Four à tube haute température 1500°C avec brides coulissantes et diamètre extérieur 50 mm pour le traitement thermique rapide : chauffage et refroidissement accélérés

Four RTP

Four à tube haute température 1500°C avec brides coulissantes et diamètre extérieur 50 mm pour le traitement thermique rapide : chauffage et refroidissement accélérés

Numéro d'article: TU-RT03

Température maximale: 1500°C Longueur de la zone de chauffe: 152 mm (6") Capacité de vide: 10E-5 Torr avec pompe turbomoléculaire
Qualité Assurée Fast Delivery Global Support

Livraison: Contactez-nous pour obtenir les détails d'expédition. Profitez-en Garantie d'expédition dans les délais.

Présentation du produit

Image produit 1

Ce système de traitement thermique haute température a été spécifiquement conçu pour combler l'écart entre les fours à tube traditionnels et les unités de traitement thermique rapide (RTP). En intégrant un mécanisme de rail coulissant manuel avec une chambre de chauffage haute performance de 1500°C, l'équipement permet aux chercheurs de déplacer instantanément les tubes de traitement dans la zone chaude et hors de celle-ci. Cette capacité est essentielle pour les applications en science des matériaux où le contrôle de la microstructure dépend de vitesses de chauffage et de refroidissement précises qui dépassent les capacités des systèmes thermiques statiques. Son atout réside dans sa capacité à obtenir des gradients thermiques extrêmes pour une fraction du coût des systèmes RTP automatisés, offrant un outil polyvalent pour la synthèse de matériaux avancés.

Les principales utilisations de cet équipement incluent le développement d'électrolytes solides, le recuit de semi-conducteurs et l'étude des transformations de phase dans les céramiques avancées. Les secteurs cibles vont de l'aérospatiale et du stockage d'énergie à la microélectronique en passant par les laboratoires de R&D industriels. La conception de l'appareil privilégie la flexibilité, acceptant à la fois les tubes en mullite et en quartz pour s'adapter à différentes exigences d'atmosphère et de température. En permettant une insertion rapide dans une chambre préchauffée ou une extraction immédiate pour un refroidissement à l'air forcé, ce système offre l'agilité opérationnelle nécessaire aux flux de travaux expérimentaux itératifs.

La fiabilité de cet équipement est garantie par sa construction robuste et ses composants de haute qualité. Utilisant des éléments chauffants en carbure de silicium (SiC) de qualité 1500°C et des thermocouples doubles de type S, l'appareil assure une performance constante au cours de cycles thermiques exigeants. L'intégration d'un rail double coulissant en acier chromé garantit un mouvement fluide et fiable sur le long terme. Que ce soit en fonctionnement sous vide poussé ou en environnement de gaz inerte, ce four offre la précision et la fiabilité nécessaires à la recherche industrielle à enjeux élevés et à la production de matériaux sensibles à la qualité.

Caractéristiques clés

  • Capacité de traitement thermique rapide : Le rail coulissant intégré permet de déplacer manuellement le tube de traitement dans un four préchauffé pour un chauffage quasi instantané ou de le rétracter pour un refroidissement accéléré, réduisant considérablement les durées de cycle.
  • Gestion de la température à double contrôleur : Deux contrôleurs de température numériques indépendants avec 30 segments programmables gèrent la température du four et surveillent le profil en temps réel de l'échantillon, garantissant une transparence maximale du processus.
  • Éléments chauffants en SiC de précision : Équipé de quatre tiges en carbure de silicium de haute qualité adaptées à 1500°C, le four fournit une énergie thermique fiable et stable pour des opérations continues jusqu'à 1400°C et des utilisations intermittentes à 1500°C.
  • Technologie d'étanchéité sous vide avancée : Doté de brides sous vide en acier inoxydable avec manomètres numériques intégrés, le système peut atteindre des niveaux de vide aussi bas que 10E-5 torr lorsqu'il est associé à une pompe moléculaire, ce qui le rend idéal pour les processus sensibles à l'oxygène.
  • Tubes de traitement interchangeables : L'équipement inclut à la fois un tube en mullite fabriqué aux États-Unis et un tube en quartz de haute pureté, permettant aux utilisateurs de choisir le matériau optimal pour leurs besoins spécifiques de température et de compatibilité chimique.
  • Rétroaction thermique en temps réel : Un thermocouple interne de type S est complété par une sonde secondaire insérée directement dans le tube, fournissant une lecture précise 1:1 de l'environnement thermique réel de l'échantillon.
  • Rail coulissant de qualité industrielle : Le système double rail en acier chromé de 350 mm fournit une interface mécanique stable et fluide pour la translation manuelle du tube lors des transitions thermiques à haute vitesse.
  • Interface de contrôle informatisée : Un port RS485 intégré permet une intégration complète du système avec les logiciels de laboratoire, permettant l'enregistrement automatisé des données et la gestion à distance de recettes thermiques complexes.
  • Architecture de sécurité renforcée : Des alarmes de surchauffe intégrées et des circuits de protection automatique permettent au système de fonctionner en toute sécurité sans surveillance constante, protégeant à la fois l'équipement et l'échantillon.
  • Zone à température constante optimisée : La conception de la zone de chauffage fournit une zone stable de 100 mm avec une précision de ±1°C, garantissant une distribution uniforme de la chaleur sur toute la longueur de l'échantillon.

Applications

Application Description Avantage clé
Électrolytes solides Préparation de poudre d'électrolyte solide LPS par des techniques de refroidissement rapide. Améliore la conductivité ionique en contrôlant les phases de cristallisation pendant le refroidissement.
Recuit de semi-conducteurs Recuit thermique rapide de tranches de silicium ou de semi-conducteurs composés sous atmosphères contrôlées. Minimise la diffusion des dopants tout en activant efficacement les espèces implantées par ions.
Frittage de céramiques Frittage à cycle rapide de céramiques techniques avancées pour limiter la croissance des grains. Produit des composants céramiques de haute densité avec des propriétés mécaniques supérieures.
Transformation de phase Étude des effets de la trempe rapide sur les microstructures métalliques et d'alliages. Permet de capturer les phases métastables grâce à des vitesses de refroidissement élevées.
Recherche CVD / PECVD Sert de base thermique pour les expériences de dépôt chimique en phase vapeur. Fournit un environnement stable sous vide poussé pour une croissance précise de couches minces.
Croissance de nanomatériaux Synthèse de nanotubes de carbone ou de nanofils nécessitant des montées en température précises. Les vitesses de montée élevées facilitent un meilleur contrôle de la cinétique de nucléation et de croissance.
Test de catalyseurs Test de la stabilité thermique et de l'activité des catalyseurs lors de cycles à haute vitesse. Accélère les tests de vieillissement en réduisant le temps entre les étapes thermiques.

Spécifications techniques

Caractéristique Détails des spécifications pour TU-RT03
Numéro de modèle TU-RT03
Structure du four Une bride coulissante simple sur le côté droit ; rail manuel pour la translation du tube ; jauge de vide numérique intégrée
Performance sous vide 10E-5 torr (turbopompe) ; 10E-2 torr (pompe mécanique)
Puissance nominale 2,5 KW (nécessite un disjoncteur 20A)
Tension d'entrée Monophasé AC 208-240V, 50/60 Hz
Température maximale 1500°C
Température de travail continue 1400°C (avec tube en mullite)
Précision de température ± 1°C
Longueur de la zone de chauffage 6" (152 mm)
Zone à température constante 100 mm (±1°C) dans la plage 800 - 1500°C
Éléments chauffants 4 tiges en SiC de qualité 1500°C
Thermocouples Double type S (un pour le contrôle du four, un pour la surveillance de l'échantillon)
Contrôleurs de température Contrôleurs numériques programmables doubles 30 segments avec port RS485
Spécifications du tube en mullite 50 mm DE x 44 mm DI x 304,8 mm L ; Maximum 1500°C (air) / 1300°C (vide)
Spécifications du tube en quartz 50 mm DE x 44 mm DI x 304,8 mm L ; Maximum 1200°C (air) / 1000°C (vide)
Type de rail coulissant Double rail en acier chromé ; longueur de coulissement 350 mm
Vitesse de chauffe (mullite) 10°C/sec (température ambiante - 800°C) ; 7°C/sec (800-1000°C) ; 1,5°C/sec (1200-1300°C)
Vitesse de refroidissement (mullite) 14°C/sec (1350-1000°C) ; 7°C/sec (1000-800°C) ; 2,5°C/sec (500-400°C)
Vitesse de chauffe (quartz) 30°C/sec (température ambiante - 500°C) ; 12°C/sec (500-800°C) ; 1°C/sec (1000-1100°C)
Vitesse de refroidissement (quartz) 16°C/sec (1100-800°C) ; 9°C/sec (800-600°C) ; 2,5°C/sec (400-300°C)
Conformité Certifié CE ; certification NRTL/CSA disponible sur demande

Pourquoi nous choisir

  • Agilité thermique inégalée : La conception coulissante manuelle offre une alternative économique aux systèmes RTP automatisés coûteux, fournissant des vitesses de refroidissement jusqu'à 16°C/sec et de chauffe jusqu'à 30°C/sec pour le criblage rapide de matériaux.
  • Ingénierie et surveillance de précision : Avec des thermocouples doubles de type S et des contrôleurs indépendants, ce système élimine l'incertitude en fournissant des données en temps réel à la fois de l'environnement du four et des conditions internes du tube.
  • Traitement propre et sous vide poussé : La technologie d'étanchéité en acier inoxydable et la surveillance numérique permettent un traitement ultra-propre jusqu'à 10E-5 torr, essentiel pour la recherche sur les semi-conducteurs et les électrolytes de haute pureté.
  • Construction industrielle durable : Construit avec des rails en acier chromé et des éléments en SiC de haute qualité, ce système est conçu pour durer et offrir des performances constantes dans des environnements de R&D intensifs 24h/24 7j/7.
  • Compatibilité de matériaux polyvalente : L'inclusion à la fois de tubes en mullite haute température et de tubes en quartz de haute pureté garantit que le système est prêt à répondre à une large gamme d'exigences chimiques et thermiques directement prêt à l'emploi.

Investir dans ce système de traitement thermique rapide garantit que votre laboratoire dispose de la vitesse et de la précision requises pour le développement de matériaux de nouvelle génération. Contactez notre équipe commerciale technique aujourd'hui pour obtenir un devis détaillé ou pour discuter d'une configuration personnalisée adaptée à vos paramètres de recherche spécifiques.

Voir plus de FAQ pour ce produit

RICHIEDI UN PREVENTIVO

Il nostro team di professionisti ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitate a contattarci!

Produits associés

Four tubulaire coulissant 1200°C max avec tube en quartz de 80 mm de diamètre extérieur et brides à vide pour traitement thermique rapide, chauffage et refroidissement rapides

Four tubulaire coulissant 1200°C max avec tube en quartz de 80 mm de diamètre extérieur et brides à vide pour traitement thermique rapide, chauffage et refroidissement rapides

Réalisez des traitements thermiques rapides avec ce four tubulaire coulissant de 1200°C max. Doté d'un tube en quartz de 80 mm de diamètre extérieur et d'un mécanisme coulissant manuel, il offre des vitesses de chauffage et de refroidissement exceptionnelles allant jusqu'à 100°C par minute pour la recherche avancée sur les matériaux et la R&D industrielle.

Four tubulaire coulissant pour traitement thermique rapide avec tube en quartz de 4 pouces de diamètre extérieur et chauffage IR à 900 °C

Four tubulaire coulissant pour traitement thermique rapide avec tube en quartz de 4 pouces de diamètre extérieur et chauffage IR à 900 °C

Optimisez la synthèse de matériaux avec ce four tubulaire RTP coulissant de 900 °C max. Conçu pour un chauffage infrarouge rapide à 50 °C/s et un refroidissement automatisé, il offre un contrôle précis pour les applications de recherche sur le graphène, les nanotubes de carbone et les cellules solaires à pérovskite.

Four tubulaire divisé haute température 1500°C pour la recherche sur les matériaux, le vide et le traitement thermique sous atmosphère

Four tubulaire divisé haute température 1500°C pour la recherche sur les matériaux, le vide et le traitement thermique sous atmosphère

Ce four tubulaire divisé haute température de 1500°C offre un traitement thermique de précision pour la recherche avancée sur les matériaux et les applications de frittage industriel, doté d'une construction à double enveloppe, d'un contrôle PID intégré et de brides en acier inoxydable prêtes pour le vide, garantissant des performances fiables dans les laboratoires exigeants.

Four tubulaire coulissant haute température 1200°C de 5 pouces pour le traitement thermique rapide (RTP) et le recuit de plaquettes

Four tubulaire coulissant haute température 1200°C de 5 pouces pour le traitement thermique rapide (RTP) et le recuit de plaquettes

Accélérez vos recherches sur les matériaux avec ce four tubulaire coulissant de 1200°C conçu pour le traitement thermique rapide. Doté d'un tube en quartz de 5 pouces et de doubles contrôleurs PID, il offre des vitesses de chauffage et de refroidissement précises pour les applications avancées en semi-conducteurs.

Four tubulaire rotatif à double zone haute température 1500°C avec chauffage au carbure de silicium pour la synthèse de matériaux avancés

Four tubulaire rotatif à double zone haute température 1500°C avec chauffage au carbure de silicium pour la synthèse de matériaux avancés

Optimisez vos processus thermiques avec ce four tubulaire rotatif à double zone de haute précision. Doté d'une température maximale de 1500°C et d'éléments chauffants avancés en SiC, il garantit des résultats uniformes pour la R&D industrielle, le dépôt chimique en phase vapeur et les applications sophistiquées en science des matériaux dans les laboratoires du monde entier.

Four de tube fendu 1500°C avec tube en alumine et brides d’étanchéité sous vide pour la recherche en matériaux

Four de tube fendu 1500°C avec tube en alumine et brides d’étanchéité sous vide pour la recherche en matériaux

Optimisez la R&D avec ce four à tube fendu haut de gamme 1500°C doté d’éléments chauffants en SiC et d’un contrôle PID de précision. Idéal pour le traitement sous vide ou en atmosphère नियंत्रlée, il offre une uniformité thermique supérieure et un accès rapide aux échantillons pour les applications exigeantes de recherche en sciences des matériaux.

Four hybride à moufle et à tube haute température avec capacité de 1500°C et ensemble de bride à vide

Four hybride à moufle et à tube haute température avec capacité de 1500°C et ensemble de bride à vide

Ce four hybride avancé de 1500°C intègre les fonctionnalités d'un four à moufle et d'un four tubulaire. Doté d'une chambre de 6x6x6 pouces et d'un tube en mullite de 2 pouces avec brides à vide, ce système offre un contrôle PID de précision et une isolation supérieure en alumine pour la recherche sur les matériaux à haute température et les applications de R&D industrielle.

Four à tube RTP coulissant maximum 900 ºC avec chauffage IR rapide et tube en quartz de 4 pouces de diamètre extérieur

Four à tube RTP coulissant maximum 900 ºC avec chauffage IR rapide et tube en quartz de 4 pouces de diamètre extérieur

Maximisez l'efficacité de votre R&D avec ce four à tube RTP coulissant de 900°C, doté d'un chauffage IR rapide, de vitesses de montée en température de 50°C/s et d'un refroidissement automatisé pour la croissance de graphène, la synthèse de CNT et le recuit avancé de plaquettes semi-conductrices sous vide ou en conditions atmosphériques.

Four tubulaire coulissant automatisé pour chauffage et refroidissement rapides, diamètre extérieur 2 pouces, 1100°C max.

Four tubulaire coulissant automatisé pour chauffage et refroidissement rapides, diamètre extérieur 2 pouces, 1100°C max.

Optimisez la recherche sur les matériaux avec ce four tubulaire coulissant automatisé haute performance. Offrant un chauffage et un refroidissement ultra-rapides de 100°C par minute, ce système de 1100°C assure un traitement thermique précis pour les semi-conducteurs, la nanotechnologie et les applications de R&D industrielle nécessitant des cycles thermiques rapides.

Four tubulaire compact haute température 1500°C, diamètre extérieur 2 pouces, avec brides à vide et accessoires complets

Four tubulaire compact haute température 1500°C, diamètre extérieur 2 pouces, avec brides à vide et accessoires complets

Four tubulaire compact 1500°C conçu avec précision, doté d'un tube en alumine de haute pureté de 2 pouces et d'éléments chauffants en SiC. Conçu pour la R&D exigeante en science des matériaux, ce système comprend des accessoires complets d'étanchéité sous vide, un contrôle PID numérique et des fonctions de sécurité avancées pour les applications de traitement thermique industriel.

Four vertical coulissant haute température 1200°C avec capacités hybrides de traitement thermique rapide et tube sous vide

Four vertical coulissant haute température 1200°C avec capacités hybrides de traitement thermique rapide et tube sous vide

Maximisez l'efficacité de la recherche avec ce four vertical coulissant 1200°C doté de capacités de traitement thermique rapide. Ce système hybride offre une double fonctionnalité four à chambre et tube sous vide, offrant un contrôle de température précis et un chauffage ou refroidissement ultra-rapide pour les applications avancées en science des matériaux.

Four tubulaire coulissant 1200°C pour le traitement thermique rapide et la croissance de graphène par CVD avec une capacité de 100 mm de diamètre extérieur

Four tubulaire coulissant 1200°C pour le traitement thermique rapide et la croissance de graphène par CVD avec une capacité de 100 mm de diamètre extérieur

Accélérez vos recherches avec ce four tubulaire coulissant à 1200°C conçu pour le traitement thermique rapide et les applications CVD. Doté d'un contrôle PLC de haute précision et d'un rail coulissant motorisé pour des cycles de chauffage et de refroidissement ultra-rapides dans les laboratoires de science des matériaux avancés et de R&D industrielle.

Four à tube 1200°C avec glissement magnétique interne de l'échantillon pour dépôt par vaporisation directe et traitement thermique rapide

Four à tube 1200°C avec glissement magnétique interne de l'échantillon pour dépôt par vaporisation directe et traitement thermique rapide

Ce four à tube professionnel 1200°C est doté d'un mécanisme manuel de glissement magnétique d'échantillon spécialement conçu pour le dépôt par vaporisation directe et le traitement thermique rapide. Il assure un contrôle thermique précis et une croissance de matériau constante pour les applications exigeantes de recherche et de science des matériaux industriels.

Four à moufle hybride 1500°C, chambre de 1,7L avec tube en mullite de 2 pouces et contrôleur PID programmable

Four à moufle hybride 1500°C, chambre de 1,7L avec tube en mullite de 2 pouces et contrôleur PID programmable

Optimisez l'espace de votre laboratoire avec ce four hybride 1500°C doté d'une chambre à moufle de 1,7 L et d'une capacité de tube en mullite de 2 pouces. Son contrôle PID précis et ses options d'atmosphère polyvalentes le rendent idéal pour la recherche avancée en science des matériaux et les applications de laboratoire industriel de traitement thermique à haute température.

Four de tube compact haute température 1600C avec tube en alumine de 50 mm et brides sous vide pour le frittage des matériaux

Four de tube compact haute température 1600C avec tube en alumine de 50 mm et brides sous vide pour le frittage des matériaux

Améliorez les capacités de votre laboratoire avec ce four de tube compact haute température 1600C doté d’un tube en alumine de 50 mm et de brides sous vide. Idéal pour le frittage des matériaux et la recherche chimique, il offre un traitement thermique de précision et une fiabilité exceptionnelle pour les applications de R&D industrielles.

Four tubulaire à trois zones 1200°C, diamètre extérieur max 6 pouces, avec tube et bride

Four tubulaire à trois zones 1200°C, diamètre extérieur max 6 pouces, avec tube et bride

Optimisez vos traitements thermiques avec ce four tubulaire à trois zones de 1200°C, doté d'une capacité de 6 pouces de diamètre extérieur et d'un contrôle par écran tactile avancé. Ce système de haute précision garantit une distribution uniforme de la température pour la recherche avancée sur les matériaux, le recuit de semi-conducteurs et les applications de traitement thermique industriel.

Four à tube 4 pouces haute température 1200°C avec bride coulissante pour systèmes CVD

Four à tube 4 pouces haute température 1200°C avec bride coulissante pour systèmes CVD

Ce four à tube 4 pouces haute température 1200°C est équipé de brides coulissantes pour un chargement rapide des échantillons et une compatibilité avec le vide poussé. Il est conçu pour les procédés CVD de précision et la recherche avancée sur les matériaux, offrant des performances exceptionnellement fiables dans des environnements de laboratoire exigeants.

Four tubulaire vertical divisé haute température 1700°C pour la trempe des matériaux et la croissance de monocristaux

Four tubulaire vertical divisé haute température 1700°C pour la trempe des matériaux et la croissance de monocristaux

Ce four tubulaire vertical divisé haute température 1700°C offre un traitement thermique de précision pour la trempe des matériaux et la croissance de monocristaux. Conçu pour l'excellence en R&D, le système est compatible avec le vide et dispose d'un contrôle PID pour des résultats fiables et reproductibles dans les environnements exigeants des laboratoires de recherche industrielle.

Four de laboratoire tubulaire de paillasse haute température 1700C avec zone de chauffage de 5 pouces, tube en alumine de haute pureté et brides d’étanchéité sous vide

Four de laboratoire tubulaire de paillasse haute température 1700C avec zone de chauffage de 5 pouces, tube en alumine de haute pureté et brides d’étanchéité sous vide

Ce four tubulaire haute température 1700C offre une zone de chauffage de cinq pouces et un tube en alumine pour la recherche avancée sur les matériaux. Obtenez un contrôle précis de l’atmosphère et des niveaux de vide jusqu’à 50 mTorr pour le frittage, le recuit et le dépôt chimique en phase vapeur.

Four tubulaire haute température 1700°C avec système de pompe turbomoléculaire à vide poussé et mélangeur de gaz à contrôleur de débit massique multicanal

Four tubulaire haute température 1700°C avec système de pompe turbomoléculaire à vide poussé et mélangeur de gaz à contrôleur de débit massique multicanal

Ce four tubulaire haute température 1700°C avancé intègre un système de pompe à vide poussé turbomoléculaire de précision et un mélangeur de gaz à contrôleur de débit massique multicanal, offrant des performances exceptionnelles pour la CVD sophistiquée, la diffusion et la recherche sur les matériaux dans des environnements de R&D industriels exigeants.

Articles associés