Four RTP
Four tubulaire coulissant double 1200°C max avec brides de tube de 50 mm pour CVD
Numéro d'article: TU-RT05
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Présentation du produit
Ce système coulissant à double zone haute performance représente une avancée majeure dans le traitement thermique pour la recherche sur les matériaux avancés. Conçu spécifiquement pour les applications de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et de transport physique en phase vapeur (PVT), l'équipement dispose de deux unités de chauffage indépendantes montées sur un rail coulissant de précision. Cette configuration permet un contrôle sans précédent des gradients de température et des cycles thermiques rapides, permettant aux chercheurs d'atteindre des profils de synthèse complexes impossibles avec des systèmes fixes. En déplaçant les zones de chauffage par rapport au tube de traitement, les utilisateurs peuvent créer des points chauds localisés pour l'évaporation des précurseurs tout en maintenant une température distincte pour le dépôt sur substrat.
Conçue pour les exigences de la R&D industrielle et des environnements de laboratoire de semi-conducteurs, l'unité facilite la production de couches minces de haute qualité, de matériaux 2D et de nanostructures. Sa principale proposition de valeur réside dans sa polyvalence : il fonctionne comme un four à double zone pour une croissance à gradient contrôlé ou comme un outil de trempe thermique à haute vitesse pour l'étude des transitions de phase. Les industries cibles incluent l'aérospatiale, le stockage d'énergie (en particulier le développement de cellules solaires à pérovskite) et la microélectronique, où la précision et la répétabilité sont les fondements d'une innovation réussie.
Conçu avec un accent sur la fiabilité à long terme, le système utilise une structure robuste en acier à double paroi pour assurer la sécurité externe et l'efficacité thermique. Les rails coulissants robustes sont conçus pour un mouvement fluide et constant, même après des milliers de cycles à haute température. Chaque composant, des éléments chauffants en alliage Fe-Cr-Al dopé aux brides hermétiques en acier inoxydable, est sélectionné pour résister aux conditions exigeantes des environnements sous vide poussé et de gaz corrosifs. Cet engagement envers l'excellence en ingénierie garantit que l'équipement offre des performances constantes, jour après jour, dans les scénarios de recherche les plus difficiles.
Caractéristiques principales
- Contrôle indépendant à double zone : Deux unités de four distinctes, chacune avec une zone de chauffage de 200 mm, permettent une programmation PID indépendante. Cela permet la gestion simultanée des températures de sublimation des précurseurs et de croissance du substrat, ce qui est essentiel pour les recettes CVD complexes.
- Système de rail coulissant de précision : L'équipement est monté sur un système de double rail coulissant de 1200 mm. Cela permet aux opérateurs de déplacer manuellement ou (en option) automatiquement les fours sur une distance de 400 mm, offrant un mécanisme physique pour les changements de température rapides et la trempe.
- Dynamique thermique avancée : En éloignant le four chauffé de l'emplacement de l'échantillon, le système peut atteindre des vitesses de chauffage et de refroidissement allant jusqu'à 100°C/min. Cette capacité de traitement thermique rapide (RTP) est essentielle pour contrôler la taille des grains et la structure cristalline dans les couches minces avancées.
- Éléments chauffants haute performance : Équipée d'éléments en alliage Fe-Cr-Al dopés au molybdène, l'unité offre une performance de chauffage stable et durable jusqu'à 1200°C, garantissant une longue durée de vie même en fonctionnement continu à haute température.
- Brides à vide hermétiques : Des brides à vide en acier inoxydable avec jauges intégrées et supports robustes sont fournies en standard. Celles-ci assurent un environnement étanche, supportant des niveaux de vide jusqu'à 10E-5 torr lorsqu'elles sont couplées à une pompe moléculaire.
- Automatisation PID programmable : Chaque zone est régie par un contrôleur automatique doté de 30 segments programmables. Cela permet un contrôle précis des rampes, des temps de maintien et des courbes de refroidissement, réduisant le risque d'erreur humaine lors de cycles complexes.
- Protections de sécurité intégrées : Le système comprend des alarmes de surchauffe intégrées et des fonctions d'arrêt automatique. La conception du boîtier en acier à double paroi intègre un refroidissement par air pour maintenir la surface du four à une température sûre au toucher pendant le fonctionnement.
- Expansion modulaire du système : L'équipement est conçu pour évoluer avec vos besoins de recherche. Il peut être facilement mis à niveau avec des contrôleurs de débit massique (MFC) pour une distribution précise des gaz, des générateurs de plasma RF pour le PECVD, ou des kits de rails motorisés pour des cycles de glissement automatisés.
Applications
| Application | Description | Avantage clé |
|---|---|---|
| Synthèse de pérovskite | Contrôle précis des zones d'évaporation et de dépôt de MAI et d'halogénure de plomb. | Ajuste finement la taille des grains et l'uniformité du film pour l'efficacité solaire. |
| Croissance de matériaux 2D | Croissance de graphène, MoS2 et WS2 par dépôt chimique en phase vapeur sur divers substrats. | Permet d'obtenir des films monocouches de haute qualité et de grande surface avec des résultats reproductibles. |
| Trempe thermique | Déplacement rapide du four pour atteindre des vitesses de refroidissement de 100°C/min. | Verrouille les phases à haute température et empêche la croissance des grains pendant le refroidissement. |
| Sublimation/Purification | Séparation des matériaux en fonction de leurs températures d'évaporation et de condensation distinctes. | Produit des précurseurs de haute pureté pour la fabrication de semi-conducteurs. |
| Fabrication de nanofils | Croissance VLS (Vapeur-Liquide-Solide) nécessitant des températures de source et de catalyseur distinctes. | Permet un contrôle précis de la morphologie et de la longueur des nanofils. |
| Traitement thermique sous vide | Recuit ou relaxation des contraintes des matériaux sous atmosphère contrôlée ou sous vide. | Empêche l'oxydation et la contamination des alliages industriels sensibles. |
Spécifications techniques
| Paramètre | Spécifications pour TU-RT05 |
|---|---|
| Structure du four | Unités doubles coulissantes en acier à double paroi sur rails de 1200 mm |
| Température de travail max. | 1200°C (< 1 heure) |
| Température de travail continue | 1100°C |
| Distance de glissement max. | 400 mm (Manuel en standard ; Motorisé en option) |
| Longueur de la zone de chauffage | 200 mm (8") par four (400 mm au total) |
| Zone de température constante | 60 mm (+/- 3°C @ 800°C) par four |
| Vitesse de chauffage/refroidissement max. | ~100°C/min (atteinte par le glissement du four) |
| Vitesse de chauffage standard | 15°C/sec (RT-150°C) à 0,5°C/sec (800°C-1000°C) |
| Vitesse de refroidissement standard | 15°C/sec (1000-950°C) à 0,5°C/sec (400°C-300°C) |
| Éléments chauffants | Alliage Fe-Cr-Al dopé au Mo |
| Matériau/Taille du tube | Tube en quartz ; 50 mm D.E. x 44 mm D.I. x 1500 mm L |
| Tube en option | Tube en alliage haute température S310 pour haute pression (100 PSI) |
| Brides à vide | Acier inoxydable avec jauge à vide et support robuste |
| Niveau de vide | 10E-2 torr (pompe mécanique) à 10E-5 torr (pompe moléculaire) |
| Contrôleur de température | Contrôle automatique PID double, 30 segments programmables |
| Précision de la température | +/- 1°C |
| Alimentation | AC 208-240V monophasé, 50/60 Hz, 20A total |
| Puissance totale | 2,5 KW |
| Conformité | Certifié CE (NRTL/CSA disponible sur demande) |
Pourquoi choisir le TU-RT05
- Flexibilité thermique supérieure : La conception à double glissement offre un niveau de contrôle de processus que les fours fixes ne peuvent égaler, notamment pour la trempe rapide et le CVD à gradient contrôlé.
- Ingénierie de précision : Construit avec des composants haut de gamme, notamment des éléments en alliage dopé au Mo et des brides en acier inoxydable de haute qualité, garantissant l'intégrité du vide poussé et la stabilité de la température.
- Évolutivité pérenne : Que vous ayez besoin d'une configuration CVD simple aujourd'hui ou d'un système PECVD entièrement automatisé demain, cette unité prend en charge des mises à niveau transparentes avec des MFC et des générateurs RF.
- Efficacité de refroidissement inégalée : La séparation physique de la chambre de chauffage et du tube de traitement permet un refroidissement rapide réel, critique pour la recherche métallurgique et sur les semi-conducteurs.
- Fiabilité éprouvée : Avec des milliers d'unités en service dans le monde, notre conception est la norme de l'industrie en matière de durabilité et de cohérence opérationnelle dans la recherche à haute température.
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