Four rotatif
Four tubulaire rotatif à deux zones pour revêtement CVD de poudre et synthèse de matériaux cœur-coquille 1100°C
Numéro d'article: TU-X09
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Présentation du produit



Ce four tubulaire rotatif à deux zones haute performance est un système de traitement thermique spécialisé conçu pour la synthèse et le traitement précis des matériaux en poudre. Conçu pour fonctionner à des températures allant jusqu'à 1100°C, l'équipement intègre un tube réacteur rotatif avec une configuration à double zone de chauffage, permettant aux chercheurs et aux ingénieurs industriels d'effectuer des processus complexes de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et de calcination. Le système est particulièrement optimisé pour le développement de matériaux pour batteries à haute énergie, où le revêtement uniforme des poudres et la création de structures cœur-coquille sont essentiels à la performance électrochimique.
Dans la R&D industrielle et la production pilote, la valeur principale de cette unité réside dans sa capacité à maintenir un équilibre thermique dynamique. En utilisant un tube en quartz rotatif de 5 pouces équipé de pales de mélange intégrées, l'équipement garantit que chaque particule du lot traité est exposée aux mêmes conditions thermiques et atmosphériques. Cela élimine les problèmes courants de zones mortes et de chauffage inégal associés aux conceptions de fours statiques, ce qui en fait un outil essentiel pour la synthèse de graphite incorporant des nanocouches de silicium, la calcination de matériaux inorganiques et la préparation de catalyseurs avancés.
Construit avec un accent sur la durabilité et la répétabilité des processus, ce système de four présente une conception mécanique robuste associée à un contrôle atmosphérique avancé. L'intégration de joints à fluide magnétique de haute précision permet un fonctionnement fiable sous atmosphères contrôlées et conditions de vide, offrant la stabilité requise pour les applications scientifiques exigeantes. Les équipes d'approvisionnement et les responsables de laboratoire peuvent compter sur cet équipement pour obtenir des résultats constants et à haut rendement dans des environnements de recherche sur les matériaux exigeants, de l'optimisation des batteries lithium-ion à la production de poudres céramiques de haute pureté.
Caractéristiques principales
- Chauffage de précision à double zone : Le système dispose de deux zones de chauffage contrôlées indépendamment avec une longueur de chauffage combinée de 280 mm, permettant un gradient de température précis ou des zones isothermes étendues jusqu'à 1100°C.
- Traitement rotatif dynamique : Équipée d'un entraînement rotatif à vitesse variable (0-10 tr/min), l'unité assure un culbutage continu des matériaux en poudre, maximisant l'exposition de la surface à l'atmosphère de réaction et à la source de chaleur.
- Pales de mélange intégrées : Le tube en quartz fondu de 5 pouces comprend quatre pales de mélange internes qui facilitent le levage et le retournement mécaniques des poudres, assurant une homogénéité totale pendant le processus de CVD ou de calcination.
- Étanchéité avancée par fluide magnétique : Pour maintenir des atmosphères de haute pureté et l'intégrité du vide, le système utilise une paire de joints rotatifs en ligne à fluide magnétique, garantissant des taux de fuite inférieurs à 5 mtorr par minute.
- Tour de contrôle PID autonome : Une unité de contrôle dédiée abrite deux contrôleurs PID programmables à 30 segments, offrant une précision de température de ±1°C et la capacité de gérer des profils thermiques complexes à distance du corps du four.
- Gestion polyvalente de l'atmosphère : Le système est conçu pour un traitement sous atmosphère contrôlée, avec des raccords de tube de 1/4" pour l'entrée et la sortie de gaz, le rendant compatible avec divers gaz précurseurs et environnements inertes.
- Débit à haut volume : Avec un volume de culbutage de 3000 ml et un volume de traitement de poudre effectif allant jusqu'à 750 ml, cet équipement fait le pont entre l'expérimentation à l'échelle du laboratoire et la production à l'échelle pilote.
- Durabilité accrue des matériaux : Bien que l'unité standard utilise un tube en quartz de haute pureté, un tube métallique SS310 en option est disponible pour des applications spécialisées à haute pression ou chimiquement agressives jusqu'à 900°C.
- Intégration logicielle intelligente en option : Le système peut être équipé d'un logiciel de contrôle de température basé sur Labview, permettant l'enregistrement des données, la surveillance à distance et la gestion automatisée des recettes pour des traitements thermiques standardisés.
- Sécurité industrielle certifiée : Cet équipement est certifié CE, avec une certification NRTL (UL61010) ou CSA en option disponible pour répondre aux exigences de sécurité strictes des institutions de recherche et des installations industrielles mondiales.
Applications
| Application | Description | Avantage clé |
|---|---|---|
| Synthèse d'anode de batterie | Synthèse évolutive de graphite incorporant des nanocouches de silicium pour les batteries Li-ion à haute énergie. | Densité énergétique et stabilité de cyclage améliorées grâce à un dépôt uniforme de couches de Si. |
| Revêtement de particules cœur-coquille | Évaporation simultanée du précurseur et croissance du substrat dans un environnement rotatif pour créer des structures cœur-coquille. | Assure une encapsulation complète et uniforme du matériau central avec une épaisseur de coquille précise. |
| Développement de films de pérovskite | Contrôle indépendant de l'évaporation du précurseur et des zones de substrat pour un dépôt en phase vapeur précis. | Ajustement fin de la taille des grains et de l'uniformité du film pour une efficacité accrue des cellules solaires. |
| Graphitisation de catalyseur | Traitement thermique de carbone dopé à l'azote et d'amas métal-azote à 1100°C. | Améliore la conductivité électrique et la tolérance au méthanol grâce à un ordonnancement structurel optimisé. |
| Calcination de matériaux inorganiques | Calcination à haute température de poudres céramiques et de pigments inorganiques sous atmosphères contrôlées. | Empêche l'agglomération des particules et assure des propriétés chimiques constantes d'un lot à l'autre. |
| Traitement de poudre CVD | Dépôt chimique en phase vapeur de films minces sur des substrats en poudre de taille micro et nano. | Le mouvement dynamique empêche les effets d'"ombrage", assurant un revêtement à 360 degrés de chaque particule. |
| Synthèse de nanopoudres | Réaction en phase gazeuse et synthèse de nanopoudres spécialisées dans un environnement de tube roulant. | Une efficacité de transfert thermique élevée conduit à des distributions de taille de particules plus étroites. |
Spécifications techniques
| Groupe de paramètres | Détail de la spécification | Valeur / Description |
|---|---|---|
| Identification du modèle | Numéro d'article du produit | TU-X09 |
| Alimentation électrique | Tension d'entrée | 208-240 VAC, Monophasé, 50/60 Hz |
| Consommation d'énergie | 3 kW (ligne électrique de 20 A recommandée) | |
| Performance de chauffage | Température maximale | 1100°C |
| Zones de chauffage | Double zones (contrôlées indépendamment) | |
| Longueur de chauffage | 280 mm au total | |
| Précision de la température | ±1°C | |
| Tube de réaction | Matériau | Quartz fondu (SS310 en option disponible) |
| Dimensions | 5" de diamètre x 1100 mm de longueur | |
| Caractéristiques internes | 4 pales de mélange intégrées | |
| Entraînement rotatif | Plage de vitesse | 0 - 10 tr/min (réglable) |
| Capacité | 3000 ml de volume de culbutage ; <750 ml de volume de poudre effectif | |
| Système de contrôle | Type de contrôleur | Tour autonome avec unités programmables PID doubles |
| Programmation | 30 segments par contrôleur | |
| Capteurs | Deux thermocouples Omega de type K (3 mm de diamètre extérieur) | |
| Atmosphère & Vide | Raccords de vide | Raccords de tube 1/4" avec joints à fluide magnétique |
| Niveau de vide (mécanique) | <1e-2 torr (en utilisant une pompe à palettes rotatives de 156 L/m ou 240 L/m) | |
| Niveau de vide (moléculaire) | <1e-4 torr (en utilisant une pompe turbo de 33 L/s) | |
| Limite de pression | < 3 psig | |
| Taux de fuite | < 5 mtorr / min | |
| Dimensions physiques | Corps du four | 1440 mm (L) x 430 mm (l) x 480 mm (H) |
| Unité de contrôle | 250 mm (L) x 350 mm (l) x 415 mm (H) | |
| Poids à l'expédition | 200 lbs | |
| Conformité | Normes | Certifié CE (NRTL/UL/CSA disponible sur demande) |
Pourquoi choisir le TU-X09
- Uniformité thermique supérieure : La combinaison de la précision à double zone et des pales de mélange mécaniques élimine les gradients thermiques dans le lit de poudre, garantissant que la production en lots répond aux normes de cohérence les plus élevées requises pour la recherche sur les batteries et les semi-conducteurs.
- Intégrité atmosphérique robuste : Utilisant des joints à fluide magnétique avancés, ce système maintient un environnement vierge même pendant la rotation, permettant des processus CVD sensibles qui nécessitent un vide poussé ou des compositions gazeuses spécialisées sans risque de contamination.
- Conception flexible et évolutive : Avec un diamètre de tube généreux de 5 pouces et un volume de culbutage élevé, l'équipement est conçu pour évoluer avec vos besoins de recherche, passant de manière transparente de la découverte de matériaux à la calcination et au revêtement à l'échelle pilote.
- Fiabilité de qualité industrielle : Construit avec des composants de qualité supérieure, notamment des thermocouples Omega et des tours de contrôle PID autonomes, le système est conçu pour une stabilité opérationnelle à long terme dans des environnements de laboratoire exigeants 24h/24 et 7j/7.
- Contrôle complet du processus : Des profils de chauffage programmables à 30 segments à l'intégration Labview en option, l'équipement offre aux chercheurs le contrôle granulaire nécessaire pour perfectionner des recettes de matériaux complexes.
Pour discuter de la manière dont ce système thermique rotatif avancé peut améliorer vos flux de travail de synthèse de matériaux, veuillez contacter notre équipe de vente technique pour un devis formel ou une analyse de configuration personnalisée.
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