Four à tube RTP coulissant maximum 900 ºC avec chauffage IR rapide et tube en quartz de 4 pouces de diamètre extérieur

Four RTP

Four à tube RTP coulissant maximum 900 ºC avec chauffage IR rapide et tube en quartz de 4 pouces de diamètre extérieur

Numéro d'article: TU-RT26

Taux de Chauffage Maximum: 50 °C/s Taille du Tube de Traitement: 100 mm O.D. Quartz Température Maximale: 900 °C
Qualité Assurée Fast Delivery Global Support

Livraison: Contactez-nous pour obtenir les détails d'expédition. Profitez-en Garantie d'expédition dans les délais.

Présentation du produit

Product image 1

Product image 3

Ce four à tube de traitement thermique rapide (RTP) coulissant haute performance représente une avancée majeure dans le traitement thermique à l'échelle laboratoire. Il a été spécialement conçu pour les chercheurs en science des matériaux qui nécessitent des vitesses de chauffe et de refroidissement extrêmes. Grâce à l'utilisation d'un réseau sophistiqué de lampes infrarouges (IR) et d'un mécanisme coulissant de précision, le système permet de réaliser des cycles thermiques rapides indispensables à la synthèse de matériaux 2D modernes, de plaquettes semi-conductrices et de couches minces avancées. La valeur principale de cet équipement réside dans sa capacité à obtenir des transitions de phase précises et une croissance cristalline contrôlée grâce à sa gestion exceptionnelle des gradients thermiques.

Conçu pour les environnements de R&D industriels les plus exigeants, l'appareil est particulièrement efficace pour la croissance de graphène et de nanotubes de carbone (CNT) par dépôt chimique en phase vapeur (CVD), ainsi que pour la fabrication spécialisée de cellules solaires à pérovskite. Sa polyvalence lui permet de fonctionner sous vide ou dans des conditions atmosphériques contrôlées, offrant une plateforme flexible pour divers processus de traitement thermique. L'intégration de composants en quartz de haute pureté et d'éléments de vide en acier inoxydable garantit un environnement de traitement propre et sans contamination pour les matériaux électroniques et optiques sensibles.

La fiabilité et la constance sont au cœur de la conception de ce système. Le carter en acier double couche et le système de refroidissement à air actif sont conçus pour maintenir l'intégrité structurelle et la sécurité externe même pendant les opérations à haute température. Chaque composant, des tubes halogènes aux rails coulissants entraînés par moteur à courant continu, est sélectionné pour sa durabilité et ses performances sous contrainte thermique cyclique. Cela garantit que l'équipement fournit des résultats reproductibles sur des milliers d'heures de fonctionnement, offrant aux équipes d'approvisionnement et aux chercheurs principaux une confiance totale dans leurs données expérimentales et la scalabilité de leurs processus.

Caractéristiques clés

  • Chauffage par lampe IR haute intensité : Le système utilise un réseau de huit tubes halogènes de 1 kW pour atteindre des vitesses de chauffe ultra-rapides allant jusqu'à 50ºC/s. Cela permet aux chercheurs d'atteindre la température de procédé en quelques secondes, minimisant le budget thermique et empêchant la diffusion indésirable dans les couches semi-conductrices sensibles.
  • Mécanisme de refroidissement coulissant automatisé : Les rails coulissants doubles intégrés permettent au corps du four de s'éloigner automatiquement de la zone de l'échantillon à la fin du programme. Combiné à des ventilateurs de refroidissement intégrés, cela permet une vitesse de refroidissement rapide dépassant 8ºC/s, ce qui est essentiel pour la trempe des phases ou l'arrêt instantané des réactions chimiques.
  • Contrôle thermique PID de précision : Le contrôleur numérique avancé prend en charge 30 segments programmables, permettant des profils complexes de montée en température, de maintien et de refroidissement. Avec une précision de ±1ºC, le système garantit que chaque cycle de traitement respecte strictement les paramètres thermiques définis.
  • Gestion optimisée du vide et des gaz : Équipé de brides de vide en acier inoxydable et d'une vanne à pointeau intégrée, le système prend en charge des niveaux de vide allant jusqu'à 10^-4 torr avec une pompe moléculaire. La conception de la bride droite à charnière facilite le chargement et le déchargement des échantillons, tandis que la jauge de vide numérique intégrée fournit une surveillance en temps réel des conditions de la chambre.
  • Construction double couche robuste : Le four est doté d'un carter en acier double couche avec canaux de refroidissement à air. Cette conception protège non seulement les composants internes pendant un chauffage prolongé, mais garantit également que la coque extérieure reste sûre au toucher, conformément aux normes de sécurité de laboratoire modernes.
  • Surveillance par double thermocouple : L'appareil comprend deux thermocouples de type K. L'un est dédié au contrôleur PID pour la régulation de la température du four, tandis que le second est inséré directement dans la zone de l'échantillon pour une surveillance précise de la température réelle du matériau pendant les cycles de chauffe et de refroidissement rapides.
  • Interface PC extensible : Un port de communication RS485 intégré et le module de contrôle MTS-02 fourni permettent une exploitation à distance et l'enregistrement de données via PC. Cela permet aux chercheurs d'exporter les profils thermiques à des fins de documentation et de contrôle qualité.

Applications

Application Description Avantage clé
Synthèse de graphène Traitement CVD à haute température pour la croissance de graphène monocouche et multicouche sur feuilles métalliques. Les vitesses de montée rapide facilitent une nucléation contrôlée et des tailles de grains importantes.
Synthèse de CNT Croissance contrôlée de nanotubes de carbone par dépôt en phase vapeur. Un contrôle précis de la température garantit un diamètre uniforme et une haute pureté.
Cellules solaires à pérovskite Recuit thermique et cristallisation de couches minces de pérovskite pour la recherche photovoltaïque. Un refroidissement rapide empêche la dégradation du film et optimise la structure cristalline.
Recuit de plaquettes Recuit thermique rapide (RTA) pour plaquettes semi-conductrices jusqu'à 3 pouces de diamètre. Minimise la diffusion des dopants tout en activant les espèces implantées par ions.
Recherche sur les matériaux 2D Traitement de MoS2, WS2 et autres dichalcogénures de métaux de transition. Les cycles thermiques à haute vitesse permettent l'exploration des phases métastables.
Couches minces CVD Dépôt de revêtements spécialisés sous vide ou avec des flux de gaz à basse pression. Le débitmètre intégré et les brides de vide fournissent une solution CVD clé en main.

Caractéristiques techniques

Paramètre Détail de la spécification pour TU-RT26
Référence du modèle TU-RT26
Structure du four Carter en acier double couche avec refroidissement à air ; rails coulissants automatiques intégrés
Température maximale 900°C (pour < 1 heure)
Température de fonctionnement standard 800ºC (< 120 min) ; 600ºC (continu)
Vitesses de chauffe Max. 50 ºC/s
Vitesse de refroidissement Max. 8 ºC/s (gamme 1000 - 600ºC via coulissement)
Éléments chauffants 8 tubes halogènes de 1 kW (durée de vie 2000 heures ; longueur de chauffe 200 mm)
Tube de traitement Quartz fondu haute pureté ; 100 mm D.E x 94 mm D.I x 1400 mm L
Alimentation requise AC 208-240V monophasé, 50/60 Hz ; puissance totale 9KW
Système de coulissement Entraînement par moteur CC ; longueur de rail 1200 mm ; plage de coulissement 340 mm
Vitesse de coulissement 0-70 mm/s (réglable via bouton de contrôle ou programme automatisé)
Contrôle de température Contrôleur automatique PID ; 30 segments programmables ; précision ±1 ºC
Thermocouples Double type K (Ø 1/4" x L 24") ; Contrôle et surveillance de l'échantillon
Système de vide Brides en acier inoxydable ; bride droite à charnière ; vanne d'équerre KF25
Niveau de vide 10^-2 torr (pompe mécanique) ; 10^-4 torr (pompe moléculaire)
Gestion des gaz Débitmètre intégré (16-160 ml/min) ; raccords de gaz à vanne à pointeau
Communication Port RS485 ; module de contrôle MTS-02 inclus
Conformité Certifié CE ; NRTL (UL61010) ou CSA disponibles sur demande

Pourquoi nous choisir

  • Agilité thermique supérieure : Contrairement aux fours à tube traditionnels, la technologie de chauffage IR et le refroidissement coulissant automatisé de cet appareil permettent d'obtenir des gradients thermiques inégalés, réduisant considérablement la durée des cycles de traitement et permettant la synthèse de matériaux avancés.
  • Fiabilité de qualité industrielle : Construit avec des composants haut de gamme, notamment du quartz de haute pureté et des rails en acier chromé, ce système est conçu pour des cycles de travail intensifs dans des environnements de recherche et de production chargés.
  • Ingénierie de précision : Tous les aspects de la conception, des brides de vide à charnière à la surveillance par double thermocouple, sont optimisés pour la facilité d'utilisation sans compromettre les performances techniques.
  • Intégration clé en main : Avec des jauges de vide, des débitmètres et des modules de contrôle PC intégrés, le système arrive prêt à être déployé immédiatement pour les applications CVD et RTA.
  • Conformité mondiale et support : La certification CE garantit le respect des normes de sécurité internationales, et notre équipe technique réactive est à votre disposition pour la personnalisation et le support de maintenance à long terme.

Pour obtenir un devis détaillé ou discuter de la personnalisation de ce système de traitement thermique rapide adapté à vos exigences de recherche spécifiques, contactez notre équipe commerciale technique dès aujourd'hui.

Voir plus de FAQ pour ce produit

RICHIEDI UN PREVENTIVO

Il nostro team di professionisti ti risponderà entro un giorno lavorativo. Non esitate a contattarci!

Produits associés

Four à tube haute température 1500°C avec brides coulissantes et diamètre extérieur 50 mm pour le traitement thermique rapide : chauffage et refroidissement accélérés

Four à tube haute température 1500°C avec brides coulissantes et diamètre extérieur 50 mm pour le traitement thermique rapide : chauffage et refroidissement accélérés

Obtenez un traitement thermique rapide avec ce four à tube maximum 1500°C équipé de brides coulissantes manuelles pour un chauffage et un refroidissement accélérés. Conçu pour la recherche en science des matériaux, ce système de haute précision offre des performances exceptionnelles sous vide et une surveillance double contrôleur pour les applications de laboratoire les plus exigeantes.

Four tubulaire coulissant 1200°C max avec tube en quartz de 80 mm de diamètre extérieur et brides à vide pour traitement thermique rapide, chauffage et refroidissement rapides

Four tubulaire coulissant 1200°C max avec tube en quartz de 80 mm de diamètre extérieur et brides à vide pour traitement thermique rapide, chauffage et refroidissement rapides

Réalisez des traitements thermiques rapides avec ce four tubulaire coulissant de 1200°C max. Doté d'un tube en quartz de 80 mm de diamètre extérieur et d'un mécanisme coulissant manuel, il offre des vitesses de chauffage et de refroidissement exceptionnelles allant jusqu'à 100°C par minute pour la recherche avancée sur les matériaux et la R&D industrielle.

Four tubulaire coulissant haute température 1200°C de 5 pouces pour le traitement thermique rapide (RTP) et le recuit de plaquettes

Four tubulaire coulissant haute température 1200°C de 5 pouces pour le traitement thermique rapide (RTP) et le recuit de plaquettes

Accélérez vos recherches sur les matériaux avec ce four tubulaire coulissant de 1200°C conçu pour le traitement thermique rapide. Doté d'un tube en quartz de 5 pouces et de doubles contrôleurs PID, il offre des vitesses de chauffage et de refroidissement précises pour les applications avancées en semi-conducteurs.

Four vertical coulissant haute température 1200°C avec capacités hybrides de traitement thermique rapide et tube sous vide

Four vertical coulissant haute température 1200°C avec capacités hybrides de traitement thermique rapide et tube sous vide

Maximisez l'efficacité de la recherche avec ce four vertical coulissant 1200°C doté de capacités de traitement thermique rapide. Ce système hybride offre une double fonctionnalité four à chambre et tube sous vide, offrant un contrôle de température précis et un chauffage ou refroidissement ultra-rapide pour les applications avancées en science des matériaux.

Four tubulaire coulissant pour traitement thermique rapide avec tube en quartz de 4 pouces de diamètre extérieur et chauffage IR à 900 °C

Four tubulaire coulissant pour traitement thermique rapide avec tube en quartz de 4 pouces de diamètre extérieur et chauffage IR à 900 °C

Optimisez la synthèse de matériaux avec ce four tubulaire RTP coulissant de 900 °C max. Conçu pour un chauffage infrarouge rapide à 50 °C/s et un refroidissement automatisé, il offre un contrôle précis pour les applications de recherche sur le graphène, les nanotubes de carbone et les cellules solaires à pérovskite.

Four tubulaire coulissant automatisé pour chauffage et refroidissement rapides, diamètre extérieur 2 pouces, 1100°C max.

Four tubulaire coulissant automatisé pour chauffage et refroidissement rapides, diamètre extérieur 2 pouces, 1100°C max.

Optimisez la recherche sur les matériaux avec ce four tubulaire coulissant automatisé haute performance. Offrant un chauffage et un refroidissement ultra-rapides de 100°C par minute, ce système de 1100°C assure un traitement thermique précis pour les semi-conducteurs, la nanotechnologie et les applications de R&D industrielle nécessitant des cycles thermiques rapides.

Four tubulaire coulissant 1200°C pour le traitement thermique rapide et la croissance de graphène par CVD avec une capacité de 100 mm de diamètre extérieur

Four tubulaire coulissant 1200°C pour le traitement thermique rapide et la croissance de graphène par CVD avec une capacité de 100 mm de diamètre extérieur

Accélérez vos recherches avec ce four tubulaire coulissant à 1200°C conçu pour le traitement thermique rapide et les applications CVD. Doté d'un contrôle PLC de haute précision et d'un rail coulissant motorisé pour des cycles de chauffage et de refroidissement ultra-rapides dans les laboratoires de science des matériaux avancés et de R&D industrielle.

Four à tube 1200°C avec glissement magnétique interne de l'échantillon pour dépôt par vaporisation directe et traitement thermique rapide

Four à tube 1200°C avec glissement magnétique interne de l'échantillon pour dépôt par vaporisation directe et traitement thermique rapide

Ce four à tube professionnel 1200°C est doté d'un mécanisme manuel de glissement magnétique d'échantillon spécialement conçu pour le dépôt par vaporisation directe et le traitement thermique rapide. Il assure un contrôle thermique précis et une croissance de matériau constante pour les applications exigeantes de recherche et de science des matériaux industriels.

Four tubulaire haute température 1700°C avec système de pompe turbomoléculaire à vide poussé et mélangeur de gaz à contrôleur de débit massique multicanal

Four tubulaire haute température 1700°C avec système de pompe turbomoléculaire à vide poussé et mélangeur de gaz à contrôleur de débit massique multicanal

Ce four tubulaire haute température 1700°C avancé intègre un système de pompe à vide poussé turbomoléculaire de précision et un mélangeur de gaz à contrôleur de débit massique multicanal, offrant des performances exceptionnelles pour la CVD sophistiquée, la diffusion et la recherche sur les matériaux dans des environnements de R&D industriels exigeants.

Four à tube 4 pouces haute température 1200°C avec bride coulissante pour systèmes CVD

Four à tube 4 pouces haute température 1200°C avec bride coulissante pour systèmes CVD

Ce four à tube 4 pouces haute température 1200°C est équipé de brides coulissantes pour un chargement rapide des échantillons et une compatibilité avec le vide poussé. Il est conçu pour les procédés CVD de précision et la recherche avancée sur les matériaux, offrant des performances exceptionnellement fiables dans des environnements de laboratoire exigeants.

Four tubulaire divisé haute température 1500°C pour la recherche sur les matériaux, le vide et le traitement thermique sous atmosphère

Four tubulaire divisé haute température 1500°C pour la recherche sur les matériaux, le vide et le traitement thermique sous atmosphère

Ce four tubulaire divisé haute température de 1500°C offre un traitement thermique de précision pour la recherche avancée sur les matériaux et les applications de frittage industriel, doté d'une construction à double enveloppe, d'un contrôle PID intégré et de brides en acier inoxydable prêtes pour le vide, garantissant des performances fiables dans les laboratoires exigeants.

Fours tubulaires rotatifs inclinables à haute température pour le frittage avancé des poudres et le traitement des matériaux

Fours tubulaires rotatifs inclinables à haute température pour le frittage avancé des poudres et le traitement des matériaux

Fours tubulaires rotatifs inclinables avancés à haute température conçus pour le frittage uniforme des poudres et le traitement des matériaux. Doté d’une rotation dynamique, d’un contrôle PID de précision et d’une inclinaison automatisée, ce système professionnel garantit un traitement thermique homogène pour les applications industrielles exigeantes et les laboratoires de R&D en sciences des matériaux.

Four tubulaire rotatif à double zone haute température 1500°C avec chauffage au carbure de silicium pour la synthèse de matériaux avancés

Four tubulaire rotatif à double zone haute température 1500°C avec chauffage au carbure de silicium pour la synthèse de matériaux avancés

Optimisez vos processus thermiques avec ce four tubulaire rotatif à double zone de haute précision. Doté d'une température maximale de 1500°C et d'éléments chauffants avancés en SiC, il garantit des résultats uniformes pour la R&D industrielle, le dépôt chimique en phase vapeur et les applications sophistiquées en science des matériaux dans les laboratoires du monde entier.

Four tubulaire vertical divisé haute température 1700°C pour la trempe des matériaux et la croissance de monocristaux

Four tubulaire vertical divisé haute température 1700°C pour la trempe des matériaux et la croissance de monocristaux

Ce four tubulaire vertical divisé haute température 1700°C offre un traitement thermique de précision pour la trempe des matériaux et la croissance de monocristaux. Conçu pour l'excellence en R&D, le système est compatible avec le vide et dispose d'un contrôle PID pour des résultats fiables et reproductibles dans les environnements exigeants des laboratoires de recherche industrielle.

Four tubulaire rotatif basculant à haute température avec contrôle de débit massique intégré et chauffage multizone

Four tubulaire rotatif basculant à haute température avec contrôle de débit massique intégré et chauffage multizone

Ce four tubulaire rotatif basculant haute performance permet un traitement continu des matériaux avec un contrôle précis de la température et une intégration de gaz multicanaux. Conçu pour la R&D industrielle, il garantit un traitement thermique uniforme pour la synthèse de matériaux avancés et les applications d'essais métallurgiques à grande échelle.

Four tubulaire rotatif haute température avec broyage à billes intégré et fonction de flux de gaz pour la nitruration des poudres

Four tubulaire rotatif haute température avec broyage à billes intégré et fonction de flux de gaz pour la nitruration des poudres

Ce four tubulaire rotatif avancé de 1100°C intègre un broyage à billes haute température avec un flux de gaz contrôlé pour une nitruration précise des poudres. Idéal pour la R&D en science des matériaux, il offre un chauffage à double zone, des joints à fluide magnétique et un contrôle PID programmable pour une synthèse et une catalyse des matériaux supérieures.

Four tubulaire 1100°C avec bride à vide et contrôleur de température programmable pour la science des matériaux et le traitement thermique industriel

Four tubulaire 1100°C avec bride à vide et contrôleur de température programmable pour la science des matériaux et le traitement thermique industriel

Optimisez vos traitements thermiques en laboratoire avec ce four tubulaire polyvalent de 1100°C, doté d'un contrôleur PID programmable et de brides à vide poussé. Conçu pour la synthèse précise de matériaux et la R&D industrielle, il offre une flexibilité d'orientation double et une uniformité de température constante pour les applications exigeantes.

Four tubulaire à traitement thermique rapide (RTP) à chauffage infrarouge à deux zones avec tube en quartz de 4 pouces de diamètre intérieur et porte-échantillons coulissants

Four tubulaire à traitement thermique rapide (RTP) à chauffage infrarouge à deux zones avec tube en quartz de 4 pouces de diamètre intérieur et porte-échantillons coulissants

Four tubulaire RTP à chauffage infrarouge à deux zones haute performance, doté d'un tube en quartz de 4 pouces de diamètre intérieur et de deux porte-échantillons coulissants. Atteignez des vitesses de chauffage de 50°C/s pour la synthèse avancée de matériaux 2D, la recherche sur les supraconducteurs et les processus de dépôt en phase vapeur à haute vitesse de précision.

Four de laboratoire tubulaire de paillasse haute température 1700C avec zone de chauffage de 5 pouces, tube en alumine de haute pureté et brides d’étanchéité sous vide

Four de laboratoire tubulaire de paillasse haute température 1700C avec zone de chauffage de 5 pouces, tube en alumine de haute pureté et brides d’étanchéité sous vide

Ce four tubulaire haute température 1700C offre une zone de chauffage de cinq pouces et un tube en alumine pour la recherche avancée sur les matériaux. Obtenez un contrôle précis de l’atmosphère et des niveaux de vide jusqu’à 50 mTorr pour le frittage, le recuit et le dépôt chimique en phase vapeur.

Four tubulaire à trois zones 1200°C, diamètre extérieur max 6 pouces, avec tube et bride

Four tubulaire à trois zones 1200°C, diamètre extérieur max 6 pouces, avec tube et bride

Optimisez vos traitements thermiques avec ce four tubulaire à trois zones de 1200°C, doté d'une capacité de 6 pouces de diamètre extérieur et d'un contrôle par écran tactile avancé. Ce système de haute précision garantit une distribution uniforme de la température pour la recherche avancée sur les matériaux, le recuit de semi-conducteurs et les applications de traitement thermique industriel.