Four tubulaire
Four de tube haute température 1700C avec tube en alumine de 4 pouces de diamètre extérieur et brides d’étanchéité sous vide
Numéro d'article: TU-73
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Présentation du produit
Ce système de four de paillasse haute température offre une solution polyvalente et robuste pour les laboratoires de science des matériaux et de recherche chimique nécessitant des traitements thermiques extrêmes jusqu’à 1700ºC. Conçu pour la précision et la stabilité, l’équipement est pensé pour faciliter le frittage d’échantillons de matériaux avancés dans diverses conditions atmosphériques, y compris le vide poussé et les environnements sous gaz inerte. Son encombrement compact et son profil de chauffage haute performance en font un outil essentiel pour les centres de R&D institutionnels et industriels axés sur les céramiques, la métallurgie et le développement des semi-conducteurs.
Les principaux cas d’utilisation du système concernent des traitements thermiques précisément contrôlés où la pureté de l’atmosphère est critique. En intégrant des tubes de traitement en alumine de haute pureté avec des ensembles d’étanchéité sophistiqués, cette unité permet aux chercheurs d’explorer les transformations de phase, la croissance cristalline et les procédés de dépôt chimique en phase vapeur. L’architecture du four est optimisée pour des cycles thermiques rapides et le maintien de la température sur le long terme, garantissant l’exécution de protocoles expérimentaux exigeants avec une précision reproductible.
La fiabilité est au cœur de la conception de cette unité de traitement thermique. Grâce à un boîtier en acier à double couche avec une technologie de refroidissement par air avancée, l’équipement maintient une température de surface sûre au toucher même en pleine opération. L’intégration d’éléments chauffants au disiliciure de molybdène (MoSi2) de grade 1800 garantit une longue durée de vie et des performances constantes sous fortes charges thermiques. Les équipes d’approvisionnement peuvent être confiantes dans les composants de qualité industrielle du système et dans sa capacité à supporter les exigences d’une recherche scientifique continue à haute température.
Caractéristiques principales
- Éléments chauffants MoSi2 avancés de grade 1800 : Le four utilise huit éléments au disiliciure de molybdène haut de gamme capables de supporter des températures supérieures à la limite de fonctionnement du système, garantissant une grande marge de sécurité et une durée de vie prolongée des composants lors des cycles à 1700ºC.
- Chambre réfractaire en alumine de précision : La zone de chauffage interne est revêtue d’une isolation en fibre d’alumine de haute pureté, ce qui minimise les pertes de chaleur, améliore l’uniformité thermique et empêche la contamination des échantillons sensibles pendant le traitement.
- Enveloppe à double couche avec refroidissement actif : Une coque extérieure en acier robuste avec ventilateurs de refroidissement intégrés maintient la température de surface externe sous 60ºC, protégeant le personnel du laboratoire et les équipements environnants tout en améliorant la longévité de l’électronique interne.
- Commande de température PID sophistiquée : Ce système dispose d’un contrôleur numérique programmable offrant une précision de ±1ºC. Les utilisateurs peuvent configurer jusqu’à 30 segments de process pour des protocoles complexes de rampe, palier et refroidissement, pris en charge par une commande de puissance SCR à angle de phase.
- Kit de bride d’étanchéité sous vide intégré : L’équipement comprend un ensemble complet d’étanchéité en acier inoxydable avec un port de vide KF25 et des adaptateurs de tuyaux de gaz 1/4", permettant une transition immédiate entre vide, gaz inerte et atmosphères ambiantes.
- Surveillance de sécurité et protection contre la surtempérature : Une alarme de surtempérature intégrée et un mécanisme d’arrêt automatique permettent un fonctionnement sans surveillance, offrant une tranquillité d’esprit lors de processus de frittage ou de recuit de longue durée.
- Tube en alumine de haute pureté fabriqué aux États-Unis : Pour la variante de diamètre extérieur 100 mm, le système intègre un tube en alumine résistant aux produits chimiques, conçu pour une résistance supérieure aux chocs thermiques et une inertie chimique sous chaleur extrême.
- Contrôle atmosphérique polyvalent : Grâce à deux vannes à aiguille en acier inoxydable et à un vacuomètre à cadran, le système offre un contrôle granulaire de l’arrivée de gaz et des niveaux de vide, essentiel pour les flux de travail sensibles de dépôt chimique en phase vapeur (CVD).
- Technologie SCR à angle de phase : Contrairement aux relais statiques standard, la commande de puissance par redresseur commandé au silicium (SCR) fournit une alimentation plus régulière aux éléments, réduisant le stress thermique et augmentant la précision de température.
- Communication numérique évolutive : L’unité est équipée d’un port de communication RS485, permettant la surveillance et l’enregistrement des données via PC, facilitant une conformité stricte au contrôle qualité et la documentation expérimentale.
Applications
| Application | Description | Avantage clé |
|---|---|---|
| Frittage de céramiques avancées | Consolidation de poudres céramiques en corps denses à des températures allant jusqu’à 1700ºC. | L’uniformité thermique élevée garantit une densité et des propriétés mécaniques constantes du matériau. |
| Métallurgie des poudres | Frittage de poudres métalliques et d’alliages sous vide ou atmosphère inerte pour éviter l’oxydation. | Le contrôle précis de l’atmosphère préserve la pureté de la matrice métallique. |
| Croissance cristalline | Gradients thermiques contrôlés pour la synthèse et la croissance de monocristaux pour l’optique et l’électronique. | Le maintien stable de la température minimise les contraintes internes dans les cristaux en croissance. |
| Dépôt chimique en phase vapeur (CVD) | Dépôt de couches minces sur des substrats par réactions chimiques gazeuses. | Intégration fluide avec des stations de mélange de gaz et des pompes à vide. |
| Recuit et détente des contraintes | Traitement thermique de plaquettes de semi-conducteurs ou d’échantillons métallurgiques pour modifier leurs propriétés physiques. | Les vitesses de refroidissement programmables évitent les chocs thermiques et les microfissures. |
| Essais de catalyseurs | Évaluation de la stabilité thermique et de l’efficacité des catalyseurs dans des conditions de flux à haute température. | La résistance robuste à la corrosion du tube en alumine supporte des vapeurs chimiques variées. |
| Recherche sur les matériaux pour batteries | Synthèse de matériaux de cathode et d’anode nécessitant une calcination atmosphérique spécifique. | Répétabilité fiable pour les études comparatives. |
Spécifications techniques
Paramètres principaux du four (Article : TU-73)
| Paramètre | Détails des spécifications |
|---|---|
| Longueur de la zone de chauffage | 457 mm (18") |
| Zone de température constante | 150 mm (6") |
| Température maximale de fonctionnement | 1700 ºC (durée < 1 heure) |
| Température de fonctionnement continue | 800 ºC à 1600 ºC |
| Vitesse de chauffage/refroidissement | 10 ºC/min maximum |
| Précision de température | ± 1 ºC (± 0.1ºC en option avec contrôleurs premium) |
| Puissance nominale | 7 kW maximum |
| Tension d’entrée | Monophasé, 220 V AC, 50/60 Hz (disjoncteur 40 A requis) |
| Éléments chauffants | 8 pcs Super 1800ºC grade MoSi2 (30 x 330 mm) |
| Type de thermocouple | Thermocouple de type B |
Tube de traitement et étanchéité (Variantes TU-73)
| Composant | Détails des spécifications |
|---|---|
| Matériau du tube | Céramique Al2O3 de haute pureté à 99,8 % (fabriquée aux États-Unis) |
| Dimensions standard du tube | 101 mm OD × 92 mm ID × 1200 mm L |
| Diamètres de tube en option | 60 mm OD, 80 mm OD |
| Étanchéité sous vide | Double joints toriques en silicone haute température avec brides en acier inoxydable |
| Ports de raccordement | Raccords cannelés 1/4" (Swagelok ou KF25 en option) |
| Niveau de vide (pompe mécanique) | 50 mtorr obtenus avec une pompe mécanique standard |
| Niveau de vide (turbopompe) | 10^-5 torr réalisable avec une station de pompe moléculaire |
| Pression interne maximale | < 0.02 MPa (pression absolue) |
Contrôleur et conformité de sécurité
| Fonction | Détails |
|---|---|
| Contrôleur standard | Commande automatique PID avec 30 segments programmables |
| Interface SCR | SCR à angle de phase pour une modulation de puissance de haute précision |
| Contrôleur optionnel | Série Eurotherm 3000 (1 programme, 24 segments) |
| Communications | Port RS485 (module de commande PC en option) |
| Structure | Boîtier en acier à double couche avec deux ventilateurs de refroidissement par air |
| Limite de refroidissement | La température du boîtier reste < 60 ºC pendant le fonctionnement |
| Conformité | Certifié CE (NRTL/CSA disponibles sur demande) |
Pourquoi choisir le four tubulaire haute température 1700C
- Précision thermique inégalée : En utilisant des éléments MoSi2 de grade Super 1800ºC et une commande SCR à angle de phase, le système offre une stabilité de température qui dépasse les normes de l’industrie, garantissant que les résultats de recherche sensibles ne soient jamais compromis par des fluctuations thermiques.
- Ingénierie du vide robuste : Contrairement à de nombreux fours tubulaires standard, notre ensemble d’étanchéité comprend de série des joints toriques en silicone doubles et des vannes à aiguille intégrées, offrant une solution prête à l’emploi pour les chercheurs travaillant sous ultra-vide ou dans des atmosphères strictement contrôlées.
- Sécurité opérationnelle renforcée : La combinaison de ventilateurs de refroidissement actifs, d’un boîtier à double paroi et d’alarmes de surtempérature intégrées crée un environnement de laboratoire sécurisé, permettant aux processus à haute température de se dérouler aux côtés d’autres activités analytiques sans risque.
- Intégrité matérielle supérieure : Nous utilisons des tubes et des chambres réfractaires en alumine de haute pureté à 99,8 % afin de garantir qu’aucun contaminant ne se diffuse dans vos échantillons à 1700ºC, une exigence critique pour la recherche chimique de haute pureté et sur les semi-conducteurs.
- Conception modulaire et évolutive : Avec des options d’intégration de contrôle PC, de stations de débitmètres massiques de gaz et d’unités de pompage turbo à haut vide, cet équipement peut évoluer avec vos besoins de recherche, protégeant ainsi votre investissement à long terme.
Notre équipe d’ingénierie est prête à discuter de vos besoins spécifiques en matière de procédé, que vous ayez besoin de configurations de brides personnalisées ou d’une intégration logicielle de contrôle spécialisée. Contactez-nous dès aujourd’hui pour recevoir une consultation technique ou un devis formel pour la mise à niveau de votre laboratoire.
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