Presse à chaud sous vide de 3 tonnes

Four de pressage à chaud sous vide

Presse à chaud sous vide de 3 tonnes

Numéro d'article: TU-VH05

Température de fonctionnement maximale: 2000 °C (utilisable jusqu'à 1900 °C) Force de pressage maximale: 1 – 3 tonnes Vide ultime: 6,67 × 10⁻³ Pa
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Aperçu du produit

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Cette presse à chaud sous vide est conçue pour le frittage à haute température sous atmosphère et pression précisément contrôlées, offrant une densification exceptionnelle des matériaux pour la recherche et la production à petite échelle. Sa conception entièrement intégrée combine une chambre à haut vide, un système de chauffage au graphite et une pressurisation servo-électrique en une seule unité compacte, simplifiant l'installation et le fonctionnement.

Idéal pour les laboratoires universitaires et les centres de R&D industriels, le système traite les céramiques avancées, les composites à matrice métallique et les nouveaux nanomatériaux. La chambre à chargement latéral et le contrôle PLC à écran tactile permettent des changements de lots rapides et une gestion reproductible des recettes, en faisant un outil de travail fiable pour les traitements thermiques exigeants.

Construit avec des composants robustes et un cadre solide, cet équipement maintient des performances constantes sur des milliers de cycles. L'entraînement servo de précision élimine les pics de pression et les problèmes de maintenance des presses hydrauliques traditionnelles, garantissant une application de force propre, stable et précise même pour les échantillons les plus sensibles.

Caractéristiques principales

  • Pressurisation Servo-Électrique : Un vérin électrique servo haute précision délivre une force de pressage de 1 à 3 tonnes avec une fluctuation de seulement ±100 N et une précision de déplacement ≤0,01 mm, permettant un contrôle au niveau du kilogramme idéal pour les tests délicats sur petits échantillons.
  • Capacité Haute Température : Les éléments chauffants en graphite atteignent une température de travail maximale de 2000 °C (plage utilisable de la température ambiante à 1900 °C), supportant le frittage de céramiques ultra-réfractaires, de métaux réfractaires et de cermets.
  • Automatisation Avancée : Un contrôleur PLC à écran tactile permet l'édition, le stockage, le rappel, le téléchargement et le téléversement de recettes en ligne. Le contrôle de température à une zone via thermocouple tungstène-rhénium maintient une précision de ±1 °C tout au long du processus.
  • Conception Compacte & Mobile : Le four intégré comprend des roulettes intégrées, le rendant facile à repositionner dans le laboratoire. Une porte à ouverture latérale offre un accès pratique pour le chargement et le déchargement des échantillons.
  • Environnement de Haut Vide Propre : Un vide ultime à froid de 6,67 × 10⁻³ Pa (après dégazage) assure une atmosphère exempte d'oxygène. Le traitement peut être effectué sous vide ou avec une légère surpression de gaz inerte (≤0,03 MPa) pour éviter l'oxydation.
  • Zone Chaude de Précision : La zone chauffée de 100 × 100 × 100 mm comporte un espace de test d'échantillon au-dessus de la zone de travail, maximisant le volume utilisable tout en maintenant l'uniformité de température.
  • Puissance de Chauffage Nominale : ≤15 kW à partir d'une alimentation triphasée standard 380 V/50 Hz, équilibrant montée en température rapide et efficacité énergétique.
  • Contrôle de Précision de la Pression : L'affichage numérique de la pression, la régulation automatique et les fonctions de maintien automatique maintiennent la force cible avec un écart minimal. La course de pression varie de 0 à 100 mm avec lecture numérique.

Applications

Application Description Avantage Clé
Frittage de Céramiques Avancées Densification du nitrure de silicium, du carbure de silicium, de l'alumine et de la zircone pour les roulements, outils de coupe et blindages haute performance Densité quasi-théorique avec microstructure à grains fins
Composites à Matrice Métallique Consolidation d'Al-SiC, Cu-W et autres CMM pour la gestion thermique et les composants aérospatiaux Pression uniforme élimine la porosité sans rupture de fibres
Consolidation de Nanomatériaux Frittage de nano-poudres (ex. : nano-céramiques, composites à nanotubes de carbone) en échantillons massifs tout en conservant la nanostructure Contrôle à basse pression et haute précision empêche la croissance des grains
Production de Cibles de Pulvérisation Fabrication de cibles denses et homogènes d'ITO, AZO et céramiques pour le dépôt de couches minces Le haut vide et l'atmosphère propre produisent des cibles stoechiométriques de haute pureté
Traitement de Biomateriaux Pressage à chaud d'hydroxyapatite, bioglass et autres biocéramiques pour implants et échafaudages Environnement sans contamination conforme aux normes biomédicales
Recherche & Développement Développement de matériaux à haute température et haute pression à usage général dans les laboratoires universitaires et nationaux La gestion flexible des recettes et la petite taille des échantillons réduisent le temps et le coût de développement

Spécifications Techniques

Paramètre Spécification
Modèle TU-VH05
Alimentation Électrique Triphasé 380 V ±10 %, 50 Hz
Puissance de Chauffage Nominale ≤15 kW
Température de Travail Maximale 2000 °C (utilisable : ambiante à 1900 °C)
Dimensions de la Zone Chaude (L×P×H) 100 × 100 × 100 mm (avec espace de test supérieur)
Dimensions de la Chambre à Vide (L×P×H) 400 × 400 × 400 mm
Zones de Contrôle de Température 1
Méthode de Contrôle de Température Thermocouple Tungstène-Rhénium
Précision du Contrôle de Température ±1 °C
Vide Ultime (à froid, après dégazage) 6,67 × 10⁻³ Pa (four vide)
Atmosphère de Traitement Gaz inerte (Ar, N₂)
Pression de Gaz Max. ≤0,03 MPa (micro-positive)
Force de Pressage Max. 1 – 3 tonnes (affichage numérique, régulation auto, maintien auto)
Fluctuation de Pression ≤±100 N
Précision du Déplacement ≤0,01 mm
Course de Pression 0 – 100 mm (affichage numérique)
Méthode de Pressurisation Vérin électrique servo

Pourquoi Choisir Ce Produit

  • Précision de Pression Supérieure – L'entraînement servo-électrique remplace l'hydraulique conventionnelle, éliminant les fuites d'huile et la dérive de pression. Il maintient la force à ±100 N, assurant une densification reproductible cycle après cycle.
  • Performance Thermique Exceptionnelle – Un élément chauffant en graphite capable de 2000 °C avec une précision de contrôle de ±1 °C garantit un frittage uniforme, même pour les matériaux réfractaires. La conception robuste de la zone chaude résiste à des milliers de cycles à haute température.
  • Environnement de Traitement Propre – Un système à haut vide (6,67 × 10⁻³ Pa) combiné à une capacité de gaz inerte empêche la contamination, produisant des produits de haute pureté essentiels pour les céramiques avancées et les matériaux électroniques.
  • Automatisation Centrée sur l'Utilisateur – Le PLC avec écran tactile simplifie l'opération avec une gestion intuitive des recettes et l'enregistrement des données, réduisant les erreurs de l'opérateur et le temps de formation tout en permettant une documentation traçable du processus.
  • Encombrement Adapté au Laboratoire – Autonome avec roulettes, cette unité se déplace et s'installe facilement partout où une alimentation triphasée standard est disponible, minimisant les modifications d'installation.

Contactez-nous dès aujourd'hui pour discuter de votre application spécifique ou demander une configuration personnalisée. Notre équipe d'ingénierie est prête à vous aider à obtenir le contrôle précis de la température, de la pression et de l'atmosphère que votre recherche exige.

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