Four RTP
Four tubulaire coulissant double 1200°C avec deux tubes et brides pour procédés PECVD
Numéro d'article: TU-RT11
Livraison: Contactez-nous pour obtenir les détails d'expédition. Profitez-en Garantie d'expédition dans les délais.
Présentation du produit
Ce système de four coulissant double haute température représente une solution sophistiquée pour le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) et le traitement thermique rapide. En intégrant deux unités de chauffage indépendantes sur un rail coulissant de précision, l'équipement permet un contrôle inégalé des gradients thermiques et des vitesses de transition. Il est spécifiquement conçu pour répondre aux exigences rigoureuses des chercheurs en science des matériaux qui ont besoin de réactions en phase vapeur précises et d'un dépôt de couches minces de haute qualité à travers diverses zones thermiques.
Principalement utilisé dans la fabrication de semi-conducteurs, la synthèse de nanomatériaux et la recherche sur les revêtements avancés, ce système excelle dans les environnements où un chauffage et un refroidissement rapides sont essentiels pour obtenir des phases matérielles spécifiques. La configuration à double four permet la séparation physique des zones d'évaporation du précurseur et de dépôt sur le substrat, une exigence clé pour la croissance de matériaux complexes comme les pérovskites ou les cristaux 2D. Les secteurs cibles comprennent l'aérospatiale, le stockage d'énergie et l'optoélectronique, où la pureté des matériaux et l'intégrité structurelle sont primordiales pour le développement des technologies de nouvelle génération.
Conçue pour une fiabilité de qualité industrielle, l'unité utilise du quartz de haute pureté et une isolation thermique avancée pour maintenir une stabilité thermique exceptionnelle. Le mécanisme coulissant robuste et la source de plasma RF intégrée garantissent que l'équipement fonctionne de manière cohérente lors de cycles de fonctionnement continu exigeants. Ce système fournit une plateforme stable et reproductible pour la synthèse à haute température, offrant aux laboratoires industriels et universitaires la confiance nécessaire pour exécuter des protocoles expérimentaux complexes sans compromettre la précision ou la sécurité.
Caractéristiques principales
- Système coulissant dynamique à double four : L'équipement comprend deux fours indépendants montés sur un rail coulissant en acier chromé de 1200 mm. Cela permet aux chambres de chauffage d'être déplacées manuellement jusqu'à 400 mm, permettant aux utilisateurs de basculer entre les zones d'évaporation de source et de dépôt ou d'obtenir une trempe thermique rapide en éloignant la source de chaleur de l'échantillon.
- Intégration de plasma RF haute performance : Équipé d'un générateur RF de 13,56 MHz et 300 W avec adaptation automatique, ce système permet le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma. La source de plasma permet une croissance de film à des températures nettement inférieures à celles du CVD traditionnel, préservant l'intégrité des substrats sensibles.
- Capacités de traitement thermique rapide (RTP) : En préchauffant un four et en le faisant glisser sur la zone de traitement, le système peut atteindre des vitesses de chauffage et de refroidissement extrêmes (jusqu'à 15°C/sec dans des plages spécifiques), permettant l'étude de la cinétique à haute température et des processus de recuit rapide.
- Régulation de température PID de précision : Chaque unité de four est contrôlée par un contrôleur automatique PID dédié doté de 30 segments programmables. Cela garantit une précision de zone de température constante de ±1°C, offrant la cohérence requise pour le dépôt chimique en phase vapeur sensible.
- Sécurité et durabilité avancées : Les fours utilisent une structure en acier à double couche avec refroidissement par air pour maintenir une basse température de surface externe. Les alarmes de surchauffe intégrées et les systèmes de protection permettent un fonctionnement sûr et sans surveillance pendant les longs cycles de dépôt.
- Environnement de matériau de haute pureté : Le système comprend un tube en quartz fondu de haute pureté de 50 mm de diamètre extérieur et des brides à vide en acier inoxydable. Cette configuration garantit un environnement propre et étanche au vide, adapté à la synthèse de matériaux de haute pureté et au traitement à basse pression.
- Contrôle polyvalent du gradient thermique : La conception à double zone permet un chauffage indépendant des précurseurs et des substrats. Ceci est essentiel pour les matériaux ayant des pressions de vapeur différentes, garantissant un équilibre stoechiométrique dans la zone de réaction.
- Options d'extension modulaires : Le système est conçu pour évoluer avec les besoins de la recherche, prenant en charge des rails coulissants motorisés en option, des systèmes de mélange de gaz multicanaux et des modules de contrôle basés sur PC pour l'enregistrement automatique des données et la gestion des profils.
Applications
| Application | Description | Avantage clé |
|---|---|---|
| Cellules solaires à pérovskite | Contrôle indépendant des zones d'évaporation MAI et PbX2 pendant le dépôt. | Ajustement précis de l'épaisseur du film et de l'uniformité de la taille des grains. |
| Synthèse de matériaux 2D | Croissance CVD à grande échelle de graphène, MoS2 et autres dichalcogénures de métaux de transition. | Structure cristalline de haute qualité avec des paramètres de croissance reproductibles. |
| Nanotubes de carbone (CNT) | Croissance PECVD à basse température sur divers substrats utilisant des catalyseurs métalliques. | Densité contrôlée, alignement et dommages thermiques réduits sur les substrats. |
| Couches minces semi-conductrices | Dépôt de couches de passivation en nitrure de silicium ou oxyde de silicium. | Propriétés diélectriques et adhérence supérieures obtenues avec des budgets thermiques inférieurs. |
| Microcristaux CsPbBr3 | Fourniture de gradients de température distincts (par exemple, 780°C et 465°C) pour des précurseurs disparates. | Rapport stoechiométrique idéal et pureté de phase dans la zone de réaction. |
| Études de trempe thermique | Déplacement rapide de la chambre de chauffage pour induire des chutes de température soudaines. | Capacité à figer les phases à haute température pour l'analyse métallurgique. |
| Revêtements optoélectroniques | Dépôt d'oxydes conducteurs transparents et de filtres interférentiels multicouches. | Clarté optique exceptionnelle et épaisseur de film constante sur tout le lot. |
Spécifications techniques
| Paramètre | Détails pour TU-RT11 |
|---|---|
| Numéro d'article | TU-RT11 |
| Structure du four | Unités doubles indépendantes, acier double couche avec refroidissement par air |
| Température de travail max. | 1200°C (< 1 heure) |
| Température de travail continue | 1100°C |
| Longueur de la zone de chauffage | 200 mm par four (400 mm au total) |
| Zone de température constante | 60 mm (±1°C @ 400-1200°C) |
| Mécanisme coulissant | Rail manuel en acier chromé, longueur 1200 mm, course 400 mm |
| Vitesse de chauffage (RT-150°C) | 15°C/sec |
| Vitesse de chauffage (150-250°C) | 10°C/sec |
| Vitesse de chauffage (250-350°C) | 7°C/sec |
| Vitesse de chauffage (350-500°C) | 4°C/sec |
| Vitesse de refroidissement (1000-950°C) | 15°C/sec |
| Vitesse de refroidissement (950-900°C) | 10°C/sec |
| Vitesse de refroidissement (500-400°C) | 1°C/sec |
| Générateur RF plasma | 13,56 MHz, 5-300W réglable, stabilité ± 1% |
| Adaptation RF | Automatique |
| Tube de traitement | Quartz fondu de haute pureté, 50 mm D.E. x 44 mm D.I. x 1500 mm L |
| Contrôle de température | Contrôleurs PID doubles, 30 segments, précision ±1°C |
| Thermocouple | Deux thermocouples de type K |
| Niveau de vide | Limité à 1000°C pour le quartz ; < 0,2 bar / 3 psi |
| Exigences d'alimentation | AC 120V ou 208-240V monophasé, 50/60 Hz, 2,5 KW au total |
| Conformité | Certifié CE (générateur de plasma et four) |
Pourquoi choisir le TU-RT11
- Polyvalence avancée à double zone : Contrairement aux fours tubulaires standard, la conception coulissante double du TU-RT11 permet un traitement thermique complexe à plusieurs étapes et une gestion indépendante des précurseurs, ce qui est essentiel pour la science des matériaux moderne.
- Agilité thermique supérieure : La capacité d'atteindre des vitesses de refroidissement et de chauffage allant jusqu'à 15°C/sec fournit aux chercheurs un outil capable de simuler des environnements de traitement thermique rapide (RTP) et de trempe industriels.
- Ingénierie de précision : Avec une adaptation RF automatique et une précision de température de ±1°C, ce système élimine les variables dans le PECVD, garantissant que votre dépôt de couches minces est reproductible et de la plus haute qualité.
- Conformité et sécurité complètes : Chaque unité est certifiée CE et construite avec des structures de sécurité à double couche, garantissant un environnement de laboratoire sûr même pendant les opérations RF haute température et haute puissance.
- Solutions personnalisables : Des tubes en alliage pour les applications haute pression au coulissement motorisé et à la distribution de gaz multicanaux, nous offrons une personnalisation étendue pour adapter l'équipement à vos objectifs de recherche spécifiques.
Contactez notre équipe de vente technique dès aujourd'hui pour un devis détaillé ou pour discuter de la manière dont nous pouvons personnaliser ce système PECVD haute performance pour vos besoins de recherche spécifiques.
RICHIEDI UN PREVENTIVO
Il nostro team di professionisti ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitate a contattarci!
Produits associés
Four tubulaire coulissant double 1200°C max avec brides de tube de 50 mm pour CVD
Ce four tubulaire coulissant double à 1200°C est équipé de brides de tube en quartz de 50 mm, conçues spécifiquement pour les procédés CVD de haute précision. Accélérez la R&D industrielle grâce à un chauffage et un refroidissement rapides par glissement, garantissant une synthèse des matériaux supérieure, des résultats constants et une performance optimale pour le dépôt de couches minces.
Four à tube 4 pouces haute température 1200°C avec bride coulissante pour systèmes CVD
Ce four à tube 4 pouces haute température 1200°C est équipé de brides coulissantes pour un chargement rapide des échantillons et une compatibilité avec le vide poussé. Il est conçu pour les procédés CVD de précision et la recherche avancée sur les matériaux, offrant des performances exceptionnellement fiables dans des environnements de laboratoire exigeants.
Four tubulaire coulissant à double zone de température 1200°C pour la croissance de matériaux 2D et la synthèse TCVD
Optimisez la synthèse avancée de matériaux 2D grâce à ce système à double four 1200°C doté d'une zone de chauffage coulissante pour un refroidissement ultra-rapide, d'un contrôle de température PID indépendant et d'un traitement au quartz de haute pureté, conçu pour le dépôt chimique en phase vapeur thermique (TCVD) de précision et la R&D.
Four à tube haute température 1500°C avec brides coulissantes et diamètre extérieur 50 mm pour le traitement thermique rapide : chauffage et refroidissement accélérés
Obtenez un traitement thermique rapide avec ce four à tube maximum 1500°C équipé de brides coulissantes manuelles pour un chauffage et un refroidissement accélérés. Conçu pour la recherche en science des matériaux, ce système de haute précision offre des performances exceptionnelles sous vide et une surveillance double contrôleur pour les applications de laboratoire les plus exigeantes.
Four à tube à deux zones à glissement automatique haute température 1200°C pour la croissance de dichalcogénures de métaux de transition 2D et la recherche sur la sublimation des matériaux
Maîtrisez la synthèse de matériaux 2D avec ce système de four double à glissement automatique à 1200°C conçu pour la croissance de TMD. Il dispose de zones indépendantes de sublimation et de dépôt pour un contrôle thermique précis et des vitesses de refroidissement rapides, afin d'obtenir des résultats de recherche de haute qualité sur la production de cristaux en couches minces.
Four tubulaire coulissant haute température 1200°C de 5 pouces pour le traitement thermique rapide (RTP) et le recuit de plaquettes
Accélérez vos recherches sur les matériaux avec ce four tubulaire coulissant de 1200°C conçu pour le traitement thermique rapide. Doté d'un tube en quartz de 5 pouces et de doubles contrôleurs PID, il offre des vitesses de chauffage et de refroidissement précises pour les applications avancées en semi-conducteurs.
Four tubulaire coulissant 1200°C max avec tube en quartz de 80 mm de diamètre extérieur et brides à vide pour traitement thermique rapide, chauffage et refroidissement rapides
Réalisez des traitements thermiques rapides avec ce four tubulaire coulissant de 1200°C max. Doté d'un tube en quartz de 80 mm de diamètre extérieur et d'un mécanisme coulissant manuel, il offre des vitesses de chauffage et de refroidissement exceptionnelles allant jusqu'à 100°C par minute pour la recherche avancée sur les matériaux et la R&D industrielle.
Four tubulaire multi-positions 1100°C pour la recherche sur les matériaux en laboratoire et le traitement thermique industriel avancé
Ce four tubulaire multi-positions offre un chauffage de précision à 1100°C avec une flexibilité d'orientation verticale et horizontale. Conçu pour la recherche avancée sur les matériaux, il dispose d'un contrôleur PID à 30 segments et d'une isolation fibreuse de haute pureté pour une stabilité thermique exceptionnelle et des performances fiables en laboratoire industriel.
Four tubulaire à haute température 1700°C en alumine avec zone chauffée de 18 pouces et brides d'étanchéité sous vide
Ce four tubulaire professionnel de 1700°C dispose d'une zone chauffée de 45 cm (18 pouces) et de tubes en alumine de haute pureté pour la recherche avancée sur les matériaux. Conçu pour le vide et les atmosphères contrôlées, il offre une stabilité thermique et une fiabilité exceptionnelles pour les processus de laboratoire industriel exigeants.
Four vertical coulissant haute température 1200°C avec capacités hybrides de traitement thermique rapide et tube sous vide
Maximisez l'efficacité de la recherche avec ce four vertical coulissant 1200°C doté de capacités de traitement thermique rapide. Ce système hybride offre une double fonctionnalité four à chambre et tube sous vide, offrant un contrôle de température précis et un chauffage ou refroidissement ultra-rapide pour les applications avancées en science des matériaux.
Four tubulaire automatisé 1200 C pour la recherche sur les matériaux IA avec diamètre extérieur de 6 pouces et bride coulissante
Accélérez la découverte de matériaux avec ce four tubulaire automatisé premium conçu pour la recherche pilotée par l'IA. Doté d'un diamètre de 6 pouces et d'un chauffage double zone, ce système permet une intégration robotique et une synthèse continue 24h/24 et 7j/7 pour des applications de R&D industrielle et de laboratoire à haut débit.
Four tubulaire divisé haute température 1200°C avec brides à vide articulées et tube en quartz de 4 pouces pour la recherche en laboratoire
Ce four tubulaire divisé de 1200°C est doté de brides à vide articulées et d'un tube en quartz de quatre pouces pour un chargement simplifié des échantillons. Conçu pour un traitement thermique précis, il offre une uniformité de température exceptionnelle et des performances de vide optimales pour les applications avancées en science des matériaux et en R&D industrielle.
Four tubulaire coulissant 1200°C pour le traitement thermique rapide et la croissance de graphène par CVD avec une capacité de 100 mm de diamètre extérieur
Accélérez vos recherches avec ce four tubulaire coulissant à 1200°C conçu pour le traitement thermique rapide et les applications CVD. Doté d'un contrôle PLC de haute précision et d'un rail coulissant motorisé pour des cycles de chauffage et de refroidissement ultra-rapides dans les laboratoires de science des matériaux avancés et de R&D industrielle.
Four tubulaire sous vide compact à haute température 1800°C avec tube en alumine de 60 mm de diamètre extérieur et éléments chauffants Kanthal MoSi2
Ce four tubulaire sous vide compact haute température 1800°C est équipé d'éléments chauffants Kanthal de qualité supérieure et d'un tube en alumine de 60 mm de diamètre extérieur. Conçu pour la recherche sur les matériaux et le frittage, il permet un traitement thermique de précision sous vide ou en atmosphère contrôlée pour la R&D en laboratoire.
Four hybride à moufle et à tube haute température avec capacité de vide et contrôle PID
Ce four hybride à moufle et à tube de 1200°C offre une solution 2-en-1 polyvalente pour le traitement précis des matériaux. Doté d'une chambre de 6x6x7 pouces et d'options de tubes en quartz, il prend en charge la R&D sous vide ou sous atmosphère, offrant une fiabilité exceptionnelle pour les équipements de traitement thermique en laboratoire.
Four à tubes de laboratoire multi-orientation à dix zones pour traitement thermique à gradient de température élevée de 1200°C
Optimisé pour les profils thermiques complexes, ce four à dix zones offre un contrôle précis à 1200°C en orientation horizontale et verticale. Idéal pour la R&D sur les matériaux nécessitant des gradients de température à grande échelle et un traitement fiable sous atmosphère contrôlée sur un système d'une longueur de chauffe de 1470 mm.
Four tubulaire coulissant automatisé pour chauffage et refroidissement rapides, diamètre extérieur 2 pouces, 1100°C max.
Optimisez la recherche sur les matériaux avec ce four tubulaire coulissant automatisé haute performance. Offrant un chauffage et un refroidissement ultra-rapides de 100°C par minute, ce système de 1100°C assure un traitement thermique précis pour les semi-conducteurs, la nanotechnologie et les applications de R&D industrielle nécessitant des cycles thermiques rapides.
Four tubulaire 1100°C avec bride à vide et contrôleur de température programmable pour la science des matériaux et le traitement thermique industriel
Optimisez vos traitements thermiques en laboratoire avec ce four tubulaire polyvalent de 1100°C, doté d'un contrôleur PID programmable et de brides à vide poussé. Conçu pour la synthèse précise de matériaux et la R&D industrielle, il offre une flexibilité d'orientation double et une uniformité de température constante pour les applications exigeantes.
Four à tube 1200°C avec glissement magnétique interne de l'échantillon pour dépôt par vaporisation directe et traitement thermique rapide
Ce four à tube professionnel 1200°C est doté d'un mécanisme manuel de glissement magnétique d'échantillon spécialement conçu pour le dépôt par vaporisation directe et le traitement thermique rapide. Il assure un contrôle thermique précis et une croissance de matériau constante pour les applications exigeantes de recherche et de science des matériaux industriels.
Four de laboratoire tubulaire de paillasse haute température 1700C avec zone de chauffage de 5 pouces, tube en alumine de haute pureté et brides d’étanchéité sous vide
Ce four tubulaire haute température 1700C offre une zone de chauffage de cinq pouces et un tube en alumine pour la recherche avancée sur les matériaux. Obtenez un contrôle précis de l’atmosphère et des niveaux de vide jusqu’à 50 mTorr pour le frittage, le recuit et le dépôt chimique en phase vapeur.
