Four RTP
Four CSS à deux zones pour traitement thermique rapide et revêtement de couches minces, diamètre 3 pouces, 650°C
Numéro d'article: TU-RT30
Livraison: Contactez-nous pour obtenir les détails d'expédition. Profitez-en Garantie d'expédition dans les délais.
Présentation du produit
Ce système de traitement thermique rapide à deux zones de chauffe est conçu pour répondre aux exigences de haute précision de la science des matériaux et de la R&D industrielle. Spécifiquement élaboré pour faciliter les processus de sublimation en espace restreint (CSS) et de dépôt physique en phase vapeur (PVD), l'équipement peut accueillir des substrats allant jusqu'à 3 pouces de diamètre ou des carrés de 2x2 pouces. En intégrant une architecture de chauffage à deux zones, cette unité offre aux chercheurs la capacité cruciale d'établir des gradients thermiques précis entre le matériau source et le substrat, ce qui est essentiel pour la croissance de couches minces cristallines de haute qualité. Sa conception polyvalente en fait un outil indispensable pour développer les technologies photovoltaïques de nouvelle génération et explorer des matériaux semi-conducteurs avancés.
Ciblant les secteurs de l'énergie renouvelable et des semi-conducteurs, cette unité de traitement thermique excelle dans la fabrication de cellules solaires au tellurure de cadmium (CdTe), à la pérovskite et au séléniure d'antimoine (Sb2Se3). La construction robuste de l'équipement comprend une chambre en quartz fondu de haute pureté de 11 pouces de diamètre extérieur, soutenue par un cadre mobile en alliage d'aluminium, garantissant à la fois l'intégrité structurelle et la flexibilité opérationnelle. En utilisant des chauffages halogènes infrarouges à ondes courtes, le système réalise des cycles thermiques rapides que les fours à moufle traditionnels ne peuvent égaler, réduisant considérablement les temps de traitement et améliorant le rendement dans les environnements de laboratoire où l'itération expérimentale est primordiale.
La fiabilité est une caractéristique essentielle de la conception de cet équipement. Il dispose de deux contrôleurs de température programmables à 30 segments qui maintiennent une précision rigoureuse de +/- 1°C, garantissant que même les profils thermiques les plus sensibles sont exécutés avec une cohérence absolue. L'inclusion de brides à vide en acier inoxydable avec doubles joints toriques en silicone permet au système d'atteindre des niveaux de vide élevés, protégeant les matériaux sensibles de l'oxydation et de la contamination. Cette combinaison d'ingénierie de précision et de composants robustes garantit que le système fournit des résultats reproductibles dans les conditions exigeantes de la recherche industrielle moderne.
Caractéristiques principales
- Contrôle thermique indépendant à deux zones : Le système intègre deux groupes de chauffage distincts (supérieur et inférieur) gérés par des contrôleurs de précision séparés. Cela permet de créer des différentiels de température spécifiques entre la source d'évaporation et le substrat, ce qui est vital pour contrôler la croissance des grains et l'épaisseur du film dans les processus CSS.
- Chauffage halogène infrarouge haute efficacité : Utilisant des lampes IR à ondes courtes comme éléments chauffants, l'unité permet des cycles de chauffage et de refroidissement rapides. Cette technologie permet des vitesses de chauffe allant jusqu'à 20°C/s et des vitesses de refroidissement allant jusqu'à 10°C/s, minimisant le retard thermique et maximisant l'efficacité du processus pour les applications de traitement thermique rapide (RTP).
- Espacement réglable entre les chauffages : Pour s'adapter aux différentes exigences de processus et à la dynamique de transport de vapeur, la distance entre les chauffages supérieur et inférieur peut être ajustée manuellement de 10 mm à 50 mm. Cette flexibilité permet aux utilisateurs d'affiner l'espace de sublimation pour différentes chimies de matériaux.
- Chambre de réaction en quartz de haute pureté : La chambre est construite en quartz fondu de haute pureté avec un diamètre extérieur de 11", offrant un environnement ultra-propre pour le dépôt de couches minces. L'excellente résistance aux chocs thermiques et l'inertie chimique du quartz garantissent qu'aucune impureté n'est introduite dans le processus de revêtement délicat.
- Chemises de chauffage refroidies à l'eau : Les chauffages sont enfermés dans des chemises en acier inoxydable refroidies à l'eau. Cette conception réduit considérablement le rayonnement thermique vers l'environnement et le cadre du four, tout en permettant le refroidissement rapide nécessaire aux processus de trempe et aux flux de travail expérimentaux à haut débit.
- Outils de précision pour l'uniformité du substrat : Un support de plaquette rond de 3 pouces est intégré dans le chauffage supérieur, complété par une plaque en nitrure d'aluminium (AlN) à haute conductivité thermique. Cette plaque agit comme un tampon thermique, répartissant la chaleur uniformément sur l'arrière du substrat pour éliminer les points chauds et assurer un dépôt de film uniforme.
- Gestion avancée du vide et des gaz : Le système est équipé de deux débitmètres de gaz pour un contrôle précis de l'atmosphère et une purge. Les brides en acier inoxydable 316 avec ports KFD-25 facilitent la connexion aux systèmes de pompage à haut vide, atteignant des pressions aussi basses que 10E-5 Torr lorsqu'elles sont associées à des pompes moléculaires.
- Surveillance numérique intégrée et logiciel : Un port RS485 intégré et un logiciel de contrôle dédié permettent une utilisation complète via PC. Les chercheurs peuvent programmer des profils de température complexes, enregistrer des données en temps réel et surveiller les niveaux de vide via la jauge à vide numérique anticorrosion pour une transparence totale du processus.
Applications
| Application | Description | Avantage clé |
|---|---|---|
| Fabrication de cellules solaires CdTe | Utilisation du processus CSS pour déposer des films de tellurure de cadmium sur des substrats en verre pour la recherche photovoltaïque à haut rendement. | Un contrôle précis du gradient conduit à une meilleure structure des grains et à une meilleure efficacité des cellules. |
| Croissance de couches minces de pérovskite | Traitement en solution assisté par vapeur pour la création de cellules solaires à pérovskite à hétérojonction planaire. | Le cyclage thermique rapide minimise le risque de dégradation de la pérovskite pendant le traitement. |
| Photovoltaïque Sb2Se3 | Développement de couches minces de séléniure d'antimoine avec des rubans unidimensionnels orientés pour une capture de lumière avancée. | Contrôle amélioré de la dynamique de transport de vapeur via l'espacement réglable des chauffages. |
| Recuit de semi-conducteurs | Recuit thermique rapide (RTA) de couches minces pour activer les dopants ou réparer les dommages du réseau dans les plaquettes de silicium ou composées. | Temps de traitement plus rapides par rapport aux fours tubulaires conventionnels avec un budget thermique minimal. |
| Recherche sur le revêtement CSS | Revêtement expérimental de divers matériaux utilisant la sublimation en espace restreint sous vide ou atmosphères contrôlées. | Environnement de haute pureté et contrôle précis de la sublimation pour la découverte de nouveaux matériaux. |
| Tests de contrainte thermique | Soumettre des échantillons de matériaux à des fluctuations rapides de température pour évaluer la durabilité et les caractéristiques d'expansion. | Des vitesses de chauffage et de refroidissement élevées permettent une simulation intense de choc thermique. |
| Études de transition de phase | Surveillance des changements de matériaux par des rampes et des maintiens de température précis dans un environnement gazeux contrôlé. | L'enregistrement des données en temps réel fournit une cartographie précise des points de transition de phase. |
Spécifications techniques
| Groupe de paramètres | Détail de la spécification | Valeur pour TU-RT30 |
|---|---|---|
| Identifiant du modèle | Numéro d'article | TU-RT30 |
| Construction de la chambre | Matériau | Tube en quartz fondu de haute pureté |
| Dimensions du tube | 11" OD / 10,8" ID x 9" H | |
| Cadre et structure | Matériau du cadre | Alliage d'aluminium mobile avec commandes intégrées |
| Dimensions hors tout | 850(L) × 745(l) × 1615(H) mm | |
| Performance de chauffage | Température max. | ≤ 650ºC pour chaque chauffage |
| Différence de température max. | Espacement 30mm : 315ºC ; Espacement 40mm : 350ºC ; Espacement 50mm : 395ºC | |
| Vitesse de chauffe | < 8ºC/s (Chauffage unique) ; Système max jusqu'à 20ºC/s | |
| Vitesse de refroidissement | < 10ºC/s (De 600ºC à 100ºC) | |
| Système de contrôle | Contrôleurs | Double contrôleur PID programmable à 30 segments |
| Précision | +/- 1ºC | |
| Interface | Port RS485 avec logiciel PC inclus | |
| Système à vide | Matériau de la bride | Acier inoxydable 316 avec doubles joints toriques en silicone |
| Niveau de vide | 10E-2 Torr (Pompe mécanique) ; 10E-5 Torr (Pompe moléculaire) | |
| Ports | Ports à vide KFD-25 ; entrées/sorties de gaz 1/4" | |
| Contrôle de l'atmosphère | Débitmètres de gaz | Deux débitmètres à flotteur : 16-160 mL/m et 400-4000 mL/m |
| Isolation thermique | Feutre de fibre de carbone | |
| Spécifications électriques | Tension de fonctionnement | 208 - 240VAC, monophasé, disjoncteur 20A |
| Puissance requise | 2200W total (1100W par chauffage) | |
| Manipulation des échantillons | Capacité du support | Plaquette ronde 3" ou substrat carré 2" x 2" |
| Aides à l'uniformité | Plaque AlN à haute conductivité thermique (3" Dia x 0,5mm) | |
| Conformité | Certification | Certifié CE (NRTL/CSA disponible sur demande) |
Pourquoi choisir le TU-RT30
- Précision thermique inégalée : Ce système offre le contrôle de température exigeant requis pour les processus de sublimation les plus sensibles. La synchronisation PID à deux zones garantit que le gradient de température reste stable tout au long du cycle de dépôt, ce qui est essentiel pour obtenir une stœchiométrie et une morphologie de film cohérentes.
- Optimisé pour les cycles de R&D rapides : Contrairement aux fours traditionnels qui prennent des heures à monter en température et à refroidir, le traitement thermique rapide à base d'halogène de cette unité permet plusieurs cycles expérimentaux par jour. Cela accélère considérablement le calendrier de développement pour les chercheurs travaillant sur des technologies en évolution rapide comme les cellules solaires à pérovskite.
- Intégrité du vide de qualité industrielle : Avec des brides SS316 et du quartz de haute pureté, ce système maintient un environnement de qualité salle blanche. L'étanchéité robuste et la surveillance précise du vide protègent vos échantillons précieux de la contamination, garantissant que les résultats expérimentaux sont purement le reflet des propriétés du matériau, et non des interférences environnementales.
- Architecture flexible et évolutive : L'espacement réglable des chauffages et le support de substrat universel rendent cet équipement adaptable à une large gamme de systèmes de matériaux. Que vous passiez d'échantillons de 1 pouce à des plaquettes de 3 pouces, le système s'adapte à vos besoins de recherche sans nécessiter de réoutillage coûteux.
- Sécurité et support complets : Construit avec des alarmes de haute température, une protection refroidie à l'eau et des composants certifiés CE, le système donne la priorité à la sécurité de l'opérateur et à la longévité de l'équipement. THERMUNITS fournit un support technique complet pour garantir que votre système est optimisé pour votre application spécifique dès le premier jour.
Pour les chercheurs et les équipes d'approvisionnement à la recherche d'une solution fiable et performante pour la science des matériaux en couches minces, ce système représente un investissement de premier ordre en matière de cohérence opérationnelle et d'ingénierie de précision. Contactez-nous dès aujourd'hui pour une consultation technique ou un devis formel adapté aux exigences de votre installation.
RICHIEDI UN PREVENTIVO
Il nostro team di professionisti ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitate a contattarci!
Produits associés
Four tubulaire à chauffage rapide à double zone, système sous vide et atmosphère contrôlée haute température
Ce four tubulaire à chauffage rapide à double zone haute performance offre une température maximale de 1200°C avec des taux de montée en température rapides de 100°C par minute, un contrôle PID de précision et des capacités d'atmosphère sous vide pour la recherche avancée sur les matériaux, le frittage et les applications de dépôt chimique en phase vapeur.
Four tubulaire rotatif à deux zones pour revêtement CVD de poudre et synthèse de matériaux cœur-coquille 1100°C
Optimisez le traitement des poudres avec ce four tubulaire rotatif à deux zones haute performance de 1100°C. Spécialement conçu pour le revêtement CVD et la synthèse cœur-coquille, il dispose d'un tube en quartz de cinq pouces et de pales de mélange pour assurer une uniformité thermique exceptionnelle et une production constante de lots de matériaux.
Four tubulaire à deux zones 1100°C avec tube en quartz de 11 pouces et brides à vide pour le traitement de plaquettes de 8 pouces
Ce four tubulaire à deux zones haute température avancé est conçu avec un tube en quartz de 11 pouces et une zone de chauffage de 24 pouces pour offrir une uniformité thermique exceptionnelle pour le recuit de plaquettes de 8 pouces, le frittage de matériaux et l'équipement de recherche spécialisé en dépôt chimique en phase vapeur pour l'industrie et les laboratoires.
Four tubulaire vertical compact à quartz avec brides à vide en acier inoxydable pour la trempe thermique rapide et le traitement des matériaux sous atmosphère contrôlée
Conçu pour la recherche de haute précision, ce four tubulaire vertical compact à quartz permet un chauffage rapide jusqu'à 1100°C. Doté de brides à vide en acier inoxydable et d'un contrôle programmable à 30 segments, c'est l'outil essentiel pour la science des matériaux et les applications industrielles de trempe. Performance fiable.
Four tubulaire divisé à deux zones 1500°C avec bride à vide et tube en alumine de 80 mm
Four tubulaire divisé à deux zones haute performance de 1500°C, équipé d'un tube en alumine de 80 mm, d'éléments chauffants en SiC et d'un contrôle PID précis. Idéal pour la R&D sur les matériaux, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le traitement thermique avec des capacités de vide et d'atmosphères multiples pour des applications de recherche en laboratoire industriel de pointe.
Four tubulaire à double zone haute température pour la recherche en science des matériaux et le traitement thermique professionnel
Four tubulaire à double zone avancé conçu pour un traitement thermique précis des matériaux, doté d'éléments suédois Kanthal et d'un contrôle PID sophistiqué pour des résultats constants dans les applications exigeantes de R&D industrielle et de laboratoire.
Four tubulaire à traitement thermique rapide (RTP) à chauffage infrarouge à deux zones avec tube en quartz de 4 pouces de diamètre intérieur et porte-échantillons coulissants
Four tubulaire RTP à chauffage infrarouge à deux zones haute performance, doté d'un tube en quartz de 4 pouces de diamètre intérieur et de deux porte-échantillons coulissants. Atteignez des vitesses de chauffage de 50°C/s pour la synthèse avancée de matériaux 2D, la recherche sur les supraconducteurs et les processus de dépôt en phase vapeur à haute vitesse de précision.
Four tubulaire coulissant pour traitement thermique rapide avec tube en quartz de 4 pouces de diamètre extérieur et chauffage IR à 900 °C
Optimisez la synthèse de matériaux avec ce four tubulaire RTP coulissant de 900 °C max. Conçu pour un chauffage infrarouge rapide à 50 °C/s et un refroidissement automatisé, il offre un contrôle précis pour les applications de recherche sur le graphène, les nanotubes de carbone et les cellules solaires à pérovskite.
Four tubulaire allongé à deux zones de température pour le traitement thermique industriel et la recherche en science des matériaux
Ce four tubulaire allongé à deux zones de température est équipé d'éléments suédois Kanthal A1 et d'un contrôle PID avancé pour une recherche précise sur les matériaux. Avec des options de vide et d'atmosphère, il offre une uniformité thermique et une fiabilité supérieures pour les applications exigeantes de traitement thermique en laboratoire industriel.
Four tubulaire sous vide à double zone haute température pour la recherche sur les matériaux et les procédés CVD
Améliorez les capacités de votre laboratoire avec ce four tubulaire sous vide à double zone de haute précision. Conçu pour la recherche avancée sur les matériaux et les procédés CVD, il dispose d'un contrôle indépendant de la température, de vitesses de chauffage rapides et d'une étanchéité sous vide robuste pour des résultats de traitement thermique constants de qualité industrielle.
Four tubulaire coulissant automatisé pour chauffage et refroidissement rapides, diamètre extérieur 2 pouces, 1100°C max.
Optimisez la recherche sur les matériaux avec ce four tubulaire coulissant automatisé haute performance. Offrant un chauffage et un refroidissement ultra-rapides de 100°C par minute, ce système de 1100°C assure un traitement thermique précis pour les semi-conducteurs, la nanotechnologie et les applications de R&D industrielle nécessitant des cycles thermiques rapides.
Four de tube à double zone de température à double couvercle pour CVD à haute température et recuit sous vide
Four tubulaire professionnel à double zone de température et haute température, doté d’éléments chauffants Kanthal A1 et d’une commande PID avancée pour les applications de recherche et industrielles. Ce système assure un traitement thermique précis pour la CVD, le recuit sous vide et le frittage des matériaux avec une fiabilité inégalée.
Four tubulaire à double zone allongé haute température pour la recherche sur les matériaux et le traitement thermique industriel
Améliorez votre recherche sur les matériaux avec ce four tubulaire à double zone allongé haute performance. Doté d'éléments suédois Kanthal A1 et d'un contrôle PID avancé, il assure une uniformité thermique exceptionnelle jusqu'à 1200°C pour les applications exigeantes de R&D en laboratoire et dans l'industrie moderne.
Four tubulaire rotatif à double zone haute température 1500°C avec chauffage au carbure de silicium pour la synthèse de matériaux avancés
Optimisez vos processus thermiques avec ce four tubulaire rotatif à double zone de haute précision. Doté d'une température maximale de 1500°C et d'éléments chauffants avancés en SiC, il garantit des résultats uniformes pour la R&D industrielle, le dépôt chimique en phase vapeur et les applications sophistiquées en science des matériaux dans les laboratoires du monde entier.
Four à tube en quartz double zone de 80 mm de diamètre, température maximale 1200°C, avec mélangeur de gaz 3 voies et système de pompe à vide
Ce four à tube en quartz double zone avancé se caractérise par un tube de 80 mm de diamètre, un mélangeur de gaz intégré à trois voies et un système de vide haute performance. Idéal pour la CVD et la recherche sur les matériaux, il offre un traitement thermique précis à 1200°C et des capacités de surveillance du vide anti-corrosion.
Four tubulaire coulissant à double zone de température 1200°C pour la croissance de matériaux 2D et la synthèse TCVD
Optimisez la synthèse avancée de matériaux 2D grâce à ce système à double four 1200°C doté d'une zone de chauffage coulissante pour un refroidissement ultra-rapide, d'un contrôle de température PID indépendant et d'un traitement au quartz de haute pureté, conçu pour le dépôt chimique en phase vapeur thermique (TCVD) de précision et la R&D.
Four coulissant CVD à double tube 100 mm 80 mm avec système de mélange de gaz à 4 canaux et système de vide
Ce four coulissant CVD à double tube présente une conception avec un tube extérieur de 100 mm et un tube intérieur de 80 mm pour une recherche flexible sur les électrodes. Intégré à une station de mélange de gaz à 4 canaux et à un système de vide, il permet un traitement thermique rapide et une croissance précise du graphène.
Four tubulaire rotatif à double température avec rotation de précision et inclinaison réglable pour la recherche avancée sur les matériaux
Four tubulaire rotatif à double température haute performance, équipé d'éléments Kanthal A1 et d'une rotation de précision pour un traitement uniforme des matériaux. Idéal pour les applications CVD et R&D nécessitant un contrôle thermique fiable et une inclinaison réglable dans des environnements de laboratoire industriels exigeants.
Four à tube RTP coulissant maximum 900 ºC avec chauffage IR rapide et tube en quartz de 4 pouces de diamètre extérieur
Maximisez l'efficacité de votre R&D avec ce four à tube RTP coulissant de 900°C, doté d'un chauffage IR rapide, de vitesses de montée en température de 50°C/s et d'un refroidissement automatisé pour la croissance de graphène, la synthèse de CNT et le recuit avancé de plaquettes semi-conductrices sous vide ou en conditions atmosphériques.
Four tubulaire à double zone haute température 1700°C pour la science des matériaux et la recherche industrielle en dépôt chimique en phase vapeur
Ce four tubulaire haute température à double zone de 1700°C offre un contrôle indépendant pour des gradients thermiques précis, idéal pour le CVD, le PVD et la croissance cristalline dans la recherche sur les matériaux avancés, doté d'éléments en MoSi2 et d'une intégration robuste de tubes en alumine scellés sous vide pour une fiabilité industrielle.
