Four tubulaire
Four de traitement thermique rapide (RTP) 1100°C à chargement par le bas avec atmosphère contrôlée pour le recuit de plaquettes et la recherche en catalyse
Numéro d'article: TU-C30
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Présentation du produit
Ce système de traitement thermique haute performance est conçu pour les applications de traitement thermique rapide (RTP) nécessitant des gradients de température extrêmes et une gestion précise de l'atmosphère. En utilisant la technologie infrarouge à ondes courtes et une configuration automatisée à chargement par le bas, l'unité offre une plateforme polyvalente pour la recherche avancée sur les matériaux, en particulier là où des cycles de chauffage et de refroidissement rapides sont essentiels pour maintenir l'intégrité de la microstructure et obtenir des transformations de phase uniques. La conception à chargement par le bas garantit une manipulation facile des échantillons et une perturbation thermique minimale de la zone de chauffage pendant les cycles de chargement et de déchargement.
Les secteurs cibles comprennent la fabrication de semi-conducteurs, la recherche en science des matériaux et le développement de catalyseurs. L'équipement excelle dans les environnements où le haut débit est essentiel, offrant une intégration transparente avec des systèmes de manipulation robotisés pour un fonctionnement autonome. Cela garantit que les profils thermiques complexes sont exécutés avec une précision reproductible, réduisant l'erreur humaine et augmentant la productivité en laboratoire. Qu'il soit utilisé pour le recuit de plaquettes de silicium ou la synthèse de catalyseurs avancés, le système offre la flexibilité thermique requise pour l'innovation de pointe.
Construit avec des composants de qualité industrielle et une architecture de refroidissement à double couche, ce four garantit la stabilité lors de cycles de service exigeants. Sa conception robuste est complétée par un logiciel de contrôle sophistiqué, offrant la fiabilité requise pour les processus industriels sensibles et les projets de R&D à enjeux élevés. La combinaison d'une isolation en fibre d'alumine de haute pureté et d'un système de refroidissement par air efficace garantit que l'équipement reste un atout fiable dans tout laboratoire ou environnement de production pilote.
Caractéristiques principales
- Chauffage infrarouge ultra-rapide : Douze lampes infrarouges à ondes courtes assurent des taux de chauffage rapides allant jusqu'à 50°C/s, permettant un contrôle précis de la cinétique thermique pendant les processus de recuit rapide et minimisant la diffusion indésirable.
- Mécanisme de chargement par le bas automatisé : Le plateau porte-échantillon motorisé facilite un chargement et un déchargement fluides et sans vibrations, assurant la stabilité de l'échantillon et permettant une intégration sans effort avec l'automatisation externe et les bras robotisés.
- Contrôle avancé de l'atmosphère : Les régulateurs de débit massique intégrés et les jauges à vide de haute précision permettent une gestion stable de la micro-pression positive (103 000–120 000 Pa) et des séquences de purge de gaz complexes pour le frittage sous atmosphère protectrice.
- Régulation de température PID de précision : Un contrôleur programmable intelligent à 50 segments maintient la précision de la température à ±1°C, avec des mises à niveau optionnelles à ±0.1°C pour les exigences de laboratoire de très haute précision.
- Compatibilité robotique à haut débit : Le système est conçu pour communiquer avec des bras robotisés via des protocoles open-source et TCP/IP, prenant en charge un fonctionnement autonome continu et multi-unités pour une mise à l'échelle des processus.
- Gestion thermique efficace : Une conception de chambre à double couche dotée d'un système de refroidissement par air actif maintient la coque extérieure sûre au toucher tout en protégeant l'électronique interne pendant les cycles à haute température.
- Acquisition de données complète : Un logiciel dédié enregistre et affiche les données en temps réel de pression, de température et de débit de gaz, assurant une traçabilité complète et l'enregistrement des données pour le contrôle qualité et la documentation de recherche.
- Étanchéité de qualité industrielle : Le système de bride en acier inoxydable refroidi par eau préserve l'intégrité du vide et la pureté de l'atmosphère, garantissant des résultats constants même lors d'un fonctionnement à la température maximale de 1100°C.
- Plateau porte-échantillon polyvalent : Doté d'un tube en quartz de haute pureté et d'un plateau porte-échantillon personnalisable, l'équipement peut accueillir diverses tailles d'échantillons, y compris des plaquettes jusqu'à 6 pouces pour divers besoins de recherche.
Applications
| Application | Description | Avantage clé |
|---|---|---|
| Recuit de plaquettes semi-conductrices | Chauffage rapide de plaquettes de silicium ou de semi-conducteurs composés jusqu'à 6" pour activer les dopants ou réparer les dommages cristallins. | Budget thermique minimal et restauration précise du réseau cristallin. |
| Catalyse à atome unique | Traitement à haute température de matériaux précurseurs pour synthétiser et stabiliser des catalyseurs à atome unique sur divers substrats. | Uniformité exceptionnelle et contrôle des transformations à l'échelle atomique. |
| Frittage à haut débit | Utilisation de bras robotisés pour traiter plusieurs échantillons en succession rapide pour le criblage de bibliothèques de matériaux. | Réduction significative des temps de cycle et augmentation de la vitesse de recherche. |
| Cristallisation de couches minces | Traitement thermique rapide de couches minces fonctionnelles pour améliorer les propriétés électriques et optiques. | Croissance granulaire contrôlée et qualité de film supérieure. |
| Traitement thermique sous vide | Traitement de matériaux sensibles sous des niveaux de vide contrôlés (jusqu'à 10⁻⁴ Torr) pour éviter l'oxydation. | Environnement de haute pureté pour les matériaux sensibles à l'oxygène. |
| Évolution de phase des matériaux | Étude de la transformation rapide des matériaux sous des changements de température extrêmes. | Taux de chauffage et de refroidissement hautement reproductibles pour les études cinétiques. |
| Production pilote autonome | Intégration dans des lignes automatisées pour la production de composants électroniques spécialisés. | Réduction des coûts de main-d'œuvre et amélioration de la cohérence des processus. |
Spécifications techniques
| Caractéristique | Détails de la spécification (TU-C30) |
|---|---|
| Identifiant du modèle | TU-C30 |
| Alimentation électrique | Triphasé AC 208V, 50/60Hz |
| Puissance maximale | 18 kW |
| Température de fonctionnement maximale | 1100°C (≤ 30 minutes) |
| Température de fonctionnement à long terme | 1000°C |
| Élément chauffant | 12 lampes infrarouges à ondes courtes, 1,5 kW par lampe |
| Dimensions de la zone de chauffage | Φ210mm × 100mm |
| Taux de chauffage (TA à 900°C) | Recommandé : 10°C/s ; Maximum : 50°C/s |
| Taux de refroidissement (scellé) | 800°C à 350°C : 55°C/min ; 350°C à 200°C : 5°C/min |
| Taux de refroidissement (chambre ouverte) | 800°C à 350°C : 200°C/min ; 350°C à 50°C : 35°C/min |
| Contrôle de la température | Contrôle automatique PID, programmable sur 50 segments |
| Précision de la température | ±1°C (Mise à niveau Eurotherm optionnelle : ±0.1°C) |
| Type de thermocouple | Type K |
| Intégrité du vide | 10⁻² Torr (pompe mécanique) à 10⁻⁴ Torr (pompe moléculaire) |
| Matériau de la chambre | Isolation en fibre d'alumine de haute pureté |
| Matériau du tube | Tube en quartz de haute pureté Φ200mm |
| Plateau porte-échantillon | Φ105mm avec évidement de 76×58mm (personnalisable) |
| Régulateur de débit massique (MFC) | Plage : 0-5000 sccm |
| Contrôle de l'atmosphère | Micro-pression positive (103 000–120 000 Pa) |
| Interface et données | Communication PC DB9, TCP/IP, Modbus, sans fil |
| Capacités logicielles | Contrôle à distance du vide, du débit de gaz et des cycles thermiques ; prise en charge multi-unités |
| Système robotique optionnel | Charge utile 5kg, portée 1096mm, répétabilité ±0.02mm |
| Refroidisseur d'eau (optionnel) | Capacité de refroidissement 51880 BTU/h ; alimentation triphasée |
Pourquoi choisir le TU-C30
- Performances thermiques inégalées : La combinaison d'un chauffage infrarouge à ondes courtes de 18kW et d'un contrôle PID avancé permet à l'équipement d'atteindre des taux de chauffage dépassant ceux des fours à résistance traditionnels d'un ordre de grandeur, ce qui le rend idéal pour la science des matériaux moderne.
- Conçu pour l'automatisation : Conçu spécifiquement pour les environnements à haut débit, ce système est l'un des rares de sa catégorie à offrir une prise en charge native de l'intégration de bras robotisés et du contrôle PC multi-unités, réduisant considérablement l'intervention manuelle.
- Qualité de fabrication supérieure : Des brides en acier inoxydable refroidies par eau aux composants internes en quartz de haute pureté, chaque aspect de cette unité est conçu pour une durabilité à long terme et la préservation d'environnements de traitement de haute pureté.
- Traçabilité des processus : Notre suite logicielle complète fournit des enregistrements numériques complets de chaque cycle de chauffage, changement de pression et ajustement du débit de gaz, répondant aux exigences les plus strictes en matière d'assurance qualité industrielle et de vérification de la recherche.
- Personnalisation flexible : Que vous ayez besoin de niveaux de vide spécifiques, de plateaux porte-échantillons spécialisés ou de configurations de gestion de gaz personnalisées, notre équipe d'ingénieurs peut adapter le système pour répondre à vos exigences techniques exactes.
Contactez notre équipe de vente technique dès aujourd'hui pour obtenir un devis complet ou pour discuter de la manière dont nous pouvons personnaliser ce système de traitement thermique rapide pour vos besoins spécifiques de recherche et de production.
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