, permettant l'exploitation à distance et l'enregistrement des données. Pour les applications industrielles avancées, l'unité peut être intégrée à des bras robotiques afin de créer une cellule de traitement entièrement autonome 24 h/24 et 7 j/7.
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Éléments chauffants robustes : Utilisant du fil FeCrAlMo de haute qualité, les éléments chauffants sont conçus pour offrir longévité et réponse thermique rapide. Ces éléments assurent une génération de chaleur fiable jusqu'à 1200°C et résistent à l'oxydation, garantissant une longue durée de vie dans les environnements de laboratoire exigeants.
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Sécurité et surveillance complètes : La bride supérieure comporte une jauge de vide numérique, une jauge de pression mécanique et des thermocouples secondaires. Ce système de surveillance à plusieurs niveaux fournit un retour en temps réel sur l'environnement interne, permettant des ajustements immédiats si les paramètres s'écartent des valeurs définies.
Applications
| Application | Description | Avantage clé |
|---|---|---|
| Frittage de céramiques avancées | Consolidation à haute température de poudres céramiques en composants structurels denses. | Un contrôle précis de l'atmosphère empêche l'oxydation et maintient la pureté du matériau. |
| Dépôt chimique en phase vapeur (CVD) | Croissance de couches minces et de nanomatériaux sur divers substrats par réactions en phase gazeuse. | Des zones de chauffe uniformes assurent une épaisseur et une qualité de film constantes sur de grands lots. |
| Recuit des semi-conducteurs | Traitement thermique de plaquettes de silicium ou de semi-conducteurs composés pour modifier leurs propriétés électriques. | Des capacités de refroidissement rapide et un environnement de haute pureté empêchent la migration indésirable des dopants. |
| Métallurgie et alliage | Fusion et traitement thermique d'alliages métalliques spécialisés sous atmosphère protectrice d'azote ou d'argon. | Le chargement par le bas minimise le choc thermique et facilite la manipulation des creusets lourds. |
| Recherche sur les matériaux de batterie | Calcination et synthèse de matériaux de cathode ou d'anode pour les systèmes de stockage d'énergie de nouvelle génération. | La capacité d'exploitation autonome 24 h/24 et 7 j/7 augmente considérablement le débit de recherche. |
| Matériaux dentaires et biomatériaux | Traitement thermique spécialisé des céramiques dentaires et des implants biocompatibles. | Le tube en quartz transparent permet une inspection visuelle de l'état physique du matériau. |
| Brasage sous vide | Assemblage de composants métalliques à l'aide d'un métal d'apport dans un environnement sous vide poussé ou inerte. | Les brides d'étanchéité de haute intégrité maintiennent les niveaux de vide jusqu'à 10⁻⁵ Torr avec des pompes optionnelles. |
Spécifications techniques
| Catégorie | Paramètre | Spécification pour TU-C32 |
|---|---|---|
| Identification du modèle | Numéro d'article du produit | TU-C32 |
| Alimentation électrique | Tension | 220 VAC +/- 10 %, 50/60 Hz, monophasé |
| Puissance nominale | 6,0 kW maximum | |
| Performances thermiques | Température maximale de service | 1200°C (durée ≤ 30 minutes) |
| Température à long terme | 1100°C en continu | |
| Vitesse de chauffage | 10°C / minute (recommandé) | |
| Précision de température | ±1°C (standard) ; mise à niveau optionnelle vers ±0,1°C | |
| Configuration de chauffage | Éléments chauffants | Fil FeCrAlMo haute performance |
| Zones de chauffe | Double zone (175 mm + 175 mm) | |
| Longueur totale de chauffe | 350 mm | |
| Zone à température constante | 120 mm (dans ±2°C) | |
| Système de contrôle | Interface | Panneau programmable PLC à écran tactile |
| Contrôleurs | Deux contrôleurs de température à 50 segments | |
| Thermocouples | Deux capteurs de type K | |
| Connectivité PC | Port DB9 avec logiciel de fonctionnement à distance inclus | |
| Construction de la chambre | Matériau du tube | Quartz fondu de haute pureté |
| Dimensions du tube | 150 mm OD x 144 mm ID x 600 mm de longueur | |
| Plateforme d'échantillon | Plaque en quartz de 130 mm de diamètre (personnalisable) | |
| Étanchéité & gaz | Matériau de la bride | Acier inoxydable SS304 (refroidi par eau) |
| Contrôle du gaz | Contrôleur de débit massique 1-1000 sccm (MFC) inclus | |
| Surveillance de la pression | Jauge de vide numérique & jauge de pression mécanique | |
| Ports de gaz | Entrée à double bague de serrage G1/4 ; port de vide KF 25 | |
| Refroidissement & vide | Refroidisseur d'eau | Refroidisseur en recirculation 16 L/min inclus |
| Niveau de vide (optionnel) | 10⁻² Torr (mécanique) / 10⁻⁵ Torr (moléculaire) | |
| Certification de sécurité | Options de certification | Pompes à vide certifiées NRTL disponibles |
Pourquoi choisir le TU-C32
Investir dans ce système de four apporte à votre installation une solution polyvalente et haute performance pour des traitements thermiques complexes. La combinaison du chauffage à double zone et du chargement automatique par le bas permet d'atteindre un niveau de précision et de répétabilité difficile à obtenir avec des fours tubulaires standard. L'ingénierie robuste garantit que l'équipement peut supporter les rigueurs de la recherche industrielle continue, offrant un retour sur investissement fiable grâce à une réduction des temps d'arrêt et à une production de haute qualité.
De plus, le système est conçu dans une optique d'évolutivité. Sa capacité à s'interfacer avec des ordinateurs externes et des systèmes robotiques signifie qu'il peut évoluer avec les besoins de votre laboratoire, passant d'un outil de recherche à unité unique à une partie d'une ligne de production autonome à haut débit. L'inclusion d'un refroidisseur d'eau dédié et d'un contrôleur de débit massique dès l'achat reflète un engagement à fournir une solution complète, prête à l'emploi, qui privilégie la longévité des composants et la stabilité du procédé.
Notre engagement envers l'excellence va au-delà du matériel ; nous offrons un support complet et la possibilité de personnaliser des composants — tels que la plateforme d'échantillon ou les unités d'alimentation en gaz — afin de répondre à vos exigences d'application spécifiques. Que vous travailliez avec des semi-conducteurs sensibles ou des alliages métallurgiques avancés, ce système fournit les performances thermiques et la pureté atmosphérique nécessaires à l'innovation de pointe. Contactez-nous dès aujourd'hui pour discuter de vos besoins spécifiques en matière de procédé ou pour demander un devis personnalisé pour votre installation.
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