Four RTP
Four de traitement thermique rapide 950°C pour revêtement CSS de plaquettes de 12 pouces avec support de substrat rotatif
Numéro d'article: TU-RT33
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Présentation du produit
Ce système haute performance de traitement thermique rapide (RTP) et de sublimation en espace restreint (CSS) représente le summum du traitement thermique à grande échelle pour les laboratoires et les lignes pilotes. Spécifiquement conçu pour le dépôt de couches minces de haute qualité et le recuit de plaquettes de 12 pouces, l'équipement intègre un chauffage infrarouge à double zone avec une architecture sophistiquée de substrat rotatif. En offrant un environnement contrôlé pour les transitions de matériaux complexes, cette unité permet aux chercheurs et aux ingénieurs industriels d'obtenir des résultats reproductibles et de haute fidélité dans le développement de cellules solaires et de dispositifs semi-conducteurs de nouvelle génération.
Le système est conçu pour gérer des flux de travail de R&D industrielle exigeants, ciblant des applications avancées dans le photovoltaïque, telles que les cellules solaires au tellurure de cadmium (CdTe), au séléniure d'antimoine (Sb2Se3) et à la pérovskite. Sa proposition de valeur principale réside dans sa capacité à gérer des substrats grand format de 12 pouces tout en maintenant l'uniformité thermique et les rampes de montée en température rapides nécessaires à la synthèse moderne de couches minces. Qu'il soit utilisé pour le recuit thermique rapide ou les procédés en solution assistés par vapeur, l'équipement fournit une plateforme robuste pour faire passer les innovations en science des matériaux de la recherche fondamentale aux spécifications prêtes pour la production.
Construite avec des composants de qualité industrielle et une chambre à vide en acier inoxydable robuste, l'unité garantit une fiabilité opérationnelle à long terme dans des conditions de vide poussé et de haute température. L'intégration d'une électronique de contrôle de précision et d'un système de gestion thermique refroidi par eau permet un fonctionnement continu sans compromettre l'intégrité des composants internes. Ce système est le choix idéal pour les installations nécessitant une combinaison de compatibilité avec les grandes plaquettes, une réponse thermique rapide et la précision du vide poussé nécessaire à la fabrication de semi-conducteurs à haut rendement.
Caractéristiques principales
- Architecture de chauffage infrarouge à double zone : Le système utilise deux groupes indépendants de chauffages infrarouges halogènes (haut et bas) capables d'atteindre 950°C. Cette configuration à double zone permet un contrôle précis du gradient de température, ce qui est essentiel pour les processus de sublimation en espace restreint (CSS).
- Rotation de précision du substrat : Un support de plaquette intégré de 12 pouces dispose d'un mécanisme de rotation réglable (1 - 10 tr/min). Cela garantit une uniformité exceptionnelle de l'épaisseur du film et une cohérence structurelle sur toute la surface des substrats grand format.
- Performance thermique rapide : Conçue pour la vitesse, l'unité peut atteindre des taux de chauffage allant jusqu'à 8°C/s et des taux de refroidissement allant jusqu'à 20°C/s. Cette réponse rapide minimise le budget thermique et permet une trempe précise des phases lors de la synthèse des matériaux.
- Intégrité du vide poussé : La chambre en acier inoxydable de 20 pouces de diamètre intérieur est conçue pour atteindre des niveaux de vide de 10^-5 Torr via une pompe turbomoléculaire. Cet environnement propre à basse pression est essentiel pour empêcher l'oxydation et garantir la pureté des couches minces déposées.
- Contrôle avancé par PLC et écran tactile : Tous les paramètres opérationnels, y compris les profils de température, les niveaux de vide, les vitesses de rotation et le positionnement des brides, sont gérés via un système PLC centralisé avec une interface tactile conviviale.
- Amélioration de l'uniformité thermique : Des plaques de graphite sont stratégiquement positionnées au-dessus des chauffages infrarouges pour servir de tampons thermiques, lissant les points chauds potentiels et assurant une distribution de chaleur parfaitement uniforme sur la zone de traitement de 12 pouces.
- Sécurité et refroidissement intégrés : Un refroidisseur d'eau à circulation de 58 L/min est inclus pour maintenir la température des chemises de chauffage et des parois de la chambre, assurant la sécurité de l'opérateur et protégeant les joints à vide pendant les cycles à haute température.
- Fenêtres d'observation in-situ : Deux fenêtres en quartz de 60 mm de diamètre permettent une surveillance visuelle en temps réel du processus de dépôt ou de l'état de l'échantillon sans rompre le vide ni perturber l'environnement thermique.
- Régulation indépendante de la température : Équipé de deux contrôleurs numériques Eurotherm série 3000, le système offre une programmation à 24 segments pour les chauffages supérieur et inférieur, offrant une précision de ±0,1°C.
- Déflecteur de vapeur intégré : Un déflecteur coulissant étanche à l'air est intégré dans la chambre pour bloquer les sources d'évaporation sous vide poussé, permettant un contrôle précis du début et de la fin du processus de dépôt.
Applications
| Application | Description | Avantage clé |
|---|---|---|
| Synthèse de cellules solaires CdTe | Sublimation en espace restreint (CSS) à haut rendement pour le dépôt de couches minces de tellurure de cadmium. | Croissance granulaire supérieure et qualité d'interface optimisée pour le rendement PV. |
| Recuit de semi-conducteurs | Traitement thermique rapide (RTP) de plaquettes de silicium ou de semi-conducteurs composés de 12 pouces. | Réduction du budget thermique et activation précise des dopants sans diffusion. |
| Photovoltaïque à pérovskite | Procédés en solution assistés par vapeur et recuit thermique de couches de pérovskite de grande surface. | Morphologie de film améliorée et stabilité accrue de la couche de captation de lumière. |
| R&D sur couches minces Sb2Se3 | Évaporation thermique rapide du séléniure d'antimoine pour le photovoltaïque orienté en rubans unidimensionnels. | Contrôle de l'orientation cristalline et réduction des défauts aux joints de grains. |
| CVD / Dépôt physique en phase vapeur | Dépôt général de vapeur sous vide poussé pour la recherche avancée en science des matériaux. | Plateforme polyvalente pour explorer de nouvelles compositions et structures de couches minces. |
| Production pilote industrielle | Mise à l'échelle des recettes de laboratoire vers des formats de 12 pouces pour les tests de faisabilité industrielle. | Transition transparente de la R&D aux processus de fabrication de semi-conducteurs à grande échelle. |
Spécifications techniques
| Caractéristique | Détails des spécifications (Modèle : TU-RT33) |
|---|---|
| Température de travail | Max. 950°C pour chaque chauffage ; Max. ΔT entre chauffages ≤ 300°C |
| Taux de chauffage | < 8°C/s (fonctionnement avec un seul chauffage) ; Taux instantané max. jusqu'à 1200°C/min |
| Taux de refroidissement | < 10°C/s à 20°C/s (plage de 600°C à 100°C) |
| Capacité du substrat | Jusqu'à 12" de diamètre pour plaquettes circulaires |
| Rotation du substrat | Réglable de 1 à 10 tr/min via support monté sur le dessus |
| Éléments chauffants | Deux plaques chauffantes halogènes IR de 12" (Haut & Bas) |
| Tampon thermique | Plaques de graphite incluses pour une meilleure uniformité de chauffage |
| Chambre à vide | Acier inoxydable ; DI 500 mm x H 460 mm (20" DI) |
| Niveau de vide | 10^-5 Torr (avec pompe turbo) ou 10^-2 Torr (avec pompe mécanique) |
| Contrôle de température | Deux contrôleurs Eurotherm 3000 ; 24 segments programmables ; précision ±0,1°C |
| Contrôle logique | Ordinateur à écran tactile via PLC ; prend en charge 10 programmes prédéfinis |
| Ports d'observation | Deux fenêtres en quartz de 60 mm de diamètre |
| Alimentation | 208 - 240VAC, triphasé, 50/60 Hz (380VAC disponible) ; 60 KW Max |
| Système de refroidissement | Refroidisseur d'eau à circulation de 58 L/min (Inclus) |
| Dimensions | L 1450 mm x l 1250 mm x H 2100 mm |
| Poids | Env. 500 Kg |
| Conformité | Certifié CE ; UL/MET/CSA disponible sur demande |
Pourquoi choisir le TU-RT33
- Précision thermique inégalée : La combinaison des contrôleurs Eurotherm doubles et de la technologie halogène IR permet une réponse thermique instantanée et une précision extrême, garantissant que vos processus de couches minces sont parfaitement reproductibles.
- Évolutivité aux normes industrielles : Alors que de nombreux systèmes RTP sont limités aux petits échantillons, cette unité gère des plaquettes complètes de 12 pouces, comblant le fossé entre la recherche universitaire et les normes de production industrielle de semi-conducteurs.
- Performances de vide robustes : La chambre en acier inoxydable robuste et le système de pompage turbomoléculaire à haute vitesse fournissent l'environnement ultra-propre nécessaire aux applications de semi-conducteurs et de cellules solaires de haute pureté.
- Contrôle complet des processus : Avec une gestion intégrée par PLC de la rotation, de la température et du vide, le système minimise l'erreur humaine et fournit un enregistrement détaillé des données pour l'assurance qualité et les publications académiques.
- Fiabilité éprouvée dans la recherche de haut niveau : Cette plateforme est approuvée par des institutions de premier plan pour des recherches publiées dans des revues prestigieuses comme Nature Photonics, prouvant sa capacité dans la science des matériaux de pointe.
Contactez notre équipe de vente technique dès aujourd'hui pour demander un devis formel ou pour discuter d'une configuration personnalisée adaptée à vos besoins spécifiques en recherche sur les couches minces.
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