Four RTP
Four coulissant CVD à double tube 100 mm 80 mm avec système de mélange de gaz à 4 canaux et système de vide
Numéro d'article: TU-RT12
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Présentation du produit
Ce système de traitement thermique haute performance est conçu pour des applications avancées de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), spécifiquement élaboré pour faciliter la croissance de couches minces et de graphène sur des feuilles métalliques. En utilisant une architecture unique à double tube, l'équipement permet un contrôle précis de l'environnement réactionnel. La proposition de valeur principale du système réside dans sa capacité à gérer la préparation d'électrodes flexibles sur des substrats métalliques, une exigence critique pour la prochaine génération de recherche sur le stockage d'énergie et l'électronique. Cette unité intègre le chauffage, l'alimentation en gaz et le contrôle du vide dans une plateforme unique et cohérente, garantissant des flux de travail rationalisés pour les spécialistes des matériaux.
L'équipement est particulièrement adapté aux environnements de R&D industrielle et aux laboratoires universitaires axés sur les matériaux bidimensionnels et la nanotechnologie. Ses principaux cas d'utilisation incluent la production à grande échelle de films de graphène et la synthèse de nanostructures complexes nécessitant un contrôle strict de l'atmosphère. Ce système offre un environnement polyvalent où les gaz réactifs sont dosés avec précision dans un espace de réaction étroit de 10 mm entre les tubes de quartz concentriques, maximisant l'efficacité des précurseurs et l'uniformité du film. Le mécanisme coulissant améliore encore l'utilité de l'unité, permettant un cyclage thermique rapide essentiel pour des transformations de phase spécifiques et une expérimentation à haut débit.
Construit avec des composants de qualité industrielle, le four offre une fiabilité inégalée dans des conditions exigeantes. L'isolation en alumine de haute pureté et les brides à vide robustes en acier inoxydable sont conçues pour résister à un fonctionnement continu à des températures élevées. Chaque aspect de ce système, des contrôleurs de débit massique numériques à la station de vide robuste, reflète un engagement envers l'ingénierie de précision. Les chercheurs peuvent compter sur cette unité pour des résultats cohérents et reproductibles, qu'ils effectuent des traitements thermiques de routine ou des processus complexes de synthèse CVD multi-étapes dans une atmosphère contrôlée.
Caractéristiques principales
- Architecture concentrique à double tube : Le système utilise un tube extérieur de 100 mm de diamètre et un tube intérieur suspendu de 80 mm de diamètre, créant un espace de réaction de 10 mm où les substrats en feuille métallique peuvent être enroulés pour une surface CVD et une interaction gazeuse optimales.
- Système de rail coulissant dynamique : Un rail coulissant robuste est intégré au bas du four, permettant à la chambre de chauffage d'être rapidement éloignée de la zone d'échantillonnage. Cela permet une trempe rapide ou des vitesses de chauffage rapides impossibles avec des fours stationnaires.
- Distribution de gaz précise à 4 canaux : La station de mélange de gaz intégrée comprend quatre contrôleurs de débit massique (MFC) numériques avec des plages variées (100 à 500 SCCM), permettant le mélange complexe de gaz précurseurs et porteurs avec une précision de ±1 % de la pleine échelle.
- Régulation thermique PID avancée : L'équipement utilise un contrôleur PID sophistiqué avec 30 segments programmables, offrant un contrôle méticuleux des vitesses de chauffage, des temps de maintien et des courbes de refroidissement pour maintenir une stabilité de température de ±1 °C.
- Surveillance intégrée du vide et de la pression : Une station de vide complète est incluse, comprenant une pompe à palettes rotatives à deux étages et une jauge à vide numérique capable de mesurer de 10^-4 à 1000 Torr, assurant un environnement de réaction propre et contrôlé.
- Brides robustes refroidies par eau : Les brides en acier inoxydable 304 sont équipées de chemises de refroidissement à eau intégrées, protégeant les joints à haut vide et assurant l'intégrité structurelle lors d'opérations prolongées à haute température.
- Isolation thermique optimisée : La chambre de chauffage est construite à partir d'une isolation fibreuse en Al2O3 de haute pureté, qui minimise les pertes de chaleur et offre une excellente uniformité de température sur toute la zone de chauffage constante.
- Configurations de chauffage évolutives : Disponible en configurations à zone de chauffage simple ou double, le système permet un contrôle indépendant des gradients de température, ce qui est essentiel pour transporter les précurseurs ou gérer des réactions multi-étapes.
- Sécurité et automatisation : Les alarmes de surchauffe intégrées et les fonctions de protection automatique permettent au système de fonctionner en toute sécurité sans surveillance constante, augmentant l'efficacité du laboratoire et réduisant les risques opérationnels.
- Connectivité industrielle Swagelok : Toutes les entrées et sorties de gaz utilisent des connecteurs de tube Swagelok de 1/4", garantissant des performances sans fuite et une compatibilité avec l'infrastructure industrielle standard de manipulation des gaz.
Applications
| Application | Description | Avantage clé |
|---|---|---|
| Croissance du graphène | Synthèse CVD de graphène à grande surface sur des feuilles de cuivre ou de nickel enroulées autour du tube intérieur. | Haute uniformité et production évolutive pour les électrodes transparentes. |
| R&D sur les électrodes flexibles | Revêtement de couches minces sur des feuilles métalliques pour une utilisation dans la recherche sur les batteries flexibles et les supercondensateurs. | Contrôle précis de l'épaisseur du film et de l'adhérence sur les substrats métalliques. |
| Dichalcogénures de métaux de transition | Synthèse de MoS2, WS2 et d'autres semi-conducteurs 2D utilisant le transport de vapeur contrôlé. | La configuration à double zone permet un contrôle indépendant des températures du précurseur et du substrat. |
| Synthèse de nanotubes de carbone | Croissance de réseaux de nanotubes de carbone alignés ou aléatoires sur diverses surfaces catalytiques. | Le traitement thermique rapide via le mécanisme coulissant permet un contrôle précis de la morphologie des tubes. |
| Dépôt de phosphore | Chauffage indépendant des sources de phosphore en amont tout en maintenant les échantillons cibles en aval. | Dépôt uniforme et réaction chimique profonde dans des structures 3D complexes. |
| Fabrication de nano-parois creuses | Préparation de structures à base de phosphure de cobalt pour des applications catalytiques à haute activité. | Maintient une activité catalytique élevée grâce à un contrôle uniforme de la composition. |
| Études de trempe thermique | Refroidissement rapide des échantillons des hautes températures à la température ambiante en faisant glisser le four. | Permet l'étude des phases à haute température et de la cinétique de solidification rapide. |
| CVD de revêtement protecteur | Dépôt de couches protectrices en céramique ou métalliques sur des composants industriels. | L'environnement à haut vide garantit une grande pureté et une adhérence supérieure du revêtement. |
Spécifications techniques
| Catégorie de spécification | Paramètre | TU-RT12-S (Zone simple) | TU-RT12-D (Zone double) |
|---|---|---|---|
| Structure du four | Matériau d'isolation | Fibre Al2O3 de haute pureté | Fibre Al2O3 de haute pureté |
| Matériau du tube | Quartz fondu de haute pureté | Quartz fondu de haute pureté | |
| Dimensions du tube extérieur | DE 100 x DI 96 x 1400 mm | DE 100 x DI 96 x 1400 mm | |
| Dimensions du tube intérieur | DE 80 x DI 75 x 1800 mm | DE 80 x DI 75 x 1800 mm | |
| Mécanisme coulissant | Rail manuel avec pince d'arrêt | Rails coulissants bidirectionnels | |
| Performance de température | Température de fonctionnement max. | 1200°C | 1200°C |
| Température continue | 1100°C | 1100°C | |
| Précision de la température | ±1°C | ±1°C | |
| Longueur de la zone de chauffage | 440 mm | 200 mm + 200 mm (400 mm au total) | |
| Zone de température constante | 120 mm (±1°C) | 250 mm (si les zones sont synchronisées) | |
| Système de gaz et de vide | Canal MFC 1 | 0 ~ 100 SCCM | 0 ~ 100 SCCM |
| Canal MFC 2 | 0 ~ 200 SCCM | 0 ~ 200 SCCM | |
| Canal MFC 3 | 0 ~ 200 SCCM | 0 ~ 200 SCCM | |
| Canal MFC 4 | 0 ~ 500 SCCM | 0 ~ 500 SCCM | |
| Réservoir de mélange de gaz | 80 mL | 80 mL | |
| Niveau de vide | 10^-2 Torr (Mécanique) | 10^-2 Torr (Mécanique) | |
| Raccords à vide | Sortie KF25 | Sortie KF25 | |
| Contrôle et électricité | Type de contrôleur | PID 30 segments avec RS485 | Contrôleurs PID doubles 30 segments |
| Port de communication | RS485 | RS485 | |
| Tension | 208-240VAC, 50/60Hz | 208-240VAC, 50/60Hz | |
| Consommation d'énergie | 2.5 KW (Disjoncteur 20A) | 4.0 KW (Disjoncteur 50A) | |
| Connexion électrique | Câble de 10 pieds (sans prise) | Câble de 10 pieds (sans prise) | |
| Système de refroidissement | Refroidissement des brides | Chemises refroidies par eau | Chemises refroidies par eau |
| Refroidissement interne | Ventilateurs montés en bas | Ventilateurs montés en bas |
Pourquoi choisir le TU-RT12
- Ingénierie supérieure pour la recherche sur le graphène : La conception à double tube est spécifiquement optimisée pour l'enroulement de feuilles de type rouleau à rouleau, offrant la configuration la plus efficace pour la synthèse de graphène à grande surface et de matériaux 2D disponible à l'échelle du laboratoire.
- Agilité thermique inégalée : La conception du four coulissant offre aux chercheurs la capacité critique d'atteindre des vitesses de refroidissement ultra-rapides ou de faire passer instantanément les échantillons entre les zones de température, ce qui est vital pour contrôler la croissance des grains et la pureté de la phase.
- Intégration clé en main du gaz et du vide : Contrairement aux configurations modulaires qui nécessitent un assemblage important, ce système arrive avec une station MFC à 4 canaux entièrement intégrée et une station de pompe à vide correspondante, garantissant un contrôle de l'atmosphère de haute pureté dès le premier jour.
- Construit pour un usage industriel à long terme : Du chariot mobile robuste aux brides en acier inoxydable de haute qualité et à l'isolation Al2O3, chaque composant est sélectionné pour sa durabilité et ses performances constantes dans les environnements de R&D à cycle de service élevé.
- Précision et personnalisabilité : Avec des options pour un contrôle à zone simple ou double et la possibilité d'intégrer des contrôleurs Eurotherm ou des configurations de gaz personnalisées, ce système peut être adapté aux exigences exactes de votre processus CVD spécifique.
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